[發(fā)明專利]具有場(chǎng)電極的晶體管器件有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201310556439.8 | 申請(qǐng)日: | 2013-09-18 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN103681867A | 公開(kāi)(公告)日: | 2014-03-26 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | F·希爾勒;A·毛德 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 英飛凌科技奧地利有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L29/78 | 分類號(hào): | H01L29/78;H01L29/08;H01L29/10 |
| 代理公司: | 中國(guó)專利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 馬紅梅;馬永利 |
| 地址: | 奧地利*** | 國(guó)省代碼: | 奧地利;AT |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說(shuō)明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 具有 電極 晶體管 器件 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明實(shí)施例涉及一種晶體管器件,尤其是一種具有場(chǎng)電極的晶體管器件。
背景技術(shù)
功率晶體管器件(諸如功率MOS晶體管)包括漂移區(qū)以及處于漂移區(qū)和體區(qū)之間的p-n結(jié)。漂移區(qū)的摻雜濃度低于體區(qū)的摻雜濃度,從而在器件阻斷時(shí),即在p-n結(jié)反向偏置時(shí),耗盡區(qū)(空間電荷區(qū))主要在漂移區(qū)中擴(kuò)張。
器件的電流流動(dòng)方向上漂移區(qū)的長(zhǎng)度以及漂移區(qū)的摻雜濃度主要限定半導(dǎo)體器件的電壓阻斷能力。在單極器件(諸如功率MOSFET)中,漂移區(qū)的摻雜濃度還限定了器件的接通電阻。接通電阻是半導(dǎo)體器件處于接通狀態(tài)時(shí)的電阻。
當(dāng)p-n結(jié)反向偏置時(shí),在p-n結(jié)兩側(cè)上電離摻雜劑原子,導(dǎo)致與電場(chǎng)相關(guān)聯(lián)的空間電荷區(qū)。電場(chǎng)的場(chǎng)強(qiáng)的量值的積分與反向偏置p-n結(jié)的電壓相對(duì)應(yīng),其中,電場(chǎng)的最大值位于p-n結(jié)處。當(dāng)電場(chǎng)的最大值達(dá)到臨界場(chǎng)強(qiáng)時(shí),發(fā)生雪崩擊穿,該臨界場(chǎng)強(qiáng)依賴于用于實(shí)現(xiàn)漂移區(qū)的半導(dǎo)體材料類型。
當(dāng)在漂移區(qū)中提供在p-n結(jié)反向偏置時(shí)、即在耗盡區(qū)在漂移區(qū)中擴(kuò)張時(shí)可充當(dāng)漂移區(qū)中電離摻雜劑原子的反電荷的電荷時(shí),在不降低器件的電壓阻斷能力的情況下,可以增加漂移區(qū)的摻雜濃度。可以在漂移區(qū)中提供場(chǎng)電極或場(chǎng)板且通過(guò)場(chǎng)電極電介質(zhì)將該場(chǎng)電極或場(chǎng)板與漂移區(qū)介電絕緣。這些場(chǎng)電極可以提供所需的反電荷。這些場(chǎng)電極可以電連接至固定電勢(shì),諸如MOS晶體管中的柵極或源極電勢(shì)。
具有場(chǎng)電極和場(chǎng)電極電介質(zhì)的場(chǎng)電極結(jié)構(gòu)形成電容性結(jié)構(gòu),當(dāng)場(chǎng)電極與源極電勢(shì)連接時(shí),該電容性結(jié)構(gòu)形成MOS晶體管的漏-源電容的一部分。由場(chǎng)電極結(jié)構(gòu)形成的電容性結(jié)構(gòu)具有下述電容:其依賴于晶體管的負(fù)載端子(漏和源端子)之間的負(fù)載電壓,且隨著負(fù)載電壓的增加而減小。在操作時(shí),當(dāng)晶體管從接通狀態(tài)切換到關(guān)斷狀態(tài)時(shí),晶體管的負(fù)載電壓增加。處于關(guān)斷狀態(tài)的減小的漏-源電容降低了晶體管器件吸收電壓尖峰的能力。這些電壓尖峰尤其可能發(fā)生在晶體管從接通狀態(tài)切換到關(guān)斷狀態(tài)時(shí),且可能由連接至晶體管器件的負(fù)載和/或寄生器件引起。
