[發明專利]X射線成像設備和控制所述設備的方法無效
| 申請號: | 201310573610.6 | 申請日: | 2013-11-15 |
| 公開(公告)號: | CN103908273A | 公開(公告)日: | 2014-07-09 |
| 發明(設計)人: | 金圣洙;吳炫和;姜東求;姜聲訓;成映勛;李剛儀;韓錫旼 | 申請(專利權)人: | 三星電子株式會社 |
| 主分類號: | A61B6/00 | 分類號: | A61B6/00 |
| 代理公司: | 北京銘碩知識產權代理有限公司 11286 | 代理人: | 王秀君;薛義丹 |
| 地址: | 韓國京畿*** | 國省代碼: | 韓國;KR |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 射線 成像 設備 控制 方法 | ||
1.一種X射線成像設備,包括:
X射線產生器,產生和發射X射線;
X射線檢測器,檢測發射的X射線并獲得X射線數據;
控制器,將通過X射線檢測器檢測X射線獲得的測量數據和通過仿真獲得的參考數據轉換為作為預定空間上的坐標的X射線特性坐標,并從參考數據和測量數據之間的關系估計X射線檢測器的響應特性函數,其中,所述測量數據和參考數據被轉換為X射線特性坐標。
2.如權利要求1所述的X射線成像設備,其中,測量數據包括通過執行以下操作獲得的X射線數據,以下操作包括:將影響X射線檢測器的響應特性的響應特性參數設置為預定義的值,通過X射線產生器將X射線放射到X射線模型,以及通過X射線檢測器檢測穿過了X射線模型的X射線。
3.如權利要求1所述的X射線成像設備,其中,參考數據包括使用與在獲得測量數據期間設置的響應特性參數相同的響應特性參數通過仿真而獲得的X射線數據。
4.如權利要求3所述的X射線成像設備,其中,響應特性參數被設置為不同的值,并且測量數據和參考數據被獲得多次。
5.如權利要求3所述的X射線成像設備,其中,響應特性參數包括X射線產生器的管電壓、在X射線檢測器的檢測單元的兩端之間施加的電壓和由X射線產生器發射的X射線的光譜長度中的至少一個。
6.如權利要求1所述的X射線成像設備,其中,控制器使用估計的響應特性函數校正關于目標對象的X射線數據。
7.如權利要求6所述的X射線成像設備,其中,控制器將關于目標對象的X射線數據轉換為X射線特性坐標,并使用估計的響應特性函數校正X射線特性坐標。
8.如權利要求7所述的X射線成像設備,其中,控制器從估計的響應特性函數計算響應特性逆函數,并將響應特性逆函數應用于轉換的X射線特性坐標。
9.如權利要求8所述的X射線成像設備,其中,控制器將校正的X射線特性坐標逆轉換為X射線數據,并使用X射線數據產生X射線圖像。
10.一種控制X射線成像設備的方法,所述方法包括:
在相同的響應特性參數條件下獲得測量數據和參考數據;
將測量數據和參考數據中的每一個轉換為作為預定空間上的坐標的X射線特性坐標;
從測量數據和參考數據之間的關系估計X射線檢測器的響應特性函數,其中,所述測量數據和參考數據被轉換為X射線特性坐標。
11.如權利要求10所述的方法,其中,獲得測量數據和參考數據的操作包括:
將響應特性參數設置為特定值并將X射線放射到X射線模型;
檢測穿過了X射線模型的X射線以獲得X射線數據。
12.如權利要求11所述的方法,其中,獲得測量數據和參考數據的操作包括:將響應特性參數設置為不同的值并獲得測量數據多次。
13.如權利要求11所述的方法,其中,獲得測量數據和參考數據的操作包括:使用與在獲得測量數據期間設置的響應特性參數相同的響應特性參數通過仿真來獲得X射線數據。
14.如權利要求11所述的方法,其中,響應特性參數包括X射線產生器的管電壓、在X射線檢測器的檢測單元的兩端之間施加的電壓和由X射線產生器發射的X射線的光譜長度中的至少一個。
15.如權利要求10所述的方法,還包括:使用估計的響應特性函數校正關于目標對象的X射線數據。
16.如權利要求15所述的方法,其中,校正X射線數據的操作包括:獲得關于目標對象的X射線數據并將X射線數據轉換為X射線特性坐標。
17.如權利要求16所述的方法,其中,校正X射線數據的操作包括:計算作為估計的響應特性函數的逆函數的響應特性逆函數。
18.如權利要求17所述的方法,其中,校正X射線數據的操作包括:將響應特性逆函數應用于從X射線數據轉換的X射線特性坐標。
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