[發(fā)明專利]一種用于研磨拋光的研磨液無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201310568471.8 | 申請日： | 2013-11-15 |
| 公開（公告）號： | CN103555207A | 公開（公告）日： | 2014-02-05 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 李東 | 申請（專利權(quán)）人： | 北京華進(jìn)創(chuàng)威電子有限公司 |
| 主分類號： | C09G1/02 | 分類號： | C09G1/02;C09K3/14 |
| 代理公司： | 北京中創(chuàng)陽光知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11003 | 代理人： | 尹振啟 |
| 地址： | 100023 北京市大*** | 國省代碼： | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 用于 研磨 拋光 | ||
【權(quán)利要求書】：
1.用于研磨拋光的研磨液，其特征在于，該研磨液的組分包括研磨微粉、高純水和懸浮劑，按重量計(jì)，其中研磨微粉含量為30-33，高純水含量為2500-2600，懸浮劑含量為100-110。
2.如權(quán)利要求1所述的用于研磨拋光的研磨液，其特征在于，所述研磨微粉為微米級顆粒。
3.如權(quán)利要求1所述的用于研磨拋光的研磨液，其特征在于，所述研磨微粉為若干種微粉材料配制而成。
4.如權(quán)利要求2所述的用于研磨拋光的研磨液，其特征在于，所述研磨微粉為金剛石微粉。
5.如權(quán)利要求1所述的用于研磨拋光的研磨液，其特征在于，所述高純水的電子級范圍大于16mΩ。
6.如權(quán)利要求1所述的用于研磨拋光的研磨液，其特征在于，所述懸浮劑為AQ?TTV研磨懸浮分散劑。
7.如權(quán)利要求1所述的用于研磨拋光的研磨液，其特征在于，所述金剛石微粉含量為30，高純水為2500，懸浮劑為100。
下載完整專利技術(shù)內(nèi)容需要扣除積分，VIP會員可以免費(fèi)下載。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息，商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于北京華進(jìn)創(chuàng)威電子有限公司，未經(jīng)北京華進(jìn)創(chuàng)威電子有限公司許可，擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作，請聯(lián)系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201310568471.8/1.html，轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
