[發明專利]一種重離子微孔濾膜的輻照方法有效
| 申請號： | 201310509331.3 | 申請日： | 2013-10-25 |
| 公開（公告）號： | CN103521087A | 公開（公告）日： | 2014-01-22 |
| 發明（設計）人： | 陳大年;安孟稼;劉澤超;易蓉 | 申請（專利權）人： | 北京南洋慧通新技術有限公司 |
| 主分類號： | B01D67/00 | 分類號： | B01D67/00;B01J19/12 |
| 代理公司： | 北京市盛峰律師事務所 11337 | 代理人： | 趙建剛 |
| 地址： | 100085 北京市海*** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 離子 微孔 濾膜 輻照 方法 | ||
1.一種重離子微孔濾膜的輻照方法，其特征在于，包括步驟如下：
S1，在輻照裝置的窗口前，將用于輻照的薄膜橫向間隔劃分為輻照區和非輻照區，在所述非輻照區設置阻擋重離子通過的輻照阻隔器；
S2，用重離子加速器加速的重離子或核反應堆產生的裂變碎片對所述薄膜進行輻照；
S3，將輻照好的所述薄膜用功率為0.5～6Kw的紫外線照射裝置進行增敏照射；
S4，將增敏照射后的所述薄膜放入溶液濃度為3～8mol/L的蝕刻設備中進行化學蝕刻，形成帶有無孔窄條的重離子微孔濾膜；
S5，將化學蝕刻完成的所述薄膜放入去離子水清洗設備中進行清洗；
S6，將清洗后的所述薄膜放入烘干設備中進行烘干。
2.根據權利要求1所述的重離子微孔濾膜的輻照方法，其特征在于：S1中，所述薄膜為厚度6～80微米的PET或PC膜。
3.根據權利要求1所述的重離子微孔濾膜的輻照方法，其特征在于：S1中，所述輻照區的寬度為50～150mm，所述非輻照區的寬度為0.5～3mm。
4.根據權利要求1所述的重離子微孔濾膜的輻照方法，其特征在于：S2中，輻照密度為1×104～1×1010個徑跡/cm2。
5.根據權利要求1所述的重離子微孔濾膜的輻照方法，其特征在于：S3中，所述增敏照射的時間為1～30min。
6.根據權利要求1所述的重離子微孔濾膜的輻照方法，其特征在于：S4中，所述化學蝕刻的化學溶液為NaOH或KOH溶液，蝕刻溫度30～90℃，蝕刻時間5～60min。
7.根據權利要求1所述的重離子微孔濾膜的輻照方法，其特征在于：S5中，將所述化學蝕刻完成的所述薄膜放入去離子水清洗設備中進行清洗，清洗溫度為30℃～50℃。
8.根據權利要求1所述的重離子微孔濾膜的輻照方法，其特征在于：S6中，進行烘干的溫度為30～80℃。
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