發(fā)明內(nèi)容
第一實(shí)施例涉及一種晶體管器件。該晶體管器件包括半導(dǎo)體主體。半導(dǎo)體主體包括源區(qū)、漂移區(qū)、以及處于源區(qū)和漂移區(qū)之間的體區(qū)。晶體管器件進(jìn)一步包括:源電極,與源區(qū)電耦合;柵電極,靠近體區(qū)且通過(guò)柵極電介質(zhì)與體區(qū)介電絕緣;場(chǎng)電極,靠近漂移區(qū),通過(guò)場(chǎng)電極電介質(zhì)與漂移區(qū)介電絕緣且電耦合到柵電極和源電極之一;以及整流元件,將場(chǎng)電極與柵電極和源電極之一電耦合。
在閱讀下面的詳細(xì)描述以及查看附圖后,本領(lǐng)域技術(shù)人員將認(rèn)識(shí)到附加特征和優(yōu)點(diǎn)。
附圖說(shuō)明
現(xiàn)在將參考附圖來(lái)解釋示例。附圖用于示出基本原理,從而僅示出理解基本原理所必需的方面。附圖不是按比例繪制的。在附圖中,相同的附圖標(biāo)記表示類似特征。
圖1示出了根據(jù)第一實(shí)施例的具有場(chǎng)電極和整流元件的晶體管器件的垂直橫截面圖。
圖2示出了晶體管器件作為用于切換負(fù)載的開(kāi)關(guān)的使用;
圖3示出了根據(jù)第一實(shí)施例的場(chǎng)電極的垂直橫截面圖;
圖4示出了半導(dǎo)體器件的頂視圖;
圖5示出了集成在晶體管器件的半導(dǎo)體主體中的整流元件的第一實(shí)施例;
圖6示出了整流元件的第二實(shí)施例;
圖7示出了集成在晶體管器件的半導(dǎo)體主體中的電阻元件的第一實(shí)施例;
圖8示出了電阻元件的第二實(shí)施例;
圖9示出了圖5或6以及圖7或8各自的整流元件和電阻元件的頂視圖;
圖10示出了集成在晶體管器件的半導(dǎo)體主體中的整流元件的另外的實(shí)施例;
圖11,包括圖11A至11F,示出了用于生產(chǎn)圖10的場(chǎng)電極的方法;
圖12示出了根據(jù)另外的實(shí)施例的具有場(chǎng)電極和整流元件的晶體管器件的垂直橫截面圖;以及
圖13示出了根據(jù)另外的實(shí)施例的具有場(chǎng)電極和整流元件的晶體管器件的垂直橫截面圖。
具體實(shí)施方式
在下面的詳細(xì)描述中,對(duì)附圖進(jìn)行了參考,附圖形成該詳細(xì)描述的一部分,且在附圖中,通過(guò)圖示的方式示出了可實(shí)施本發(fā)明的特定實(shí)施例。
圖1示出了根據(jù)第一實(shí)施例的晶體管器件1的垂直橫截面圖。晶體管器件1包括具有第一表面101的半導(dǎo)體主體100,以及在半導(dǎo)體主體100中,包括漂移區(qū)11、源區(qū)13以及處于源區(qū)13和漂移區(qū)11之間的體區(qū)12。柵電極21靠近體區(qū)12且通過(guò)柵極電介質(zhì)22與體區(qū)12介電絕緣。源區(qū)13和體區(qū)12與源電極41電連接。源電極41形成源極端子S或者與晶體管器件1的源極端子S電連接。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于英飛凌科技奧地利有限公司,未經(jīng)英飛凌科技奧地利有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201310556439.8/2.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:新型抽紙盒
- 下一篇:一種微型防拆電子標(biāo)簽
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L29-00 專門適用于整流、放大、振蕩或切換,并具有至少一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或表面勢(shì)壘的半導(dǎo)體器件;具有至少一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或表面勢(shì)壘,例如PN結(jié)耗盡層或載流子集結(jié)層的電容器或電阻器;半導(dǎo)體本體或其電極的零部件
H01L29-02 .按其半導(dǎo)體本體的特征區(qū)分的
H01L29-40 .按其電極特征區(qū)分的
H01L29-66 .按半導(dǎo)體器件的類型區(qū)分的
H01L29-68 ..只能通過(guò)對(duì)一個(gè)不通有待整流、放大或切換的電流的電極供給電流或施加電位方可進(jìn)行控制的
H01L29-82 ..通過(guò)施加于器件的磁場(chǎng)變化可控的





