[發明專利]用于磁控濺射陽極棒的支撐件及包括其的磁控濺射裝置有效
| 申請號: | 201310545471.6 | 申請日: | 2013-11-06 |
| 公開(公告)號: | CN103602954A | 公開(公告)日: | 2014-02-26 |
| 發明(設計)人: | 謝進平 | 申請(專利權)人: | 深圳市華星光電技術有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/35 | 分類號: | C23C14/35 |
| 代理公司: | 北京聿宏知識產權代理有限公司 11372 | 代理人: | 劉華聯;蔣宏飛 |
| 地址: | 518132 廣東*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 磁控濺射 陽極 支撐 包括 裝置 | ||
1.一種用于磁控濺射陽極棒的支撐件,包括:支撐棒和能與所述支撐棒固定配合的防鍍擋板,
其中,所述支撐棒的第一端部構造成與陽極棒相配合的支撐端,第二端部構造成能與所述防鍍擋板的安裝孔固定連接的安裝端以防止所述支撐棒從所述防鍍擋板的安裝孔中脫出,所述安裝端的橫截面相對于所述支撐棒的主體部分的橫截面而縮小。
2.根據權利要求1所述的支撐件,其特征在于,所述支撐棒的安裝端的變徑部分形成直角臺階,并且安裝孔的直徑大于或等于所述安裝端的直徑并且小于所述直角臺階的外徑。
3.根據權利要求2所述的支撐件,其特征在于,所述支撐棒為圓柱形。
4.根據權利要求3所述的支撐件,其特征在于,所述支撐棒的安裝端為圓柱形,所述防鍍擋板上的安裝孔為與所述安裝端相匹配的圓孔。
5.根據權利要求2所述的支撐件,其特征在于,在所述支撐棒的支撐端和所述陽極棒之間還設置有絕緣環。
6.根據權利要求5所述的支撐件,其特征在于,所述絕緣環為陶瓷材料。
7.根據權利要求5所述的支撐件,其特征在于,所述支撐棒為陶瓷材料。
8.根據權利要求7所述的支撐件,其特征在于,所述陶瓷材料為氧化鋁陶瓷。
9.根據權利要求8所述的支撐件,其特征在于,所述陽極棒的與所述支撐棒配合的端部構造成中空結構,所述支撐棒的支撐端插入到所述中空結構中,所述絕緣環處于所述支撐端和所述中空結構的內壁之間。
10.一種磁控濺射裝置,其特征在于,包括根據權利要求1到9中任一項所述的支撐件。
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