[發(fā)明專利]噴淋頭及反應(yīng)腔室

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201310516968.5
• 申請(qǐng)日: 2013-10-28
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN103526185A
• 公開(kāi)（公告）日: 2014-01-22
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 譚華強(qiáng);喬徽;林翔;蘇育家
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 光達(dá)光電設(shè)備科技（嘉興）有限公司
• 主分類號(hào): C23C16/455
• 分類號(hào): C23C16/455
• 代理公司: 上海思微知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 31237
• 代理人: 鄭瑋

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及半導(dǎo)體設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，特別是一種噴淋頭及反應(yīng)腔室。

背景技術(shù)

自GaN（氮化鎵）基第三代半導(dǎo)體材料的興起，藍(lán)光LED（發(fā)光二極管）研制成功，LED的發(fā)光強(qiáng)度和白光發(fā)光效率不斷提高。LED被認(rèn)為是下一代進(jìn)入通用照明領(lǐng)域的新型固態(tài)光源，因此得到廣泛關(guān)注。

現(xiàn)有技術(shù)的白光LED的制造工藝通常在一個(gè)具有溫度控制的環(huán)境下的反應(yīng)腔內(nèi)進(jìn)行。通常，將III族源氣體和V族源氣體分別通入化學(xué)氣相沉積反應(yīng)腔內(nèi)，III族源氣體和V族源氣體在反應(yīng)腔內(nèi)反應(yīng)以在襯底上形成III-V族材料薄膜。

現(xiàn)有技術(shù)的噴淋頭請(qǐng)參考圖1，包括多層氣體腔室，例如包括第一氣體腔室1和第二氣體腔室2，或者其他數(shù)量，所述第一氣體腔室1具有第一氣體通道11，所述第二氣體腔室2具有第二氣體通道21，分別用于將來(lái)自氣體腔室中的反應(yīng)氣體傳送至所述噴淋頭下方的反應(yīng)區(qū)域。然后來(lái)自不同氣體腔室中的反應(yīng)氣體在襯底上反應(yīng)，從而形成所需要的膜層。

隨著各類器件精密度的提高，目前需要在生產(chǎn)過(guò)程中嚴(yán)格把控成膜的質(zhì)量，一個(gè)影響因素是反應(yīng)氣體的均勻性和穩(wěn)定性，通常可以采用增加氣體通道數(shù)量的方法來(lái)提高均勻性和穩(wěn)定性。但是這一方面會(huì)使得噴淋頭的構(gòu)造復(fù)雜，制作難度加大，另一方面，由于氣體腔室具有一定的空間，來(lái)自外部的氣體管路通入反應(yīng)氣體后，在氣體腔室中的反應(yīng)氣體也會(huì)分布不均勻，那么僅僅通過(guò)密布排列的氣體通道，對(duì)解決氣體的均勻性和穩(wěn)定性是不甚理想。

因此，目前的噴淋頭并不合理，需要對(duì)其進(jìn)行改善。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的在于提供一種噴淋頭及反應(yīng)腔室，以解決現(xiàn)有技術(shù)中的噴淋頭流出的反應(yīng)氣體的均勻性和穩(wěn)定性差的問(wèn)題。

為解決上述技術(shù)問(wèn)題，本發(fā)明提供一種噴淋頭，用于向反應(yīng)區(qū)域提供反應(yīng)氣體，所述噴淋頭包括第一氣體腔室，其中，所述第一氣體腔室具有自上而下相對(duì)設(shè)置的第一板和第二板，所述第二板為一預(yù)分配板，所述預(yù)分配板中具有多個(gè)預(yù)分配通道，反應(yīng)氣體經(jīng)過(guò)預(yù)分配通道被分配在多個(gè)區(qū)域中，所述第一氣體腔室具有多個(gè)第一氣體通道，所述第一氣體通道與預(yù)分配通道相連通，用于將第一氣體腔室中的氣體輸送至反應(yīng)區(qū)域。

相應(yīng)的，本發(fā)明提供一種反應(yīng)腔室，包括：腔體、用于裝載襯底的托盤和噴淋頭，所述托盤設(shè)置于所述腔體的底部，所述噴淋頭設(shè)置在所述腔體的頂部并與所述托盤相對(duì)設(shè)置，所述托盤與所述噴淋頭之間限定氣體反應(yīng)區(qū)域，所述噴淋頭用于向所述反應(yīng)區(qū)域輸出反應(yīng)氣體，所述噴淋頭為如上所述的噴淋頭。

本發(fā)明提供的噴淋頭及反應(yīng)腔室，所述噴淋頭的第一氣體腔室包括自上而下相對(duì)設(shè)置的第一板和第二板，所述第二板為一預(yù)分配板，所述預(yù)分配板中具有多個(gè)預(yù)分配通道，反應(yīng)氣體經(jīng)過(guò)預(yù)分配通道被分配在多個(gè)區(qū)域中。相比現(xiàn)有技術(shù)，本發(fā)明提供的噴淋頭中，使得由外部通入的氣體先進(jìn)行預(yù)分配，從而提高了反應(yīng)氣體在第一氣體腔室中的均勻性，也進(jìn)而改善了反應(yīng)氣體的穩(wěn)定性，那么當(dāng)反應(yīng)氣體從氣體通道流出至反應(yīng)區(qū)域時(shí)，能夠獲得較佳的分布情況，從而有利于提高成膜質(zhì)量。

附圖說(shuō)明

圖1為現(xiàn)有技術(shù)的噴淋頭的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為本發(fā)明一實(shí)施例的噴淋頭的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3為本發(fā)明一實(shí)施例的噴淋頭第二板的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖4為本發(fā)明另一實(shí)施例的噴淋頭第二板的結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式

下面將結(jié)合示意圖對(duì)本發(fā)明的噴淋頭及反應(yīng)腔室進(jìn)行更詳細(xì)的描述，其中表示了本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例，應(yīng)該理解本領(lǐng)域技術(shù)人員可以修改在此描述的本發(fā)明，而仍然實(shí)現(xiàn)本發(fā)明的有利效果。因此，下列描述應(yīng)當(dāng)被理解為對(duì)于本領(lǐng)域技術(shù)人員的廣泛知道，而并不作為對(duì)本發(fā)明的限制。

為了清楚，不描述實(shí)際實(shí)施例的全部特征。在下列描述中，不詳細(xì)描述公知的功能和結(jié)構(gòu)，因?yàn)樗鼈儠?huì)使本發(fā)明由于不必要的細(xì)節(jié)而混亂。應(yīng)當(dāng)認(rèn)為在任何實(shí)際實(shí)施例的開(kāi)發(fā)中，必須做出大量實(shí)施細(xì)節(jié)以實(shí)現(xiàn)開(kāi)發(fā)者的特定目標(biāo)，例如按照有關(guān)系統(tǒng)或有關(guān)商業(yè)的限制，由一個(gè)實(shí)施例改變?yōu)榱硪粋€(gè)實(shí)施例。另外，應(yīng)當(dāng)認(rèn)為這種開(kāi)發(fā)工作可能是復(fù)雜和耗費(fèi)時(shí)間的，但是對(duì)于本領(lǐng)域技術(shù)人員來(lái)說(shuō)僅僅是常規(guī)工作。

在下列段落中參照附圖以舉例方式更具體地描述本發(fā)明。根據(jù)下面說(shuō)明和權(quán)利要求書，本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)和特征將更清楚。需說(shuō)明的是，附圖均采用非常簡(jiǎn)化的形式且均使用非精準(zhǔn)的比例，僅用以方便、明晰地輔助說(shuō)明本發(fā)明實(shí)施例的目的。