[發明專利]聚光圖案形成組件、曝光方法以及元件制造方法在審
| 申請號: | 201310535482.6 | 申請日: | 2008-03-26 |
| 公開(公告)號: | CN103728841A | 公開(公告)日: | 2014-04-16 |
| 發明(設計)人: | 登道男 | 申請(專利權)人: | 株式會社尼康 |
| 主分類號: | G03F7/20 | 分類號: | G03F7/20 |
| 代理公司: | 北京中原華和知識產權代理有限責任公司 11019 | 代理人: | 壽寧 |
| 地址: | 日本東京都千代*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 聚光 圖案 形成 組件 曝光 方法 以及 元件 制造 | ||
1.一種聚光圖案形成裝置,其特征在于包括:
照明部,配置于第1面,照射照明光至具有遮光部與光通過部的圖案;以及
多個聚光部,以經由上述光通過部的照明光,于被曝光體上形成聚光圖案,
上述聚光圖案形成裝置調整上述照明光的主光線與上述聚光部的光軸的相對角度。
2.根據權利要求1所述的聚光圖案形成裝置,其特征在于還包括:
變形狀態檢測部,檢測上述被曝光體的變形狀態,
基于自上述變形狀態檢測部的輸出,調整上述相對角度。
3.根據權利要求1所述的聚光圖案形成裝置,其特征在于其中
一方面使上述多個聚光部與上述被曝光體的第1方向上的位置關系變更,一方面照射上述照明光。
4.根據權利要求3所述的聚光圖案形成裝置,其特征在于包括:
平臺部,變更橫過上述第1方向的第2方向上的上述多個聚光部與上述被曝光體的相對的位置關系。
5.根據權利要求1所述的聚光圖案形成裝置,其特征在于:
在固定上述多個聚光部與上述被曝光體的第1方向上的位置關系的狀態下,照射上述照明光。
6.根據權利要求1至5中任一項所述的聚光圖案形成裝置,其特征在于:
上述多個聚光部設置在透光性基板上,
上述聚光圖案形成裝置包括多個上述透光性基板。
7.根據權利要求6所述的聚光圖案形成裝置,其特征在于:
上述多個透光性基板沿著第1方向而排列。
8.根據權利要求7所述的聚光圖案形成裝置,其特征在于:
上述多個透光性基板沿著橫過上述第1方向的第2方向而排列。
9.根據權利要求1至5中任一項所述的聚光圖案形成裝置,其特征在于其中
上述多個聚光部包括設置于透光性基板上的聚光性遮光圖案。
10.根據權利要求1至5中任一項所述的聚光圖案形成裝置,其特征在于其中
上述聚光部包括形成于透光性基板上的相位型繞射圖案。
11.根據權利要求1至5中任一項所述的聚光圖案形成裝置,其特征在于其中
上述聚光部包括形成于透光性基板上的透鏡面。
12.根據權利要求1至5中任一項所述的聚光圖案形成裝置,其特征在于還包括
透光性基板,該透光性基板具有上述照明光所入射的第1光學面、以及設置在較上述第1光學面更靠近上述被曝光體的第2光學面,
上述聚光部形成于上述第2光學面,
上述透光性基板還包括用以保持上述聚光圖案形成裝置的被保持部,該被保持部沿著橫過上述第1光學面與上述第2光學面的面而形成。
13.根據權利要求1至5中任一項所述的聚光圖案形成裝置,其特征在于其中
上述照明部包括對上述照明光的焦闌性進行控制的焦闌性控制部。
14.一種曝光方法,其特征在于其包括以下步驟:
配置具有遮光部與光通過部的圖案于第1面;
照射照明光至上述圖案;
準備多個聚光部;
以經由上述光通過部的照明光,于被曝光體上形成聚光圖案;以及
調整上述照明光的主光線與上述聚光部的光軸的相對角度。
15.根據權利要求14所述的曝光方法,其特征在于還包括:
檢測上述被曝光體的變形狀態,
其中,基于自上述被檢測到的變形狀態,調整上述相對角度。
16.根據權利要求14所述的曝光方法,其特征在于還包括:
一方面使上述多個聚光部與上述被曝光體的第1方向上的位置關系變更,一方面照射上述照明光。
17.根據權利要求16所述的曝光方法,其特征在于還包括:
變更橫過上述第1方向的第2方向上的上述多個聚光部與上述被曝光體的相對的位置關系。
18.根據權利要求14所述的曝光方法,其特征在于還包括:
在固定上述多個聚光部與上述被曝光體的第1方向上的位置關系的狀態下,照射上述照明光。
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