[發明專利]一種利用氯化銅蝕刻廢液制備微米級氧化銅的方法無效
| 申請號： | 201310527814.6 | 申請日： | 2013-10-31 |
| 公開（公告）號： | CN104591255A | 公開（公告）日： | 2015-05-06 |
| 發明（設計）人： | 孫立 | 申請（專利權）人： | 孫立 |
| 主分類號： | C01G3/02 | 分類號： | C01G3/02 |
| 代理公司： | 連云港潤知專利代理事務所 32255 | 代理人： | 劉伯平 |
| 地址： | 222000 江蘇省連云港*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 利用 氯化銅 蝕刻 廢液 制備 微米 氧化銅 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種利用氯化銅蝕刻廢液制備微米級氧化銅的方法，其特征在于將酸性蝕刻廢液加水稀釋、還原、中和、過濾、洗滌、干燥而成。
2.根據權利要求1所述一種利用氯化銅蝕刻廢液制備微米級氧化銅的方法，其特征在于所述稀釋是將氯化銅蝕刻廢液加水稀釋至銅離子濃度為10-20克/升。
3.根據權利要求1所述一種利用氯化銅蝕刻廢液制備微米級氧化銅的方法，其特征在于所述還原時向稀釋后的氯化銅蝕刻廢液中加入葡萄糖，葡萄糖與銅離子摩爾比為1:1.5，還原溫度為80℃。
4.根據權利要求1所述一種利用氯化銅蝕刻廢液制備微米級氧化銅的方法，其特征在于所述中和是用氫氧化鈉進行中和。
5.根據權利要求1所述一種利用氯化銅蝕刻廢液制備微米級氧化銅的方法，其特征在于所述洗滌是用無水乙醇進行洗滌。
6.根據權利要求1所述一種利用氯化銅蝕刻廢液制備微米級氧化銅的方法，其特征在于所述干燥是將濾餅置于50-70℃的真空干燥箱中干燥1-2小時。
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