[發明專利]沉積設備及將沉積材料沉積在基板上的方法

有效

• 申請號: 201310486450.1
• 申請日: 2013-10-17
• 公開（公告）號: CN103882381B
• 公開（公告）日: 2017-12-29
• 發明（設計）人: 金元容;全鎮弘
• 申請（專利權）人: 三星顯示有限公司
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24;C23C14/04
• 代理公司: 北京銘碩知識產權代理有限公司11286
• 代理人: 劉奕晴,韓芳

本申請要求于2012年12月21日提交的第10-2012-0151026號韓國專利申請的優先權，該韓國專利申請的內容通過引用包含于此。

技術領域

本公開涉及一種沉積設備。

背景技術

近年來，由于有機發光顯示器具有優異的亮度和視角并且不必像液晶顯示器那樣包括單獨的光源，因此作為下一代顯示裝置，有機發光顯示器已經引起了關注。因此，有機發光顯示器具有纖薄和質量輕的優點。另外，有機發光顯示器具有其它性能，比如，例如響應速度快、能耗低、亮度高等。

通常，有機發光顯示器包括有機發光裝置，有機發光裝置包括陽極、有機發光層和陰極。空穴和電子通過陽極和陰極注入到有機發光層中，并且在有機發光層中復合，以產生激子（電子-空穴對）。激子發出作為光的能量，其中，在激發態返回到基態時放出能量。

陽極和陰極由金屬薄層或透明導電薄層形成。有機發光層由至少一層有機薄層形成。為了在有機發光顯示器上形成有機薄層和金屬薄層，使用沉積設備。沉積設備通常包括填充有沉積材料的坩堝、噴射沉積材料的噴嘴、其上設置有沉積材料的基板和具有開口部分的掩模。

發明內容

本公開提供了一種能夠使用激光掩模將沉積材料沉積在基板上的沉積設備。

本發明構思的實施例提供了一種沉積設備，所述沉積設備包括：真空室；基板，設置在真空室中；沉積源，設置在真空室中并且面對基板，用于將沉積材料提供到基板上；激光振蕩器，產生第一激光束；光學單元，連接到真空室的第一側并使第一激光束分束，以產生多束掩模激光束。掩模激光束照射到真空室中以被設置在基板和沉積源之間，與掩模激光束接觸的沉積材料被氧化，而穿過掩模激光束的沉積材料被沉積在基板上。

掩模激光束設置為沿垂直于基板的方向與基板分隔開。

掩模激光束沿垂直于基板的方向與基板分隔開大約0.1mm到大約1.0mm的距離。

掩模激光束基本上與基板平行地布置并且掩模激光束彼此以規則間隔分隔開。

光學單元包括：擴束器，被構造為使第一激光束擴大；分束器，被構造為使擴大后的第一激光束分束，以產生多束第二激光束；光束控制器，被構造為控制第二激光束中的相應的第二激光束的寬度以及第二激光束之間的距離，以產生掩模激光束。

擴束器包括：凹透鏡，被構造為使第一激光束擴大；凸透鏡，被構造為向分束器提供擴大后的第一激光束。

分束器包括多個透鏡單元，所述多個透鏡單元被構造為使擴大后的第一激光束分束而產生第二激光束。

光束控制器包括多個準直透鏡單元，所述多個準直透鏡單元分別對應于所述多個透鏡單元，每個準直透鏡單元被構造為控制從所述多個透鏡單元中的相應的透鏡單元提供的相應的第二激光束的寬度以及第二激光束之間的距離，以產生掩模激光束。

沉積源包括：坩堝，被構造為加熱填充在坩堝中的沉積材料，以使沉積材料蒸發；多個噴嘴，被構造為將蒸發的沉積材料噴射到基板上。

本發明構思的實施例提供了一種將沉積材料沉積到基板上的方法，所述方法包括：在真空室中設置基板；產生第一激光束；使第一激光束分束，以產生多束掩模激光束；提供沉積材料；將掩模激光束照射到真空室中并照射到沉積材料上，使得與掩模激光束接觸的沉積材料被氧化，而穿過掩模激光束的沉積材料沉積在基板上。

根據上述的，沉積設備可以使用激光掩模將沉積材料沉積在基板上。

附圖說明

當結合附圖考慮時，通過參照以下詳細的描述，本公開的以上和其它優點將變得更加清楚，其中：

圖1是示出了根據本公開實施例的沉積設備的平面圖；

圖2是示出了在圖1中示出的光學單元的構造的視圖；

圖3是沿圖1中示出的I-I′線截取的剖視圖；

圖4是沿圖1中示出的II-II′線截取的剖視圖；

圖5是示出了使用掩模激光束在基板上形成有機發光層的過程的視圖；

圖6是沿圖5中示出的III-III′線截取的剖視圖；

圖7是示出了通過使用根據本公開的實施例的沉積設備形成的有機發光裝置的剖視圖。

具體實施方式