[發明專利]一種光刻膠涂布軌跡的實施方法在審
| 申請號： | 201310524314.7 | 申請日： | 2013-10-29 |
| 公開（公告）號： | CN104570609A | 公開（公告）日： | 2015-04-29 |
| 發明（設計）人： | 劉瑩 | 申請（專利權）人： | 沈陽芯源微電子設備有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/16 | 分類號： | G03F7/16 |
| 代理公司： | 沈陽科苑專利商標代理有限公司 21002 | 代理人： | 許宗富 |
| 地址： | 110168 遼*** | 國省代碼： | 遼寧;21 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 光刻 膠涂布 軌跡 實施 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種光刻膠涂布軌跡的實施方法，其特征在于，包括以下步驟：
噴嘴/膠嘴從晶片邊緣沿直徑運動到晶圓中心，同時晶片沿一個方向勻速旋轉；
噴嘴/膠嘴從晶片中心繼續沿所述直徑運動到晶圓邊緣，同時晶片反方向旋轉；
所述噴嘴/膠嘴的直線運動和晶片的旋轉運動滿足軌跡方程如下：
軌跡方程：
其中，R為噴嘴/膠嘴的直線運動距離，θ為晶圓轉動角度，t為時間，λ為常數；螺旋線間距為函數f(t)滿足
通過所述軌跡方程得到原點對稱等距螺旋線的一半，原點對稱后就得到了另一半的運動軌跡，從而使晶片表面的光刻膠形成等距螺旋曲線。
2.根據權利要求1所述的一種光刻膠涂布軌跡的實施方法，其特征在于，對于圓形噴霧截面的光刻膠超聲波噴涂情況，軸對稱等距螺線的間距為圓形噴霧截面半徑的30.5倍。
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