[發明專利]一種光刻膠水基硅片清洗液及其制備方法

有效

• 申請號: 201310527927.6
• 申請日: 2013-10-31
• 公開（公告）號: CN103605270A
• 公開（公告）日: 2014-02-26
• 發明（設計）人: 郭萬東;孟祥法;董培才
• 申請（專利權）人: 合肥中南光電有限公司
• 主分類號: G03F7/42
• 分類號: G03F7/42
• 代理公司: 安徽合肥華信知識產權代理有限公司 34112
• 代理人: 余成俊

1.一種光刻膠水基硅片清洗液，其特征在于由下列重量份的原料制成：三乙醇胺2-3、四氫糠醇4-5、苯并三氮唑1-2、十二烷基苯磺酸鈉2-3、苯甲酸鈉2-3、鉬酸鈉1-2、乙醇30-40、助劑4-5、去離子水100-120；

所述助劑由下列重量份的原料制成：硅烷偶聯劑KH-570?2-3、抗氧劑1035?1-2、植酸1-2、嗎啉3-4、甲基丙烯酸-2-?羥基乙酯3-4、乙醇12-15；制備方法是將硅烷偶聯劑KH-570?、植酸、乙醇混合，加熱至60-70℃，攪拌20-30分鐘后，再加入其它剩余成分，升溫至80-85℃，攪拌30-40分鐘，即得。

2.根據權利要求1所述光刻膠水基硅片清洗液的制備方法，其特征在于包括以下步驟：將去離子水、三乙醇胺、四氫糠醇、苯并三氮唑、十二烷基苯磺酸鈉、苯甲酸鈉、鉬酸鈉、乙醇混合，在1000-1200轉/分攪拌下，以6-8℃/分的速率加熱到60-70℃，加入其他剩余成分，繼續攪拌15-20分鐘，即得。