[發(fā)明專(zhuān)利]薄膜蒸鍍用掩膜組件及其制造方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201310548317.4 | 申請(qǐng)日: | 2013-11-07 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN103820753B | 公開(kāi)(公告)日: | 2017-11-17 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 金容煥 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 三星顯示有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | C23C14/04 | 分類(lèi)號(hào): | C23C14/04;C23C14/24 |
| 代理公司: | 北京銘碩知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司11286 | 代理人: | 金光軍,金玉蘭 |
| 地址: | 韓國(guó)京畿*** | 國(guó)省代碼: | 暫無(wú)信息 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 薄膜 蒸鍍用掩膜 組件 及其 制造 方法 | ||
1.一種掩膜組件,其中包括:
形成開(kāi)口部的框架主體;
多個(gè)單位掩膜,在沿第一方向受到拉伸力的狀態(tài)下,多個(gè)所述單位掩膜的兩端部通過(guò)熔接而固定于所述框架主體;以及
端部拉伸單元,所述端部拉伸單元設(shè)置于所述框架主體,并且在所述多個(gè)單位掩膜中相鄰的兩個(gè)單位掩膜之間沿與所述第一方向垂直相交的第二方向移動(dòng)而用于沿所述第二方向拉伸所述單位掩膜的端部,
所述框架主體形成有用于設(shè)置所述端部拉伸單元的多個(gè)凹槽,
所述端部拉伸單元包括:
在所述凹槽的底面上與所述第二方向平行地形成的導(dǎo)軌;
結(jié)合于所述導(dǎo)軌而沿所述第二方向滑動(dòng)的移動(dòng)部件;
結(jié)合于所述移動(dòng)部件而控制所述移動(dòng)部件的移動(dòng)方向和移動(dòng)量的移動(dòng)控制部,
所述移動(dòng)控制部包括:
設(shè)置于所述移動(dòng)部件的側(cè)壁且具備齒條的齒條結(jié)合部;
具備與所述齒條嚙合的小齒輪的驅(qū)動(dòng)軸,
所述第一方向與所述單位掩膜的長(zhǎng)度方向一致,
所述第二方向與所述單位掩膜的寬度方向一致。
2.如權(quán)利要求1所述的掩膜組件,其中,在所述相鄰的兩個(gè)單位掩膜之間提供有一個(gè)所述端部拉伸單元。
3.如權(quán)利要求2所述的掩膜組件,其中,
所述單位掩膜的端部固定于所述多個(gè)凹槽之間的所述框架主體的表面。
4.如權(quán)利要求3所述的掩膜組件,其中,所述移動(dòng)部件的寬度形成為小于所述凹槽的寬度,
所述移動(dòng)部件的表面維持與所述框架主體的表面相同的高度。
5.如權(quán)利要求3所述的掩膜組件,其中,所述移動(dòng)控制部還包括設(shè)置于所述凹槽的側(cè)壁的引導(dǎo)結(jié)合部,
所述引導(dǎo)結(jié)合部沿著所述第二方向與所述齒條結(jié)合部形成面接觸而引導(dǎo)所述齒條結(jié)合部的移動(dòng)。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過(guò)覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





