[發明專利]一種重離子微孔濾膜的輻照方法

有效

• 申請號: 201310509331.3
• 申請日: 2013-10-25
• 公開（公告）號: CN103521087A
• 公開（公告）日: 2014-01-22
• 發明（設計）人: 陳大年;安孟稼;劉澤超;易蓉
• 申請（專利權）人: 北京南洋慧通新技術有限公司
• 主分類號: B01D67/00
• 分類號: B01D67/00;B01J19/12
• 代理公司: 北京市盛峰律師事務所 11337
• 代理人: 趙建剛

技術領域

本發明涉及核技術應用技術領域，尤其是涉及一種重離子微孔濾膜的輻照方法。

背景技術

重離子微孔濾膜(也稱“核孔膜”或“核微孔膜”)具有孔徑均一、精度高、生物穩定性好等特性，是一種性能優良的過濾材料。但是由于其孔隙率較低，使得其流速受到很大的制約。為了提高流速，需要盡可能提高濾膜的孔隙率，但是會降低濾膜的強度，造成濾膜的生產和使用的諸多不便，甚至無法生產和使用。

現有的輻照方法為了盡可能多的增加有效輻照面積，采用全幅寬輻照的方式進行，即薄膜表面全進行輻照加工，這樣在后期加工過程中，會造成過濾膜強度過低，大量破損使得合格率降低甚至無法生產。

發明內容

本發明的目的在于設計一種新型的重離子微孔濾膜的輻照方法，解決上述問題。

為了實現上述目的，本發明采用的技術方案如下：

一種重離子微孔濾膜的輻照方法，包括步驟如下：

S1，在輻照裝置的窗口前，將用于輻照的薄膜橫向間隔劃分為輻照區和非輻照區，在所述非輻照區設置阻擋重離子通過的輻照阻隔器；

S2，用重離子加速器加速的重離子或核反應堆產生的裂變碎片對所述薄膜進行輻照；

S3，將輻照好的所述薄膜用功率為0.5～6Kw的紫外線照射裝置進行增敏照射；

S4，將增敏照射后的所述薄膜放入溶液濃度為3～8mol/L的蝕刻設備中進行化學蝕刻，形成帶有無孔窄條的重離子微孔濾膜；

S5，將化學蝕刻完成的所述薄膜放入去離子水清洗設備中進行清洗；

S6，將清洗后的所述薄膜放入烘干設備中進行烘干。

優選的，S1中，所述薄膜為厚度6～80微米的PET或PC膜。

優選的，S1中，所述輻照區的寬度為50～150mm，所述非輻照區的寬度為0.5～3mm。

優選的，S2中，輻照密度為1×10⁴～1×10¹⁰個徑跡/cm²。

優選的，S3中，所述增敏照射的時間為1～30min。

優選的，S4中，所述化學蝕刻的化學溶液為NaOH或KOH溶液，蝕刻溫度30～90℃，蝕刻時間5～60min。

優選的，S5中，將所述化學蝕刻完成的所述薄膜放入去離子水清洗設備中進行清洗，清洗溫度為30℃～50℃。

優選的，S6中，進行烘干的溫度為30～80℃。

本發明的有益效果可以總結如下：

1、本發明在重離子微孔濾膜制作過程中適當增加未輻照區域，可以顯著增強濾膜的強度，提高產品合格率和生產效率，同時也能得到更大孔隙率的重離子微孔濾膜。

2、該發明工藝簡單，實施成本低廉。

附圖說明

圖1為輻照過程示意圖。

其中，輻照區1，非輻照區2，輻照阻隔器3，基膜(即用于輻照的薄膜)4，走膜方向5，加速器重離子通道6，重離子及其運動方向7，真空封口膜8。

圖2為輻照阻隔器示意圖；

圖3為進行輻照后的示意圖。

具體實施方式

為了使本發明所解決的技術問題、技術方案及有益效果更加清楚明白，以下結合附圖及實施例，對本發明進行進一步詳細說明。應當理解，此處所描述的具體實施例僅僅用以解釋本發明，并不用于限定本發明。

如圖1至圖3所示的一種重離子微孔濾膜的輻照方法，包括步驟如下：

S1，在輻照裝置的窗口前，將用于輻照的薄膜橫向間隔劃分為輻照區和非輻照區，在所述非輻照區設置阻擋重離子通過的輻照阻隔器；

S2，用重離子加速器加速的重離子或核反應堆產生的裂變碎片對所述薄膜進行輻照；

S3，將輻照好的所述薄膜用功率為0.5～6Kw的紫外線照射裝置進行增敏照射；

S4，將增敏照射后的所述薄膜放入溶液濃度為3～8mol/L的蝕刻設備中進行化學蝕刻，形成帶有無孔窄條的重離子微孔濾膜；

S5，將化學蝕刻完成的所述薄膜放入去離子水清洗設備中進行清洗；

S6，將清洗后的所述薄膜放入烘干設備中進行烘干。

在優選的實施例中，S1中，所述薄膜為厚度6～80微米的PET或PC膜。所述輻照區的寬度為50～150mm，所述非輻照區的寬度為0.5～3mm。

S2中，輻照密度為1×10⁴～1×10¹⁰個徑跡/cm²。

S3中，所述增敏照射的時間為1～30min。