[發明專利]一種檢測觸頭參數的基座及其制造方法、檢測方法

有效

• 申請號: 201310539873.5
• 申請日: 2013-11-04
• 公開（公告）號: CN103542794A
• 公開（公告）日: 2014-01-29
• 發明（設計）人: 杜和艷;葉青;宋志文
• 申請（專利權）人: 德力西電氣有限公司
• 主分類號: G01B5/14
• 分類號: G01B5/14;G01B5/02
• 代理公司: 北京三聚陽光知識產權代理有限公司 11250
• 代理人: 穆瑞丹

1.一種檢測觸頭參數的基座，用于斷路器或接觸器，其特征在于：所述基座（1）的內部設置有用于檢測所述動觸頭（2）觸頭參數的標記,所述標記根據所述動觸頭（2）觸頭參數的理論值設置。

2.根據權利要求1所述的檢測觸頭參數的基座，其特征在于：所述標記還根據所述動觸頭（2）上觀測物的位置設置。

3.根據權利要求1或2所述的檢測觸頭參數的基座，其特征在于：所述標記以所述基座（1）的底面為基準并設置于所述基座（1）的內側壁上。

4.根據權利要求1-3任一所述的檢測觸頭參數的基座，其特征在于：所述標記為標記臺階面或標記線，所述標記臺階面成型在所述基座（1）的所述內側壁上，所述標記線直接刻畫或粘貼在所述基座（1）的所述內側壁上。

5.根據權利要求1-4任一所述的檢測觸頭參數的基座，其特征在于：所述標記包括開距參考系和/或超程參考系；所述開距參考系和所述超程參考系可設置于所述基座（1）的相同或不同內側壁。

6.根據權利要求5所述的檢測觸頭參數的基座，其特征在于：所述開距參考系包括開距理論標記（4）；所述超程參考系包括超程理論標記（7）。

7.根據權利要求6所述的檢測觸頭參數的基座，其特征在于：所述開距參考系還包括開距上標記（5）和/或開距下標記（6）；所述超程參考系還包括超程上標記（8）和/或超程下標記（9）。

8.根據權利要求5所述的檢測觸頭參數的基座，其特征在于：所述開距參考系包括開距上標記（5）和開距下標記（6）；所述超程參考系包括超程上標記（8）和超程下標記（9）。

9.根據權利要求2-8任一所述的檢測觸頭參數的基座，其特征在于：所述動觸頭（2）的所述觀測物為觀測面、觀測點或觀測線。

10.一種上述權利要求1-9任一所述檢測觸頭參數的基座的制造方法，其特征在于：包括以下步驟，

①根據觸頭參數的理論值，計算出以所述基座（1）的底面為基準時標記的設置位置；

②在所述基座（1）的內側壁上設置所述標記。

11.根據權利10所述的制造方法，其特征在于：所述步驟①還包括，根據事先選取的動觸頭（2）上觀測物的位置計算出以所述基座（1）的底面為基準時標記的設置位置。

12.根據權利要求10所述的制造方法，其特征在于：在所述步驟②之后還包括根據所述基座（1）上所述標記位置在動觸頭（2）上相應選取觀測物的步驟。

13.根據權利要求10-12任一所述的制造方法，其特征在于：在所述步驟①之前還包括計算出觸頭參數的理論值的步驟。

14.一種采用上述權利要求1-9任一所述檢測觸頭參數的基座對動觸頭進行觸頭參數測量的檢測方法，其特征在于：包括，

①當所述標記為開距理論標記（4）和超程理論標記（7）時，則在脫扣狀態時，觀察各相動觸頭（2）上的觀測物與所述開距理論標記（4）的相對位置，若每相所述觀測物向所述開距理論標記（4）方向的投影均有部分落在所述開距理論標記（4）上，則該產品開距合格，否則不合格；在合閘狀態時，觀查各相所述觀測物與所述超程理論標記（7）的相對位置，若每相所述觀測物向所述超程理論標記（7）方向的投影均有部分落在所述超程理論標記（7）上，則該產品超程合格，否則不合格；如果開距和超程均合格且每相的超程值與所述超程理論標記（7）相比均不超過0.5毫米，則產品同步合格，否則不合格；

