[發(fā)明專利]基板保持裝置、具備其之曝光裝置、方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201310481917.3
• 申請日: 2005-06-08
• 公開（公告）號: CN103558737A
• 公開（公告）日: 2014-02-05
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 柴崎祐一
• 申請（專利權(quán)）人: 尼康股份有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;H01L21/683
• 代理公司: 北京三友知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11127
• 代理人: 任默聞

1.一種基板保持裝置，能相對透過投影光學(xué)系統(tǒng)所照射的曝光用光，保持基板并移動，其特征在于，該基板保持裝置具備：

保持部，保持該基板；

平坦部，設(shè)置成包圍該保持部；以及

回收部，用以回收已滲入形成于被保持在該保持部的該基板與該平坦部之間的間隙的該液體；

該回收部包含多孔體或網(wǎng)構(gòu)件、及滲入該間隙且經(jīng)由該多孔體或該網(wǎng)構(gòu)件的該液體流動的流路。

2.如權(quán)利要求1所述的基板保持裝置，其中，該多孔體設(shè)置在該流路途中。

3.一種基板保持裝置，能相對透過投影光學(xué)系統(tǒng)所照射的曝光用光，保持基板并移動，其特征在于，該基板保持裝置具備：

保持部，保持該基板；

平坦部，設(shè)置成包圍該保持部；以及

回收部，用以回收已滲入形成于被保持在該保持部的該基板與該平坦部之間的間隙的該液體；

該回收部包含流路、透過該流路吸引該液體的吸引裝置、配置于該流路途中以防止該液體往該吸引裝置流入的構(gòu)件。

4.如權(quán)利要求3所述的基板保持裝置，其中，防止該液體流入的構(gòu)件，包含多孔體、網(wǎng)構(gòu)件、氣液分離器或緩沖空間。

5.如權(quán)利要求1所述的基板保持裝置，其中，該流路的口設(shè)置在該平坦部的下方。

6.如權(quán)利要求1所述的基板保持裝置，其具備：

板構(gòu)件，包含該平坦部；以及

板保持部，以該保持部所保持的該基板被該板構(gòu)件包圍的方式保持該板構(gòu)件；

該流路的口設(shè)置在被保持在該板保持部的該板構(gòu)件的背面?zhèn)取?/p>

7.如權(quán)利要求6所述的基板保持裝置，其中，該流路的口設(shè)置在該板保持部的內(nèi)部。

8.一種曝光裝置，其特征在于：

具備權(quán)利要求1至7中任一項所述的基板保持裝置。

9.一種組件制造方法，其特征在于：

使用如權(quán)利要求8所述的曝光裝置。

10.一種液體回收方法，從基板保持裝置回收液體，該基板保持裝置能相對透過投影光學(xué)系統(tǒng)所照射的曝光用光，保持基板并移動，其特征在于：

包含透過多孔體或網(wǎng)構(gòu)件回收已滲入被保持在該基板保持裝置具備的保持部的該基板與以包圍該保持部的方式設(shè)置在該基板保持裝置的平坦部之間的間隙的該液體的動作。

11.如權(quán)利要求10所述的液體回收方法，其包含透過流路回收經(jīng)由該多孔體或該網(wǎng)構(gòu)件的該液體的動作。

12.如權(quán)利要求11所述的液體回收方法，其包含將該多孔體或該網(wǎng)構(gòu)件設(shè)置在該液體的途中的動作。

13.如權(quán)利要求11所述的液體回收方法，其中，該流路的口設(shè)置在該平坦部的下方。

14.一種曝光裝置，透過投影光學(xué)系統(tǒng)與液體使基板曝光，其特征在于：

具備載臺，該載臺具有保持該基板的基板保持部，可相對該投影光學(xué)系統(tǒng)移動；

該載臺包含已滲入被保持在該基板保持部的該基板與該基板保持部周圍的載臺上面之間的間隙的該液體的回收部；

該回收部包含多孔體或網(wǎng)構(gòu)件、及回收滲入該間隙且經(jīng)由該多孔體或該網(wǎng)構(gòu)件的該液體的流路。

15.如權(quán)利要求14所述的曝光裝置，其中，該載臺具有包含該載臺上面且設(shè)成可拆裝的板構(gòu)件、及保持該板構(gòu)件的板保持部；

該流路的回收口設(shè)在該板保持部所保持的該板構(gòu)件的背面?zhèn)取?/p>

16.如權(quán)利要求15所述的曝光裝置，其中，該多孔體或網(wǎng)構(gòu)件設(shè)在該板保持部所保持的該板構(gòu)件的背面?zhèn)取?/p>

17.如權(quán)利要求15所述的曝光裝置，其中，該流路的該回收口設(shè)在該板保持部的內(nèi)部。

18.如權(quán)利要求16所述的曝光裝置，其中，該多孔體或網(wǎng)構(gòu)件設(shè)在該板保持部的內(nèi)部。

19.如權(quán)利要求14所述的曝光裝置，其中，該多孔體或網(wǎng)構(gòu)件設(shè)在該流路的途中。

20.如權(quán)利要求14所述的曝光裝置，其中，該基板保持部包含支撐該基板的支撐部、設(shè)在該支撐部周圍的壁部、及以可吸引該壁部內(nèi)側(cè)的空間內(nèi)的氣體的方式連接于該內(nèi)側(cè)的空間的氣體流路，將該支撐部所支撐的該基板在該內(nèi)側(cè)的空間內(nèi)的氣體透過該氣體流路被吸引而該內(nèi)側(cè)的空間成為負(fù)壓之狀態(tài)下保持。