[發(fā)明專利]濾波電容器用高方阻金屬化膜

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201310479776.1
• 申請日: 2013-10-15
• 公開（公告）號: CN103578755A
• 公開（公告）日: 2014-02-12
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 莢朝輝;康仙文
• 申請（專利權(quán)）人: 銅陵其利電子材料有限公司
• 主分類號: H01G4/015
• 分類號: H01G4/015;H01G4/33
• 代理公司: 安徽信拓律師事務(wù)所 34117
• 代理人: 鞠翔

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及電容器技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種濾波電容器用高方阻金屬化膜。

背景技術(shù)

薄膜電容器是一種性能優(yōu)越的電容器，其具有如下主要特性：無極性，絕緣阻抗很高，頻率特性優(yōu)異，介質(zhì)損失很小，并且體積小容量大。因此，薄膜電容器有著較為廣泛的用途，可以形成不同的系列產(chǎn)品，如高比能儲能電容器、抗電磁干擾電容器、抗輻射電容器、安全膜電容器、長壽命電容器、高可靠電容器、高壓全膜電容器等。隨著電子整機向數(shù)字化、高頻化、多功能化以及向薄、輕、小、便攜等方向發(fā)展，電容器不可避免的要向體積小、性能優(yōu)、價格更低的方向發(fā)展。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題在于提供一種自愈性好，使用壽命長的濾波電容器用高方阻金屬化膜。

本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題采用以下技術(shù)方案來實現(xiàn)：

一種濾波電容器用高方阻金屬化膜，包括基膜，所述的基膜上設(shè)置有金屬鍍層，所述金屬鍍層沿基膜寬度方向的一端邊保留一條具有一定寬度的空白留邊，所述金屬鍍層沿基膜寬度方向的另一端邊形成具有一定寬度的邊緣加厚區(qū)，所述邊緣加厚區(qū)與空白留邊之間為非加厚區(qū)，所述邊緣加厚區(qū)的方阻為2-4Ω/□，所述非加厚區(qū)的方阻為6-65Ω/□。

所述非加厚區(qū)由中間區(qū)和邊緣區(qū)構(gòu)成，所述邊緣區(qū)位于空白留邊的一側(cè)。

所述中間區(qū)的方阻為20-30Ω/□。

所述邊緣區(qū)的方阻為50-65Ω/□。

所述金屬鍍層的厚度從加厚區(qū)向空白留邊區(qū)遞減。

本發(fā)明的有益效果是：本發(fā)明具有自愈性好、性能穩(wěn)定、抗電強度高、不易擊穿、生產(chǎn)成本低等許多普通金屬化膜不具有的優(yōu)點，廣泛應(yīng)用于各類電容器的制造，提高了金屬化薄膜電容器的使用壽命，將我國電容器及相關(guān)延伸產(chǎn)品的制造工藝技術(shù)水平和產(chǎn)品質(zhì)量推向了一個新的水平。

附圖說明

圖1為本發(fā)明結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實施方式

為了使本發(fā)明實現(xiàn)的技術(shù)手段、創(chuàng)作特征、達(dá)成目的與功效易于明白了解，下面結(jié)合具體圖示，進(jìn)一步闡述本發(fā)明。

如圖1所示，一種濾波電容器用高方阻金屬化膜，包括基膜10，基膜10上設(shè)置有金屬鍍層20，金屬鍍層20沿基膜10寬度方向的一端邊保留一條具有一定寬度的空白留邊201，金屬鍍層20沿基膜10寬度方向的另一端邊形成具有一定寬度的邊緣加厚區(qū)202，邊緣加厚區(qū)202與空白留邊201之間為非加厚區(qū)203，邊緣加厚區(qū)202的方阻為2-4Ω/□，非加厚區(qū)203的方阻為6-65Ω/□。非加厚區(qū)203由中間區(qū)204和邊緣區(qū)205構(gòu)成，邊緣區(qū)205位于空白留邊201的一側(cè)，中間區(qū)204的方阻為20-30Ω/□，邊緣區(qū)205的方阻為50-65Ω/□。

將活動區(qū)方阻值從加厚區(qū)邊緣到留邊處呈遞增趨勢設(shè)計，金屬鍍層的厚度從加厚區(qū)向空白留邊區(qū)遞減。活動區(qū)方阻與電容器的電流密度分布相適應(yīng)（屏帶處電容器電流密度小，方阻大，加厚區(qū)邊緣處電容器電流密度大，方阻小）。在電流密度小的區(qū)域采用交薄的鍍層（方阻大），由于電流密度大的區(qū)域采用較厚的鍍層（方阻小），用漸變高方阻金屬化膜制成的電容器若有疵點產(chǎn)生時，高方阻處金屬層先自愈，電容器自愈性能及耐壓性能得以提高。

以上顯示和描述了本發(fā)明的基本原理和主要特征和本發(fā)明的優(yōu)點。本行業(yè)的技術(shù)人員應(yīng)該了解，本發(fā)明不受上述實施例的限制，上述實施例和說明書中描述的只是說明本發(fā)明的原理，在不脫離本發(fā)明精神和范圍的前提下，本發(fā)明還會有各種變化和改進(jìn)，這些變化和改進(jìn)都落入要求保護(hù)的本發(fā)明范圍內(nèi)。本發(fā)明要求保護(hù)范圍由所附的權(quán)利要求書及其等效物界定。