[發明專利]一種苦參堿分子表面印跡聚合物材料的制備方法

有效

• 申請號: 201310516064.2
• 申請日: 2013-10-29
• 公開（公告）號: CN103601910A
• 公開（公告）日: 2014-02-26
• 發明（設計）人: 高保嬌;雷青娟;張正國;安富強;李延斌;曹林交
• 申請（專利權）人: 中北大學
• 主分類號: C08J9/26
• 分類號: C08J9/26;C08J3/24;C08F292/00;C08F8/36;B01J20/26;C07D471/22
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1.一種苦參堿分子表面印跡聚合物材料的制備方法，其特征在于包括以下步驟：

步驟一，制備功能接枝微粒SAS-PGMA/SiO₂：在甲苯溶劑中，活化硅膠與偶聯劑γ-巰丙基三甲氧基硅烷反應，制得表面含有巰基的改性硅膠微粒MPMS-SiO₂；在DMF溶劑中，改性硅膠微粒MPMS-SiO₂與單體GMA在氮氣氛圍和引發劑AIBN存在下，使單體GMA發生表面引發接枝聚合，制得接枝微粒PGMA/SiO₂；將接枝微粒PGMA/SiO₂加入到DMF溶劑中使之溶脹后，加入溶有間二氨基苯磺酸鈉SAS的水溶液，體系pH調節至12，80℃下攪拌使接枝大分子PGMA的環氧基團與SAS對位氨基之間發生開環反應，反應結束后得到苯磺酸鈉功能化的接枝微粒SAS-PGMA/SiO₂；

步驟二，功能接枝微粒SAS-PGMA/SiO₂對生物堿的飽和吸附：將功能接枝微粒SAS-PGMA/SiO₂置于苦參堿水溶液中，調節體系的pH值為6，恒溫振蕩后使功能接枝微粒對苦參堿的吸附達到飽和，濾出微粒，真空干燥；

步驟三，制備苦參堿分子表面印跡聚合物材料MIP-SAS-PGMA/SiO₂?：將飽和吸附了苦參堿的功能接枝微粒置于苦參堿水溶液中，調節體系的pH值為6，加入溶有交聯劑的水溶液，在45-50℃下攪拌至反應結束，浸泡洗滌后除去模板分子苦參堿，即得苦參堿分子表面印跡聚合物材料MIP-SAS-PGMA/SiO₂，簡化為MIP-SASP/SiO₂。

2.根據權利要求1所述的一種苦參堿分子表面印跡聚合物材料的制備方法，其特征在于：步驟一中以克為計量單位的接枝微粒PGMA/SiO₂、以毫升為計量單位的DMF溶劑和溶有間二氨基苯磺酸鈉SAS的水溶液的用量比例為1.5-2.0：50：10，其中溶有間二氨基苯磺酸鈉SAS的水溶液中，每10ml水溶液中溶有4.19-5.58g間二氨基苯磺酸鈉SAS。

3.根據權利要求1所述的一種苦參堿分子表面印跡聚合物材料的制備方法，其特征在于：步驟二中以克為計量單位的功能接枝微粒SAS-PGMA/SiO₂、以毫升為計量單位的苦參堿水溶液的用量比例為2-3：100-150，其中苦參堿水溶液的濃度為2.0g/L。

4.根據權利要求1所述的一種苦參堿分子表面印跡聚合物材料的制備方法，其特征在于：步驟三中所用的交聯劑為戊二醛，其濃度為8g/L。

5.根據權利要求1或4所述的一種苦參堿分子表面印跡聚合物材料的制備方法，其特征在于：步驟三中苦參堿水溶液的濃度為2.0g/L，以克為計量單位的飽和吸附了苦參堿的功能接枝微粒、以毫升為計量單位的溶有交聯劑戊二醛的水溶液的用量比例為1-1.5:10-15。