②當所述標記為開距上標記（5）、開距下標記（6）、超程上標記（8）和超程下標記（9）時，或者所述標記為開距理論標記（4）、開距上標記（5）、開距下標記（6）、超程理論標記（7）、超程上標記（8）和超程下標記（9）時，則在脫扣狀態時，觀察各相所述觀測物與所述標記的相對位置，若每相所述觀測物均位于所述開距上標記（5）和所述開距下標記（6）之間，或者每相所述觀測物向所述開距上標記（5）或所述開距下標記（6）方向的投影均有部分落在所述開距上標記（5）或所述開距下標記（6）上，則該產品開距合格，否則不合格；在合閘狀態時，觀察各相所述觀測物與所述標記的相對位置，若每相所述觀測物均位于所述超程上標記（8）和所述超程下標記（9）之間，或者每相所述觀測物向所述超程上標記（8）或所述超程下標記（9）方向的投影均有部分落在所述超程上標記（8）或所述超程下標記（9）上，則該產品超程合格，否則不合格；如果開距和超程均合格且每相的超程值與所述超程理論標記（7）相比均不超過0.5毫米，則產品同步合格，否則不合格；

③當所述標記為超程理論標記（7）和超程上標記（8）時，則在合閘狀態時，觀測各相所述觀測物與所述標記的相對位置，若每相所述觀測物均位于所述超程理論標記（7）和所述超程上標記（8）之間，或者每相所述觀測物向所述超程理論標記（7）或所述超程上標記（8）方向的投影均有部分落在所述超程理論標記（7）或所述超程上標記（8）上，則該產品超程合格，否則不合格；

④當所述標記為開距理論標記（4）、開距上標記（5）、超程理論標記（7）和超程上標記（8）時，則在脫扣狀態時，觀測各相所述觀測物與所述標記的相對位置，若每相所述觀測物均位于所述開距理論標記（4）和所述開距上標記（5）之間，或者每相所述觀測物向所述開距理論標記（4）或所述開距上標記（5）方向的投影均有部分落在所述開距理論標記（4）或所述開距上標記（5）上，則該產品開距合格，否則不合格；在合閘狀態時，觀測各相所述觀測物與所述標記的相對位置，若每相所述觀測物均位于所述超程理論標記（7）和所述超程上標記（8）之間，或者每相所述觀測物向所述超程理論標記（7）或所述超程上標記（8）方向的投影均有部分落在所述超程理論標記（7）或所述超程上標記（8）上，則該產品超程合格，否則不合格；如果開距和超程均合格且每相的超程值與所述超程理論標記（7）相比均不超過0.5毫米，則產品同步合格，否則不合格；

⑤當所述標記為開距理論標記（4）、開距下標記（6）、超程理論標記（7）和超程下標記（9）時，則在脫扣狀態時，觀測各相所述觀測物與所述標記的相對位置，若每相所述觀測物均位于所述開距理論標記（4）和所述開距下標記（6）之間，或者每相所述觀測物向所述開距理論標記（4）或所述開距下標記（6）方向的投影均有部分落在所述開距理論標記（4）或所述開距下標記（6）上，則該產品開距合格，否則不合格；在合閘狀態時，觀測各相所述觀測物與所述標記的相對位置，若每相所述觀測物均位于所述超程理論標記（7）和所述超程下標記（9）之間，或者每相所述觀測物向所述超程理論標記（7）或所述超程下標記（9）方向的投影均有部分落在所述超程理論標記（7）或所述超程下標記（9）上，則該產品超程合格，否則不合格；如果開距和超程均合格且每相的超程值與所述超程理論標記（7）相比均不超過0.5毫米，則產品同步合格，否則不合格。