[發明專利]一種耐低溫鐳射膜工藝

有效

• 申請號: 201310480162.5
• 申請日: 2013-10-15
• 公開（公告）號: CN103538343A
• 公開（公告）日: 2014-01-29
• 發明（設計）人: 鄧剛;俞飚
• 申請（專利權）人: 紹興虎彩激光材料科技有限公司
• 主分類號: B32B37/10
• 分類號: B32B37/10;B32B27/36;B32B27/08;B32B15/20;B32B15/08
• 代理公司: 紹興市越興專利事務所 33220
• 代理人: 蔣衛東

1.一種耐低溫鐳射膜工藝，其特征在于：首先裁切所需要的PET薄膜，在PET薄膜上涂布一層樹脂溶液，樹脂溶液經過涂布烘干后作為承壓層，承壓層經過模壓后有鐳射效果，成為鐳射層，在鐳射層之上真空鍍鋁，最后復卷分切成成品。

2.如權利要求1所述的一種耐低溫鐳射膜工藝，其特征在于：所述樹脂溶液的配料步驟：樹脂原液中加入質量百分比為5%的丙二醇甲醚，攪拌制成。

3.如權利要求2所述的一種耐低溫鐳射膜工藝，其特征在于：所述的樹脂原液中溶劑組份包括丁酮、乙酯、丙酯、丁酯，樹脂組份為丙烯酸類，其中丁酮：乙酯：丙酯：丁酯的質量百分比為10-20%：60-70%:15%：5%。

4.如權利要求2所述的一種耐低溫鐳射膜工藝，其特征在于：當環境溫度≥25℃，配料需攪拌30分鐘；當環境溫度≤25℃，配料需攪拌60分鐘。

5.如權利要求1所述的一種耐低溫鐳射膜工藝，其特征在于：所述樹脂溶液涂布時，設置好進排風風門和烘道溫度，設置好張力系統，樹脂溶液粘度要求15-17s，用小料桶循環涂布并使用溶劑滴加補充裝置補充溶劑；采用200線電雕輥在電暈面涂布，要求濕涂量6±0.5g，涂布樹脂溶液，居中涂布，兩邊留白；涂布溫度80～160℃，速度100m/min，風門位置：進風：50%/50%/100%/100%/100%，排風：50%/50%/100%/100%/100%/100%，回風：全部開到最大，涂布干量控制在0.7-1.0g/m²；關閉涂布頭抽風；涂布頭環境溫度控制20-30℃，控制料槽涂布溶液溫度20-25℃。

6.如權利要求5所述的一種耐低溫鐳射膜工藝，其特征在于：所述的溶劑滴加補充裝置所補充的溶劑為丁酮和丙二醇甲醚，兩者質量比為丁酮：丙二醇甲醚=3：1。

7.如權利要求1所述的一種耐低溫鐳射膜工藝，其特征在于：所述鐳射層，在模壓時需選擇合適的版輥，版輥上固定全息工作版，通過加熱油把版輥上的全息工作版加熱到溫度130±10℃，模壓速度30±10m/min，全息工作版上的全息鐳射信息轉移到涂布承壓層上。

8.如權利要求1所述的一種耐低溫鐳射膜工藝，其特征在于：所述真空鍍鋁，在承壓面鍍上鋁層。