[發明專利]多接觸孔的形成方法

無效

• 申請號: 201310566696.X
• 申請日: 2013-11-13
• 公開（公告）號: CN103560109A
• 公開（公告）日: 2014-02-05
• 發明（設計）人: 朱科奇
• 申請（專利權）人: 寧波市鄞州科啟動漫工業技術有限公司
• 主分類號: H01L21/768
• 分類號: H01L21/768;H01L21/311
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種多接觸孔的形成方法，其特征在于：

?????該方法包含有一形成于基板（100）上的下層（200），下層（200）可包括第二硬模層（230）、一下硬模層（220），一設備層（210），或它們的組合，設備層（210）可由任何合適的材料制成；

?????第二硬模層（230）可由任何合適的硬掩模材料組成，第二硬模層（230）由與第一硬模層（300）的材料不同的材料組成，且第二硬模層（230）可具有任何合適的厚度；

?第一硬模層（300）上形成有包含至少一個第一特征（402）和至少一個第二特征（403）的多個間隔開的特征層（401）。

2.根據權利要求1所述的一種多接觸孔的形成方法，其特征在于：特征層（401）上形成有第一隔離層（500），其由與特征層（401）的材料不同的材料組成。

3.根據權利要求2所述的一種多接觸孔的形成方法，其特征在于：第一隔離層（500）可被蝕刻形成第一間隔圖案（502）。

4.根據權利要求3所述的一種多接觸孔的形成方法，其特征在于：第一間隔圖案（502）顯呈現為多個間隔件殼，其限定了第一壁（510）和與之相對的第二壁（511）。

5.根據權利要求1所述的一種多接觸孔的形成方法，其特征在于：該方法中可形成有一蓋掩模（602），蓋掩模（602）可包括至少一個間隔開的蓋掩模材料的第一帶狀部分（603）和第二帶狀部分（604），還包括有形成在下層上的蓋掩模材料的第三帶狀部分（605）和形成在下層之上的蓋掩模材料的第四帶狀部分（606）。

6.根據權利要求1所述的一種多接觸孔的形成方法，其特征在于：第一硬模層（300）被蝕刻的暴露部分形成多個接觸孔（303）。

7.根據權利要求5所述的一種多接觸孔的形成方法，其特征在于：蓋掩模（602）可包括有條帶狀部分（607）、條帶狀部分二（608）、條帶狀部分三（609）。