[發明專利]抗蝕膜剝離劑

在審

• 申請號: 201310453055.3
• 申請日: 2013-09-27
• 公開（公告）號: CN103543618A
• 公開（公告）日: 2014-01-29
• 發明（設計）人: 楊桂望
• 申請（專利權）人: 楊桂望
• 主分類號: G03F7/42
• 分類號: G03F7/42;C07D235/20
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本發明涉及去除照相平板印刷法(photo-lithography)中所用抗蝕膜(resist)的剝離劑組合物，尤其涉及一種在去除用于布圖金屬布線的抗蝕膜時，能夠降低對金屬布線的腐蝕，且能達到優秀的剝離效果的抗蝕膜剝離劑組合物。

背景技術

通常，抗蝕膜(光致抗蝕膜，photo-resist)是在照相平版印刷工藝中必不可少的物質，而照相平版印刷工藝一般應用于集成電路(integrated?circuit，IC)、大規模集成電路(large?scale?integration，LSI)、超大規模集成電路(very?large?scale?integration，VLSI)等半導體裝置和液晶顯示器、平板顯示器等圖像顯示裝置的制造

然而，在進行照相平板印刷工藝(photo-lithography?processing)之后，抗蝕膜在高溫下被剝離溶液去除，但是在此過程中存在下部金屬膜可能過快地被剝離溶液腐蝕的問題。

即，由于所述抗蝕膜剝離溶液，存在金屬布線的腐蝕程度加快的問題。為了解決上述問題，美國專利第5,417,877號、美國專利第5,556,482號以及日本專利JP1999-375267(日本專利公開第2001-188363號)中公開了用于防止金屬布線腐蝕的抗蝕膜剝離溶液的制備方法。

所述方法是在酰胺(amide)和有機胺(organic?amine)的混合物中添加防蝕劑，將所述混合物作為抗蝕膜剝離溶液來防止金屬布線中金屬的腐蝕，此方法指出了有機胺優選使用單乙醇胺(monoethanolamine)。另外，指出了防蝕劑的適當用量，以及如果超過適當用量時，所述光致抗蝕膜膜的剝離效果將會降低。

另外，常規抗蝕膜剝離溶液中的胺主要使用單乙醇(monoethanolamine)、甲基乙醇胺(methylethanolamine)等一級或二級胺。

然而，所述一級或二級胺具有由于沸點低而成分容易發生變化的缺點，而且經過一段時間后重量及成分因揮發發生變化，因此帶來了在工藝過程中需要更換全部剝離溶液的不便。另外，當所述一級或二級胺不包含防蝕劑時，即使混入少量的水也能使金屬布線嚴重腐蝕。

發明內容

本發明的目的是為了克服現有技術的不足，提供一種在剝離用于布圖電子電路或顯示元件金屬布線的抗蝕膜的過程中，不腐蝕金屬布線，特別是不腐蝕鋁(aluminum)、鉬(molybdenum)、銅(copper)、鈦(titanium)等金屬，且具有優秀的抗蝕膜剝離性的抗蝕膜剝離劑組合物。

為解決上述技術問題，本發明提供了一種新型的抗蝕膜剝離劑，其包括N-乙基氨基甲酸乙酯、乙二醇單丁醚、沒食子酸、有機溶劑和防腐蝕劑。

所述有機溶劑為N-甲基吡咯烷酮、1，3-二甲基-2-咪唑烷酮、二甲基亞砜、二甲基乙酰胺、二甲基甲酰胺、N-甲基甲酰胺、環丁砜、丁基二乙二醇、乙基二乙二醇、甲基二乙二醇、三乙二醇、二乙二醇單乙醚、二乙二醇單丁醚、及其混合物。

所述抗蝕膜剝離劑中各組分的重量份分別為N-乙基氨基甲酸乙酯20重量份～30重量份、乙二醇單丁醚5重量份～10重量份、沒食子酸3～5重量份、有機溶劑60～70重量份和防腐蝕劑5～10重量份。

所述防腐蝕劑由氯化1-羥乙基-3-十六烷基咪唑和式1所示的ω，ω′-雙(苯并咪唑-2-基)烷烴構成，其中，n=8，兩者的質量為1：1～1：2。

其中，所述氯化1-羥乙基-3-十六烷基咪唑的制備方法具體為：

第一步，1-十六烷基咪唑的制備，將1.79的咪唑和3.8mL的溴代十六烷在35mL的乙酸乙酯中混合，磁力攪拌10分鐘混合均勻。將混合物倒入容量為60mL的聚四氟乙烯內襯中，將聚四氟乙烯內襯密封入不銹鋼反應釜內，并放入數字式烘箱內，從室溫加熱至120℃恒溫反應16h后自然冷卻至室溫。然后將混合物過濾取出濾液，用蒸餾水洗滌數次以除去沒有參加反應的咪唑，用旋轉蒸發儀將溶劑乙酸乙酯蒸出，所得產物1-十六烷基咪唑在70℃真空干燥箱中干燥12小時至恒重。得到淡黃色液體，稱量產物；