[發明專利]一種低反射的導電層及其制作方法

有效

• 申請號: 201310447469.5
• 申請日: 2013-09-27
• 公開（公告）號: CN103489504A
• 公開（公告）日: 2014-01-01
• 發明（設計）人: 沈奕;呂岳敏;林鋼;崔衛星;林鏗;陳遠明;張漢焱;黃曉銀
• 申請（專利權）人: 汕頭超聲顯示器(二廠)有限公司
• 主分類號: H01B5/14
• 分類號: H01B5/14;H01B13/00;H01B1/04
• 代理公司: 汕頭市潮睿專利事務有限公司 44230
• 代理人: 林天普;丁德軒

技術領域

本發明涉及一種導電層，尤其涉及一種用于顯示器、觸摸屏等電子器件上低反射的導電層及其制造方法。

背景技術

目前，有人提出一種導電層的制造方法：在透明基板的表面設置一層網狀凹槽，在網狀凹槽中填充入導電材料形成微導線，由此，微導線相互連接而構成一導電網。一般來說，將網狀凹槽的寬度設計為微米或納米以下的級別，并通過控制網狀凹槽的密度，可以得到一種透明且導電性良好的導電層，可用于代替目前的透明導電氧化物膜層(如ITO)，用于顯示器、觸摸屏等電子器件上。

然而，為了使得這種導電層具有良好的導電性，所填充的導電材料一般需要選用反射率較高的銀系納米導電油墨，當這種導電材料填充在上述網狀凹槽中時，雖然微導線依然難以被肉眼發現，但是由于微導線存在較高的反射率(>60%)以及面積比例，依然會造成導電層的整體反射率較高，例如，對于微導線面積比例為5%的導電網絡，由微導線的反射，依然可以造成3%以上的反射率，由此，降低了這種導電層以及采用這種導電層的電子器件在室外環境下的可讀性。

發明內容

本發明要解決的技術問題是提供一種低反射的導電層及其制作方法，這種低反射的導電層能夠大幅度減弱反射光，提高了應用這種低反射的導電層的顯示器、觸摸屏等電子器件在陽光下的可讀性。采用的技術方案如下：

一種低反射的導電層，包括設置在透明基板表面的網狀凹槽，以及填充在網狀凹槽中的導電材料，網狀凹槽中的導電材料形成微導線并相互連接而構成一導電網，其特征為：還包括吸光層，吸光層采用黑色或深色材料制成，吸光層設置在所述導電材料的表面上或凹槽的內壁中。

由于在導電材料的表面上或凹槽的內壁中設置了吸光層，即是在微導線的一側設置了吸光層，吸收掉微導線的反射光，從而大幅度減弱了這種導電層的反射光，提高了應用這種低反射的導電層的顯示器、觸摸屏等電子器件在陽光下的可讀性。

作為本發明的優選方案，所述吸光層的主要成分為碳顆粒。在各種材料中，包含有碳顆粒的導電碳漿不僅具有良好的吸光能力，而且其本身也有一定的導電性和穩定性，因此適合將其加入微導線中而形成一層吸光層。更優選吸光層的主要成分為納米碳顆粒。

作為本發明的優選方案，所述吸光層設置在所述導電材料的表面。

作為本發明的優選方案，所述吸光層設置在所述網狀凹槽的內壁。

一種低反射的導電層的制作方法，其特征為包括以下步驟：

(1)、在透明基板的表面設置網狀凹槽；

(2)、在網狀凹槽中填充導電材料，形成微導線并相互連接而構成一導電網；

(3)、在導電材料的表面上，采用主要成分為碳顆粒的導電碳漿形成一層吸光層。

作為本發明的優選方案，所述吸光層通過刮涂的方式形成。

作為本發明的優選方案，所述吸光層通過沉淀或吸附的方式形成。

一種低反射的導電層的制作方法，其特征為包括以下步驟：

(1)、在透明基板的表面設置網狀凹槽；

(2)、在網狀凹槽的內壁，采用主要成分為碳顆粒的導電碳漿形成一層吸光層；

(3)、進一步在網狀凹槽中填充導電材料，形成微導線并相互連接而構成一導電網。

作為本發明的優選方案，所述吸光層采用刮涂方式進行制作。

作為本發明進一步的優選方案，通過加大刮涂的壓力，而減少吸光層材料的刮涂量。

作為本發明的優選方案，所述吸光層采用固含量小于30%的碳漿涂布而成。

附圖說明

圖1是本發明實施例一的結構示意圖；

圖2是本發明實施例一制造方法的示意圖；

圖3是本發明實施例二的結構示意圖。

具體實施方式

下面結合附圖和發明的優選實施方式做進一步的說明。

實施例一

如圖1所示，這種低反射的導電層，包括設置在透明基板1表面的網狀凹槽2、填充在網狀凹槽2中的導電材料3和吸光層4，網狀凹槽2中的導電材料3形成微導線5并相互連接而構成一導電網，吸光層4由導電碳漿形成，導電碳漿的主要成分為碳顆粒，吸光層4設置在導電材料3的表面上。

如圖1和圖2所示，這種低反射的導電層的制造方法，包括以下步驟：

(1)、在透明基板1的表面設置網狀凹槽2；

(2)、在網狀凹槽2中填充導電材料3，形成微導線4并相互連接而構成一導電網；

(3)、在導電材料3的表面上，采用主要成分為碳顆粒的導電碳漿，并通過刮涂的方式形成一層吸光層4。