[發明專利]一種用于在Si片上沉積碳膜的設備無效

申請號：	201310549553.8	申請日：	2013-11-07
公開（公告）號：	CN103643216A	公開（公告）日：	2014-03-19
發明（設計）人：	陳路玉	申請（專利權）人：	中山市創科科研技術服務有限公司
主分類號：	C23C16/26	分類號：	C23C16/26;C23C16/50
代理公司：	中山市銘洋專利商標事務所(普通合伙) 44286	代理人：	吳劍鋒
地址：	528400 廣東省***	國省代碼：	廣東;44
權利要求書：	查看更多	說明書：	查看更多
摘要：
搜索關鍵詞：	一種用于 si 沉積設備
鉆瓜網技術展會專利詞庫專利權人專利榜在售專利公布日期熱門專利

【權利要求書】：

1.一種用于在Si片上沉積碳膜的設備，其特征在于：包括有放電管（1），在所述的放電管（1）內設有基片安裝座（2），在所述基片安裝座（2）內設有能加熱基片（3）的加熱器（4），在所述的放電管（1）上設有進氣管（5），在所述放電管（1）上設有用于與抽真空裝置連接的連接管（6），在所述放電管（1）外壁上套設有線圈（7），在所述的進氣管（5）上設有氣閥（8）。

2.根據權利要求1所述的一種用于在Si片上沉積碳膜的設備，其特征在于所述基片（3）垂直于放電管（1）的管軸方向。

3.根據權利要求1所述的一種用于在Si片上沉積碳膜的設備，其特征在于所述的基片安裝座（2）包括有沿放電管（1）的管軸方向設置的底座（21），在所述底座（21）端部上設有垂直于放電管（1）的管軸方向設置的垂直安裝座（22），所述基片（3）設置在所述垂直安裝座（22）上。

下載完整專利技術內容需要扣除積分，VIP會員可以免費下載。

免登錄下載普通用戶下載升級VIP會員，免費下載

該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于中山市創科科研技術服務有限公司，未經中山市創科科研技術服務有限公司許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】

本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201310549553.8/1.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。