[發明專利]彩膜基板、顯示面板和彩膜基板的制造方法

在審

• 申請號: 201310452186.X
• 申請日: 2013-09-27
• 公開（公告）號: CN103487984A
• 公開（公告）日: 2014-01-01
• 發明（設計）人: 王燦;陳寧;趙吉生
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司
• 主分類號: G02F1/1335
• 分類號: G02F1/1335;G02F1/1343;G02F1/1333
• 代理公司: 北京天昊聯合知識產權代理有限公司 11112
• 代理人: 彭瑞欣;陳源

1.一種彩膜基板，包括：襯底基板和形成于所述襯底基板上的黑矩陣圖形和彩色矩陣圖形，其特征在于，所述黑矩陣圖形上形成有觸控電極，所述觸控電極上方形成有第一保護層，所述黑矩陣圖形和所述觸控電極之間形成有第二保護層。

2.根據權利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述第一保護層的材料包括有機材料或者無機材料。

3.根據權利要求2所述的彩膜基板，其特征在于，所述第一保護層的材料包括有機材料時，所述第一保護層的厚度為1μm至3μm；所述第一保護層的材料包括無機材料時，所述第一保護層的厚度為至

4.根據權利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述第二保護層的材料包括無機材料或者有機材料。

5.根據權利要求4所述的彩膜基板，其特征在于，所述第二保護層的材料包括無機材料時，所述第二保護層的厚度為至所述第二保護層的材料包括有機材料時，所述第二保護層的厚度為1μm至3μm。

6.根據權利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，還包括：平坦層，所述平坦層形成于所述第一保護層之上。

7.一種顯示面板，包括：相對設置的彩膜基板和陣列基板，其特征在于，所述彩膜基板采用上述權利要求1至6任一所述的彩膜基板。

8.一種彩膜基板的制造方法，其特征在于，包括：

在襯底基板上形成黑矩陣圖形；

在所述襯底基板上形成第二保護層，所述第二保護層位于所述黑矩陣圖形之上；

在所述襯底基板上形成觸控電極，所述觸控電極位于所述黑矩陣圖形的上方；

在所述襯底基板上形成第一保護層，所述第一保護層位于所述觸控電極的上方；

在所述襯底基板上形成彩色矩陣圖形。

9.根據權利要求8所述的彩膜基板的制造方法，其特征在于，所述第一保護層的材料包括有機材料時，所述第一保護層的厚度為1μm至3μm；所述第一保護層的材料包括無機材料時，所述第一保護層的厚度為至

10.根據權利要求8所述的彩膜基板的制造方法，其特征在于，所述第二保護層的材料包括無機材料時，所述第二保護層的厚度為至所述第二保護層的材料包括有機材料時，所述第二保護層的厚度為1μm至3μm。