[發明專利]一種低反射的導電層及其制作方法有效
| 申請號： | 201310447469.5 | 申請日： | 2013-09-27 |
| 公開（公告）號： | CN103489504A | 公開（公告）日： | 2014-01-01 |
| 發明（設計）人： | 沈奕;呂岳敏;林鋼;崔衛星;林鏗;陳遠明;張漢焱;黃曉銀 | 申請（專利權）人： | 汕頭超聲顯示器(二廠)有限公司 |
| 主分類號： | H01B5/14 | 分類號： | H01B5/14;H01B13/00;H01B1/04 |
| 代理公司： | 汕頭市潮睿專利事務有限公司 44230 | 代理人： | 林天普;丁德軒 |
| 地址： | 515065 廣東省汕*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 反射 導電 及其 制作方法 | ||
1.一種低反射的導電層，包括設置在透明基板表面的網狀凹槽，以及填充在網狀凹槽中的導電材料，網狀凹槽中的導電材料形成微導線并相互連接而構成一導電網，其特征為：還包括吸光層，吸光層采用黑色或深色材料制成，吸光層設置在所述導電材料的表面上或凹槽的內壁中。
2.如權利要求1所述的低反射的導電層，其特征為：所述吸光層的主要成分為碳顆粒。
3.如權利要求1所述的低反射的導電層，其特征為：所述吸光層設置在所述導電材料的表面。
4.如權利要求1所述的低反射的導電層，其特征為：所述吸光層設置在所述網狀凹槽的內壁。
5.如權利要求3所述的低反射的導電層的制作方法，其特征為包括以下步驟：
(1)、在透明基板的表面設置網狀凹槽；
(2)、在網狀凹槽中填充導電材料，形成微導線并相互連接而構成一導電網；
(3)、在導電材料的表面上，采用主要成分為碳顆粒的導電碳漿形成一層吸光層。
6.如權利要求5所述的低反射的導電層的制作方法，其特征為：所述吸光層通過刮涂的方式形成。
7.如權利要求5所述的低反射的導電層的制作方法，其特征為：所述吸光層通過沉淀或吸附的方式形成。
8.如權利要求4所述的低反射的導電層的制作方法，其特征為包括以下步驟：
(1)、在透明基板的表面設置網狀凹槽；
(2)、在網狀凹槽的內壁，采用主要成分為碳顆粒的導電碳漿形成一層吸光層；
(3)、進一步在網狀凹槽中填充導電材料，形成微導線并相互連接而構成一導電網。
9.如權利要求8所述的低反射的導電層的制作方法，其特征為：所述吸光層采用刮涂方式進行制作。
10.如權利要求8所述的低反射的導電層的制作方法，其特征為：所述吸光層采用固含量小于30%的碳漿涂布而成。
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