[發明專利]沉積設備及將沉積材料沉積在基板上的方法

有效

• 申請號: 201310486450.1
• 申請日: 2013-10-17
• 公開（公告）號: CN103882381B
• 公開（公告）日: 2017-12-29
• 發明（設計）人: 金元容;全鎮弘
• 申請（專利權）人: 三星顯示有限公司
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24;C23C14/04
• 代理公司: 北京銘碩知識產權代理有限公司11286
• 代理人: 劉奕晴,韓芳

1.一種沉積設備，所述沉積設備包括：

真空室；

基板，設置在真空室中；

沉積源，設置在真空室中并且面對基板，用于將沉積材料提供到基板上；

激光振蕩器，產生第一激光束；以及

光學單元，連接到真空室的第一側并使第一激光束分束，以產生多束掩模激光束，其中，掩模激光束照射到真空室中以被設置在基板和沉積源之間，與掩模激光束接觸的沉積材料被氧化，而穿過掩模激光束的沉積材料被沉積在基板上，

其中，掩模激光束用作執行沉積工藝的掩模。

2.如權利要求1所述的沉積設備，其中，掩模激光束設置為沿垂直于基板的方向與基板分隔開。

3.如權利要求2所述的沉積設備，其中，掩模激光束沿垂直于基板的方向與基板分隔開0.1mm到1.0mm的距離。

4.如權利要求2所述的沉積設備，其中，掩模激光束基本上與基板平行地布置并且掩模激光束彼此以規則間隔分隔開。

5.如權利要求1所述的沉積設備，其中，光學單元包括：

擴束器，被構造為使第一激光束擴大；

分束器，被構造為使擴大后的第一激光束分束，以產生多束第二激光束；以及

光束控制器，被構造為控制第二激光束中的相應的第二激光束的寬度以及第二激光束之間的距離，以產生掩模激光束。

6.如權利要求5所述的沉積設備，其中，擴束器包括：

凹透鏡，被構造為使第一激光束擴大；

凸透鏡，被構造為向分束器提供擴大后的第一激光束。

7.如權利要求5所述的沉積設備，其中，分束器包括多個透鏡單元，所述多個透鏡單元被構造為使擴大后的第一激光束分束而產生第二激光束。

8.如權利要求7所述的沉積設備，其中，光束控制器包括多個準直透鏡單元，所述多個準直透鏡單元分別對應于所述多個透鏡單元，每個準直透鏡單元被構造為控制從所述多個透鏡單元中的相應的透鏡單元提供的相應的第二激光束的寬度以及第二激光束之間的距離，以產生掩模激光束。

9.如權利要求1所述的沉積設備，其中，沉積源包括：

坩堝，被構造為加熱填充在坩堝中的沉積材料，以使沉積材料蒸發；以及

多個噴嘴，被構造為將蒸發的沉積材料噴射到基板上。

10.一種將沉積材料沉積到基板上的方法，所述方法包括：

在真空室中設置基板；

產生第一激光束；

使第一激光束分束，以產生多束掩模激光束；

提供沉積材料；以及

將掩模激光束照射到真空室中并照射到沉積材料上，使得與掩模激光束接觸的沉積材料被氧化，而穿過掩模激光束的沉積材料沉積在基板上，

其中，掩模激光束用作執行沉積沉積材料的掩模。