[發明專利]一種2-巰基苯并噻唑金屬化合物的合成方法

無效

• 申請號: 201310455655.3
• 申請日: 2013-09-29
• 公開（公告）號: CN103510104A
• 公開（公告）日: 2014-01-15
• 發明（設計）人: 許丹倩;王益鋒;戴金貴;徐群輝;徐振元
• 申請（專利權）人: 浙江工業大學
• 主分類號: C25B3/12
• 分類號: C25B3/12
• 代理公司: 杭州天正專利事務所有限公司 33201
• 代理人: 黃美娟;王曉普

1.一種如式（1）所示的2-巰基苯并噻唑金屬化合物的合成方法，其特征在于所述方法為：以金屬M為犧牲陽極，以惰性材料為陰極，以溶有導電劑的溶劑為電解液，電解液中加入2-巰基苯并噻唑，在電解槽內通直流電，攪拌下進行電解反應，在電解槽中生成沉淀，反應完全后所得懸濁液經后處理制得如式（1）所示的2-巰基苯并噻唑金屬化合物；所述的金屬M為Zn、Cu、Ni、Mn、Fe、Sn或Al；

式（1）中，M為Zn、Cu、Ni、Mn、Fe、Sn或Al，M為Zn、Cu、Ni、Mn、Fe或Sn時，n=2；M為Al時，n=3。

2.如權利要求1所述的2-巰基苯并噻唑金屬化合物的合成方法，其特征在于：所述惰性材料為下列材料之一：鐵、鋁、不銹鋼、鈦、銅、鋅、鎳、錳、錫、鉑或者石墨。

3.如權利要求1或2所述的2-巰基苯并噻唑金屬化合物的合成方法，其特征在于所述的溶劑為下列之一：水、乙腈、丙酮、N,N-二甲基甲酰胺、二甲基亞砜、C1～C6的醇。

4.如權利要求1所述的2-巰基苯并噻唑金屬化合物的合成方法，其特征在于所述的導電劑選自下列之一：LiCl、NH₄Cl、NH₄Br或式a所示的化合物，

式a中，R¹、R²、R³、R⁴各自獨立選自C1～C16的烷基或芐基，X選自下列之一：F、Cl、Br、I、HSO₄、ClO₄、BF₄。

5.如權利要求1所述的方法，其特征在于所述電解液中，導電劑的濃度為0.001～1mol/L。

6.如權利要求1所述的方法，其特征在于所述電解反應的溫度為室溫～100℃。

7.如權利要求1所述的方法，其特征在于所述的導電劑為：氯化銨、四丁基溴化銨、四丁基氯化銨、四乙基硫酸氫銨、三乙基芐基氯化銨、四甲基高氯酸銨、十二烷基三甲基氯化銨或四丁基四氟硼酸銨。

8.如權利要求1所述的方法，其特征在于所述懸濁液后處理方法為：反應結束后，所得懸濁液過濾，濾餅洗滌，干燥制得如式（1）所示的2-巰基苯并噻唑金屬化合物。