[發明專利]可變溫度幕狀顯影裝置

在審

• 申請號: 201310554878.5
• 申請日: 2013-11-07
• 公開（公告）號: CN104635436A
• 公開（公告）日: 2015-05-20
• 發明（設計）人: 魏猛;胡延兵
• 申請（專利權）人: 沈陽芯源微電子設備有限公司
• 主分類號: G03F7/30
• 分類號: G03F7/30
• 代理公司: 沈陽科苑專利商標代理有限公司 21002
• 代理人: 何麗英

技術領域

本發明屬于在半導體晶片上獲得光刻膠圖形的顯影處理的設備，具體地說是一種可變溫度幕狀顯影裝置。

背景技術

目前，公知的顯影單元主要由顯影臂、頂部清洗臂、保護杯、排液室、離心機部分等組成的。顯影臂上固定顯影噴嘴通過驅動來到wafer(以下稱為晶片)上進行顯影，頂部清洗臂上固定清洗噴嘴通過驅動到晶片上進行清洗。顯影時，由于工藝要求，顯影液要求穩定在某一溫度點，在以往的生產中我們是靠在顯影管路中加裝一套復雜的熱交換系統來實現。顯影液噴涂于晶圓表面，液面要將晶圓浸泡其中。要完成上述功能，必需同時購買一套溫控單元和一套熱交換單元，成本高，體積大，放置時占地面積多，而且控制顯影噴嘴的管線復雜，對維護的要求很高，問題一旦出現查找維修很不方便。大多顯影為浸泡式顯影，而大多數顯影噴嘴要達到晶圓有效面積的浸泡，都需要大量的顯影液和浪費很長的一段時間，既不經濟產能方面也難以提高。

發明內容

針對上述問題，本發明的目的在于提供一種可變溫度幕狀顯影裝置。將本裝置安放在顯影單元中，使復雜的顯影溫控系統變成簡單實用，幕狀噴液可快速無死區的將顯影液覆蓋晶圓表面。

為了實現上述目的，本發明采用以下技術方案：

一種可變溫度幕狀顯影裝置，包括幕狀噴嘴、半導體溫控模塊、循環水散熱片、溫度傳感器及溫控器，其中半導體溫控模塊設置于幕狀噴嘴的外側、并與設置于幕狀噴嘴外部的溫控器連接，所述循環水散熱片設置于半導體溫控模塊上，所述溫度傳感器設置于幕狀噴嘴的內部、并與溫控器連接。

所述幕狀噴嘴包括噴嘴本體和噴嘴蓋，其中噴嘴蓋設置于噴嘴本體的上方，所述噴嘴本體和噴嘴蓋之間設有形成幕狀噴灑的斷面結構和噴嘴口，所述噴嘴口與斷面結構連通，所述噴嘴蓋上設有與所述斷面結構連通的進水接頭。

所述斷面結構包括水槽和溢流部分，其中水槽設置于噴嘴本體的上表面上、并與噴嘴蓋上的進水接頭連通，所述噴嘴本體的上表面一側設有一斜坡，該斜坡與所述噴嘴蓋之間留有縫隙，形成所述溢流部分，所述溢流部分的兩端分別與水槽和所述噴嘴口連通。

所述水槽內設有隔水擋板，所述隔水擋板將水槽分割成兩個腔室，其中與噴嘴蓋上的進水接頭連通的腔室為進水緩沖部分，另一個腔室為蓄水部分，所述隔水擋板的底部設有將進水緩沖部分和蓄水部分連通的導通結構。

所述水槽為U型槽。所述噴嘴口為直線微口。所述噴嘴口所噴出的顯影液的有效噴灑寬度為大于或等于晶圓的直徑，顯影噴嘴的行走路徑為幕狀水幕與晶圓邊緣切線的垂直方向掃描行進，掃描范圍為大于晶圓的直徑。所述循環水散熱片的進水口和出水口設置于循環水散熱片的同一側。

本發明的優點及有益效果是：

1.本發明將傳統霧狀與柱狀旋涂方式加以改進。因為噴嘴與晶圓的接觸距離非常小所以在噴涂的過程中可將浪費的顯影液量調整為很小。本發明的噴嘴自身帶有半導體溫控模塊，不需要傳統的復雜溫控系統，在成本上節約巨大，模塊化的設計便于故障檢測與排除，可以節省很多維護過程和時間。

2.本發明中溫控單元位于噴嘴本體可以更精確的對顯影液溫度控制，滿足不斷提高的工藝要求，提高產品品質。

附圖說明

圖1為本發明的剖面結構示意圖；

圖2為圖1的仰視圖；

圖3為圖2中的局部放大圖；

圖4為本發明的主視圖；

圖5為圖4的俯視圖；

圖6為圖4的側視圖；

圖7為本發明幕狀噴嘴的結構示意圖。

其中：1為幕狀噴嘴，2為半導體溫度控制模塊，3為循環水散熱片，4為噴嘴口，5為進水口，6為出水口，7為進水接頭，101為噴嘴本體，102為噴嘴蓋，103為隔水擋板，105為進水緩沖部分，106為蓄水部分，107為溢流部分。

具體實施方式

下面結合附圖對本發明作進一步描述。