[發明專利]LPCVD自動補水系統有效
| 申請號: | 201310493116.9 | 申請日: | 2013-10-18 |
| 公開(公告)號: | CN103526181A | 公開(公告)日: | 2014-01-22 |
| 發明(設計)人: | 向舟翊;李家海;李朝陽 | 申請(專利權)人: | 四川飛陽科技有限公司 |
| 主分類號: | C23C16/44 | 分類號: | C23C16/44;C23C16/40 |
| 代理公司: | 北京集佳知識產權代理有限公司 11227 | 代理人: | 王學強;魏曉波 |
| 地址: | 610209 四川省成都市雙*** | 國省代碼: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | lpcvd 自動 水系 | ||
1.LPCVD自動補水系統,包括濕氧SIO2工藝爐管,其特征在于,所述濕氧SIO2工藝爐管上連接有補水系統;所述補水系統包括儲水罐(8),該儲水罐(8)通過水蒸氣輸出管(9)與濕氧SIO2工藝爐管相連接,在儲水罐(8)上端還設置有高純氮氣輸入管(10),儲水罐(8)上還設置有進水口(5),在進水口(5)上安裝有補水裝置,儲水罐(8)下方設置有加熱器(7),加熱器(7)上還設置有重力控制裝置,重力控制裝置與補水裝置相連接。
2.根據權利要求1所述的LPCVD自動補水系統,其特征在于,所述補水裝置包括進水管(2),在進水管(2)的端部固定在進水口(5)上,在進水管(2)上設置有兩個球閥(1),在兩個球閥(1)之間還設置有隔膜閥(3),在隔膜閥(3)上設置有空氣管道(12),空氣管道(12)上還設置有一個球閥(1),空氣管道(12)上的球閥(1)與隔膜閥(3)之間還安裝有電磁閥(11),補水裝置通過該電磁閥(11)與重力控制裝置相連。
3.根據權利要求2所述的LPCVD自動補水系統,其特征在于,所述空氣管道(12)中有高壓空氣,進水管(2)中有高純水。
4.根據權利要求3所述的LPCVD自動補水系統,其特征在于,所述重力控制裝置包括設置在加熱器(7)下方的重力計(6),重力計(6)上連接有重力控制器(4),該重力控制器(4)還同時連接在電磁閥(11)上。
5.根據權利要求4所述的LPCVD自動補水系統,其特征在于,所述水蒸氣輸出管(9)的下端管口設置在儲水罐(8)內部,且靠近儲水罐(8)上端面。
6.根據權利要求5所述的LPCVD自動補水系統,其特征在于,所述高純氮氣輸入管(10)連接在高純氮氣源上,該高純氮氣輸入管(10)下端設置在儲水罐(8)內部,且靠近儲水罐(8)底面。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





