[發明專利]多層矢量圖形存儲為曝光數據的方法及系統

在審

• 申請號: 201310520091.7
• 申請日: 2013-10-29
• 公開（公告）號: CN103529653A
• 公開（公告）日: 2014-01-22
• 發明（設計）人: 劉濤;趙飛;李顯杰
• 申請（專利權）人: 天津芯碩精密機械有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 天津市三利專利商標代理有限公司 12107
• 代理人: 閆俊芬

技術領域

本發明屬于光刻技術領域，尤其涉及一種將多層矢量圖形存儲為曝光數據的方法及系統。

背景技術

光刻技術是用于在襯底表面上印刷具有一定特征的構圖的技術，上述的襯底可用做制造半導體器件、多種集成電路、平面顯示器（例如液晶顯示器）、電路板、生物芯片、微機械電子芯片、光電子線路芯片等的基片。經常使用的基片為表面涂有光敏感介質的半導體晶片或玻璃基片。

在光刻過程中，晶片放置在晶片臺上，通過處在光刻設備內的曝光裝置，將特征構圖投射到晶片表面。傳統技術中，半導體行業使用分步重復式或分步掃描式光刻工具，利用分劃板將特征構圖在各個場一次性的投影或掃描到晶片上，一次曝光或掃描一個場，然后通過移動晶片來對下一個場進行重復性的曝光過程。

傳統的光刻技術通過重復性曝光或掃描過程，實現高產出的精確特征構圖的印刷。然而，為了在晶片上制造器件，需要多個掩膜板。由于特征尺寸的減少以及對于較小特征尺寸的精確公差需求的原因，這些掩膜板對于生產而言成本很高，耗時很長，從而使利用掩膜板的傳統晶片光刻制造成本越來越高，非常昂貴。無掩模（如直接寫或數字式等）光刻技術相對于傳統使用掩膜板的方法，在光刻方面提供了許多益處,無掩模技術使用空間圖形發生器(SLM)來代替掩膜板，SLM主要包含一個投影設備，如空間微鏡陣列(DMD)或液晶顯示器(LCD)。GDSⅡ文件是多層次結構文件，含矢量圖形，在分層保存時，容易出現丟失。在不同的無掩膜光刻系統中，如果參數不正確，則易出錯（如分割精度、分割后圖層不匹配等）。

發明內容

本發明的目的是提供一種多層矢量圖形存儲為曝光數據的方法及系統，以解決現有技術中由于多層矢量圖形無法準確存儲，從而不能準確光刻的問題。

為了達到本發明的目的，本發明提供了一種多層矢量圖形存儲為曝光數據的方法，包括：

第1步，將待曝光的多層矢量圖形柵格化；

第2步，將柵格化后的所述多層矢量圖形數字化；

第3步，將數字化后的所述多層矢量圖形，利用八叉樹分割法分割，對分割后的多層矢量圖形數據，采用八叉樹數據結構進行存儲。

優選地，在第1步中，所述將待曝光的多層矢量圖形柵格化具體為，將所述多層矢量圖形的多層分別進行大小均勻的網格陣列的劃分；在第2步中，所述將多層矢量圖形數字化具體為，將柵格化后的所述多層矢量圖形的網格均設置0或者1表示，位于曝光區域的所述網格設置1，位于非曝光區域的所述網格設置0。

優選地，在第3步中，所述八叉樹分割法，包括：

第1步，設定最大遞歸深度；

第2步，找出所述多層矢量圖形的最大尺寸，并以此尺寸建立第一個立方體；

第3步，依序將單位元元素丟入能被包含且沒有子節點的立方體；

第4步，若沒有達到最大遞歸深度，就進行細分八等份，再將該立方體所裝的單位元元素全部分擔給八個子立方體；

第5步，若發現子立方體所分配到的單位元元素數量不為零且跟父立方體是一樣的，則該子立方體停止細分。

第6步，重復第3步驟，直到達到最大遞歸深度；

優選地，所述的采用八叉樹數據結構進行存儲，具體為，對經過八叉樹分割法分割后的所述立方體設為結點，將所述結點上的網格依次標記為1、2、3、4、5、6、7、8個子結點，存儲后，一個記錄與一個結點相對應，所述記錄中描述的是與之對應的所述結點的八個子結點的特性值。

優選地，所述多層矢量圖形為GDSⅡ圖形。

相應地，本發明提供了一種多層矢量圖形存儲為曝光數據的系統，包括:柵格化單元、數字化單元、八叉樹分割單元、八叉樹數據存儲單元，所述柵格化單元用于將待曝光的多層矢量圖形柵格化；所述數字化單元用于將柵格化后的所述多層矢量圖形數字化；所述八叉樹分割單元用于將數字化后的所述多層矢量圖形，利用八叉樹分割法分割；所述八叉樹數據存儲單元用于對分割后的多層矢量圖形數據，采用八叉樹數據結構進行存儲。

優選地，所述柵格化單元具體用于，將所述多層矢量圖形的多層分別進行大小均勻的網格陣列的劃分；所述數字化單元具體用于，將柵格化后的所述多層矢量圖形的網格均設置0或者1表示，位于曝光區域的所述網格設置1，位于非曝光區域的所述網格設置0。

優選地，所述八叉樹分割單元具體用于，包括：

第1步，設定最大遞歸深度；

第2步，找出所述多層矢量圖形的最大尺寸，并以此尺寸建立第一個立方體；

第3步，依序將單位元元素丟入能被包含且沒有子節點的立方體；