[發(fā)明專利]噴淋頭及反應(yīng)腔室

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201310516968.5
• 申請日: 2013-10-28
• 公開（公告）號: CN103526185A
• 公開（公告）日: 2014-01-22
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 譚華強;喬徽;林翔;蘇育家
• 申請（專利權(quán)）人: 光達(dá)光電設(shè)備科技（嘉興）有限公司
• 主分類號: C23C16/455
• 分類號: C23C16/455
• 代理公司: 上海思微知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 31237
• 代理人: 鄭瑋

1.一種噴淋頭，用于向反應(yīng)區(qū)域提供反應(yīng)氣體，所述噴淋頭包括第一氣體腔室，其特征在于，所述第一氣體腔室具有自上而下相對設(shè)置的第一板和第二板，所述第二板為一預(yù)分配板，所述預(yù)分配板中具有多個預(yù)分配通道，反應(yīng)氣體經(jīng)過預(yù)分配通道被分配在多個區(qū)域中，所述第一氣體腔室具有多個第一氣體通道，所述第一氣體通道與預(yù)分配通道相連通，用于將第一氣體腔室中的氣體輸送至反應(yīng)區(qū)域。

2.如權(quán)利要求1所述的噴淋頭，其特征在于，所述預(yù)分配通道為貫穿所述預(yù)分配板上下表面的條形通道，預(yù)分配通道的寬度為1-10mm，相鄰預(yù)分配通道之間的間距為5-30mm。

3.如權(quán)利要求1所述的噴淋頭，其特征在于，所述預(yù)分配板為圓形，所述預(yù)分配板在圓周方向被均勻分為多個扇形區(qū)域，每個扇形區(qū)域內(nèi)的預(yù)分配通道關(guān)于該扇形區(qū)域內(nèi)作為中線的半徑呈軸對稱排布。

4.如權(quán)利要求3所述的噴淋頭，其特征在于，呈軸對稱排布的兩個預(yù)分配通道在所述半徑上共端點，形成“人”字型。

5.如權(quán)利要求3所述的噴淋頭，其特征在于，每個扇形區(qū)域內(nèi)的預(yù)分配通道間隔均勻。

6.如權(quán)利要求2所述的噴淋頭，其特征在于，至少一個所述預(yù)分配通道在通道的延伸方向具有多個彎折，呈折線形。

7.如權(quán)利要求1所述的噴淋頭，其特征在于，所述噴淋頭還包括位于所述第二板下方的第三板，所述第二板與第三板之間具有多個條狀氣體槽，所述條狀氣體槽的側(cè)壁一端貼靠于所述預(yù)分配通道，所述第一氣體通道設(shè)置于所述條狀氣體槽的側(cè)壁中，相鄰所述條狀氣體槽的側(cè)壁與所述第二板和第三板構(gòu)成第二氣體腔室，所述第三板中插入有第二氣體通道，所述第二氣體通道連通第二氣體腔室和反應(yīng)區(qū)域。

8.如權(quán)利要求7所述的噴淋頭，其特征在于，所述條狀氣體槽的側(cè)壁一體成型于所述第二板朝向所述第三板的一面。

9.如權(quán)利要求7所述的噴淋頭，其特征在于，所述條狀氣體槽的側(cè)壁一體成型于所述第三板朝向所述第二板的一面。

10.如權(quán)利要求8或9所述的噴淋頭，其特征在于，所述噴淋頭還包括位于所述第三板下方的第四板，所述第三板和第四板限定冷卻腔室，所述第一氣體通道和第二氣體通道貫穿冷卻腔室。

11.如權(quán)利要求10所述的噴淋頭，其特征在于，所述第一板、第二板、第三板和第四板通過固定件固定在一起；或者，通過焊接連接在一起；或者采用固定件和焊接相結(jié)合的方式固定。

12.如權(quán)利要求10所述的噴淋頭，其特征在于，所述第一氣體腔室通入第一氣體，所述第二氣體腔室通入第二氣體，所述第一氣體為III族氣體，所述第二氣體為V族氣體。

13.一種反應(yīng)腔室，包括：腔體、用于裝載襯底的托盤和噴淋頭，所述托盤設(shè)置于所述腔體的底部，所述噴淋頭設(shè)置在所述腔體的頂部并與所述托盤相對設(shè)置，所述托盤與所述噴淋頭之間限定氣體反應(yīng)區(qū)域，所述噴淋頭用于向所述反應(yīng)區(qū)域輸出反應(yīng)氣體；其特征在于，所述噴淋頭為如權(quán)利要求1-12中任意一項所述的噴淋頭。