[發明專利]N型雙面太陽電池的制作方法無效
| 申請號: | 201310466420.4 | 申請日: | 2013-10-09 |
| 公開(公告)號: | CN103474516A | 公開(公告)日: | 2013-12-25 |
| 發明(設計)人: | 賈河順;姜言森;方亮;任現坤;徐振華;張春艷;馬繼磊 | 申請(專利權)人: | 山東力諾太陽能電力股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L31/18 | 分類號: | H01L31/18 |
| 代理公司: | 濟南舜源專利事務所有限公司 37205 | 代理人: | 宋玉霞 |
| 地址: | 250103 山東省濟南*** | 國省代碼: | 山東;37 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 雙面 太陽電池 制作方法 | ||
1.一種N型雙面太陽電池的制作方法,依次包括以下步驟:
①晶硅表面制絨;
②在晶硅的背面局部印刷遮擋層;
③雙面硼擴散;
④去除遮擋層和硼硅玻璃層;
⑤雙面減反射膜制備;
⑥絲網印刷及燒結。
2.?根據權利要求1所述的N型雙面太陽電池的制作方法,其特征在于,步驟②中在晶硅背面用絲網印刷、噴涂或旋涂方法形成局部遮擋層。
3.?根據權利要求1所述的N型雙面太陽電池的制作方法,其特征在于,步驟②中遮擋層為石蠟和/或氧化硅。
4.?根據權利要求1所述的N型雙面太陽電池的制作方法,其特征在于,步驟④中去除遮擋層用HF、HCl和HNO3混合液進行化學腐蝕。
5.?根據權利要求1所述的N型雙面太陽電池的制作方法,其特征在于,步驟⑤的減反射膜為氮化硅、氧化硅、氧化鋁中的一種或者幾種。
6.?根據權利要求1所述的N型雙面太陽電池的制作方法,其特征在于,步驟⑥中,正面絲網印刷Ag或Al電極。
7.?根據權利要求1所述的N型雙面太陽電池的制作方法,其特征在于,步驟⑥中,在步驟②的遮擋層位置絲網印刷背面電極a。
8.?根據權利要求7所述的N型雙面太陽電池的制作方法,其特征在于,步驟⑥中,在遮擋層之外的位置印刷背面電極b。
9.?根據權利要求7所述的N型雙面太陽電池的制作方法,其特征在于,步驟⑥中,背面電極a為Ag電極,背面電極b為Ag或Al電極。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于山東力諾太陽能電力股份有限公司,未經山東力諾太陽能電力股份有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201310466420.4/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





