[發(fā)明專利]一種二硫化鉬-氧化鋅量子點混合場效應光晶體管及其制造方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201310580576.5 | 申請日: | 2013-11-19 |
| 公開(公告)號: | CN103681940A | 公開(公告)日: | 2014-03-26 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 林時勝;李文淵;張金石 | 申請(專利權(quán))人: | 浙江大學 |
| 主分類號: | H01L31/113 | 分類號: | H01L31/113;H01L31/0352;H01L31/0296;H01L31/18 |
| 代理公司: | 杭州求是專利事務(wù)所有限公司 33200 | 代理人: | 韓介梅 |
| 地址: | 310027 浙*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 二硫化鉬 氧化鋅 量子 混合 場效應 晶體管 及其 制造 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種場效應光晶體管及其制造方法,尤其是二硫化鉬-氧化鋅量子點混合場效應光晶體管及其制造方法。
背景技術(shù)
光晶體管是由雙極型晶體管或場效應晶體管等三端器件構(gòu)成的光電器件。光在這類器件的有源區(qū)內(nèi)被吸收,產(chǎn)生光生載流子,通過內(nèi)部電放大機構(gòu),產(chǎn)生光電流增益,光晶體管三端工作,故容易實現(xiàn)電控或電同步。光晶體管所用材料通常是砷化鎵(CaAs),主要分為雙極型光晶體管、場效應光晶體管及其相關(guān)器件。雙極型光晶體管通常增益很高,對于GaAs-GaAlAs,放大系數(shù)可大于1000,響應時間大于納秒,常用于光探測器,也可用于光放大。場效應光晶體管響應速度快(約為50皮秒),常用作極高速光探測器。與此相關(guān)還有許多其他平面型光電器件,其特點均是速度快(響應時間幾十皮秒)、適于集成。
目前,在光探測領(lǐng)域最新的研究成果是基于量子點調(diào)控的光晶體管。這種光晶體管可以提供比較高的光增益,并且有比較小的暗電流。據(jù)報道,有鋁摻雜的氧化鋅(AZO)和PbS量子點的光晶體管混合結(jié)構(gòu)對紅外光的吸收強烈,可以用于紅外波段光電探測器的制作;基于石墨烯-PbS量子點混合而得到的光電MOS管,具有108電子/光子的量子效率和107A/W的高靈敏度,最低可探測10-15?W的光強;而單壁碳納米管與量子點的混合光晶體管結(jié)構(gòu)增強了光的斯塔效應。對量子點混合結(jié)構(gòu)光晶體管的研究具有重要意義。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是為光探測領(lǐng)域提供一種使用半導體材料二硫化鉬而構(gòu)建的二硫化鉬-氧化鋅量子點混合場效應晶體管其制造方法,為場效應光晶體管提供一種新品種。
本發(fā)明的二硫化鉬-氧化鋅量子點混合場效應光晶體管,自下而上依次有Si層和SiO2層的Si/SiO2復合晶片、n層二硫化鉬層,n=1-4、兩塊在同一水平面上彼此相隔的金電極、在兩塊金電極之間有ZnO量子點層,ZnO量子點層中的ZnO量子點的直徑為3-8nm。
通常,Si/SiO2復合晶片的SiO2層的厚度為30-300nm,Si層厚度為200μm。ZnO量子點層的厚度為10-500nm。
本發(fā)明的二硫化鉬-氧化鋅量子點混合場效應光晶體管的制造方法,包括如下步驟:
1)使用微機械力方法,用膠帶從二硫化鉬晶體上剝離n層二硫化鉬,n=1-4,再將二硫化鉬黏貼到清洗干凈的Si/SiO2復合晶片的SiO2層上;
2)在二硫化鉬層上旋涂質(zhì)量濃度1%-10%的聚甲基丙烯酸甲酯,采用電子束曝光法在聚甲基丙烯酸甲酯涂層上刻蝕出金電極圖形;
3)采用電子束蒸發(fā)方法,在刻蝕的金電極圖形上依次沉積5nmNi和20-100nmAu,作為場效應光晶體管的源極和漏極;
4)將4.83g?ZnSO4溶于去離子水中,配成濃度為0.12mol/L的ZnSO4水溶液;然后加入0.8-1.2g十二烷基苯磺酸鈉和0.8-1.2ml正己烷配置成混合溶液,把配制的混合溶液放置超聲器中,在超聲狀態(tài)下將濃度為10%的氨水滴入上述混合溶液中,直到溶液中的Zn離子完全沉淀下來,過濾,依次用去離子水和乙醇清洗,取沉淀,烘干,然后在700℃下加熱3小時,自然冷卻至常溫,將所得產(chǎn)物溶于水中,得到分散有ZnO量子點的水溶液;
5)采用旋涂的方法將步驟4)制得的ZnO量子點溶液涂覆到二塊金電極之間的二硫化鉬層上,得到二硫化鉬-氧化鋅量子點混合場效應光晶體管。
本發(fā)明制備過程中,清洗Si/SiO2復合晶片可以是先依次用去離子水、丙酮和異丙醇清洗,然后再用O2:Ar=1:1的混合等離子氣體清洗。
上述步驟2)的電子束曝光刻蝕的曝光時間為1-2s、顯影時間40s-1min。步驟3)的電子束蒸發(fā)過程中,氣壓控制在5×10-3Pa以下。
二硫化鉬具有二維晶體結(jié)構(gòu),表面平整,是一種類似于石墨烯結(jié)構(gòu)的半導體,其禁帶寬度為1.87eV。利用二硫化鉬和ZnO量子點混合,可以制造出二硫化鉬-氧化鋅量子點混合場效應晶體管結(jié)構(gòu)。
本發(fā)明的二硫化鉬-氧化鋅量子點混合場效應光晶體管中二硫化鉬層受到Si背柵電極的調(diào)控,利用光致激發(fā)ZnO量子點構(gòu)建成場效應晶體管。本發(fā)明為場效應光晶體管提供了一種新品種。
附圖說明
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉(zhuǎn)換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內(nèi)或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發(fā)光光源在結(jié)構(gòu)上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





