[發(fā)明專利]一種用于晶圓化學(xué)機(jī)械平坦化設(shè)備中的拋光墊修整器有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201310443621.2 | 申請(qǐng)日: | 2013-09-26 |
| 公開(公告)號(hào): | CN103506956A | 公開(公告)日: | 2014-01-15 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 柳濱;高文泉;陳威;郭強(qiáng)生 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中國(guó)電子科技集團(tuán)公司第四十五研究所 |
| 主分類號(hào): | B24B53/017 | 分類號(hào): | B24B53/017 |
| 代理公司: | 北京中建聯(lián)合知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所 11004 | 代理人: | 朱麗巖 |
| 地址: | 100176 北京市大*** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 用于 化學(xué) 機(jī)械 平坦 設(shè)備 中的 拋光 修整 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及晶圓化學(xué)機(jī)械平坦化(CMP)設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種用于晶圓化學(xué)機(jī)械平坦化設(shè)備中的拋光墊修整器。
背景技術(shù)
隨著大規(guī)模集成電路的發(fā)展,集成度的不斷提高,線寬的不斷減小,對(duì)晶圓的質(zhì)量要求也越來越高,特別是對(duì)晶圓拋光片的表面質(zhì)量要求越來越嚴(yán)格。在晶圓化學(xué)機(jī)械平坦化過程中,拋光墊是除拋光液之外的另一種重要耗材。就拋光墊的應(yīng)用來說,拋光墊材料的化學(xué)特性一般要求拋光墊具備耐酸耐堿,持久穩(wěn)定。但在平坦化過程中,拋光墊表面材質(zhì)易發(fā)生耗損、變形,同時(shí),表面堆積了一定量的化學(xué)反應(yīng)物,如果沒有適當(dāng)?shù)奶幚恚瑨伖鈮|表面將呈現(xiàn)快速老化,造成去除率衰退等現(xiàn)象,而拋光墊的機(jī)械性能會(huì)影響到晶圓表面的平坦度及均勻度,因此為了解決拋光墊的老化問題,平坦化設(shè)備都具備拋光墊修整裝置,具備與拋光過程同步修整或定時(shí)修整的功能。
發(fā)明內(nèi)容
為了更好的解決拋光墊的老化問題,本發(fā)明提出了一種用于晶圓化學(xué)機(jī)械平坦化設(shè)備中的拋光墊修整器。
本發(fā)明采用如下技術(shù)方案:
本發(fā)明的用于晶圓化學(xué)機(jī)械平坦化設(shè)備中的拋光墊修整器包括機(jī)架、底板支撐軸、支撐底板、氣囊、旋轉(zhuǎn)減速器、法蘭盤式減速器、旋轉(zhuǎn)伺服電機(jī)、擺動(dòng)伺服電機(jī)、球頭萬向結(jié)構(gòu)、擺動(dòng)臂、光電傳感器和接近傳感器組成;機(jī)架與支撐底板通過底板支撐軸連接;氣囊位于支撐底板上;接近傳感器位于支撐底板上,支撐底板(103)上設(shè)有杠桿機(jī)構(gòu),擺動(dòng)臂的一端與杠桿機(jī)構(gòu)通過螺釘連接,另一端連接球頭萬向結(jié)構(gòu);旋轉(zhuǎn)減速器位于擺動(dòng)臂上方;旋轉(zhuǎn)伺服電機(jī)位于旋轉(zhuǎn)減速器上方;法蘭盤式減速器位于機(jī)架頂部;光電傳感器位于機(jī)架上方邊緣;擺動(dòng)伺服電機(jī)位于法蘭盤式減速器下方,同時(shí)位于機(jī)架內(nèi)部。
底板支撐軸底部設(shè)有一個(gè)擋片。
擺動(dòng)臂上方靠近支撐底板的一端設(shè)有主動(dòng)帶輪,球頭萬向結(jié)構(gòu)的上方設(shè)有從動(dòng)帶輪,主動(dòng)帶輪和從動(dòng)帶輪之間通過同步帶連接,主動(dòng)帶輪旁邊設(shè)有皮帶預(yù)緊裝置。
球頭萬向結(jié)構(gòu)的下方設(shè)有修整輪。
旋轉(zhuǎn)減速器下方設(shè)有減速器固定架。
杠桿機(jī)構(gòu)和擺動(dòng)臂的連接處設(shè)有杠桿支撐軸。
球頭萬向結(jié)構(gòu)是由球軸承一、球軸承二、密封氈圈、球頭結(jié)構(gòu)和O型圈組成,球頭結(jié)構(gòu)與上方的球軸承二和球軸承一相連,密封氈圈包覆著球軸承二,O型圈位于球軸承一和球軸承二的外側(cè)。
支撐底板的上方設(shè)有后罩,擺動(dòng)臂的上方設(shè)有前罩。
通過杠桿機(jī)構(gòu)對(duì)氣囊充氣以帶動(dòng)擺動(dòng)臂抬升、下降及對(duì)拋光臺(tái)施加修整力,其中接近傳感器可以使控制系統(tǒng)自動(dòng)識(shí)別擺動(dòng)臂處于抬升或下降狀態(tài)。
提供動(dòng)力的氣囊充氣后在體積發(fā)生膨脹的同時(shí)氣囊本身也在其中心軸線上發(fā)生了一定角度的彎曲,這符合結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)的需要。?
采用皮帶輪(主動(dòng)帶輪、從動(dòng)帶輪、同步帶)傳動(dòng)方式將旋轉(zhuǎn)伺服電機(jī)和旋轉(zhuǎn)減速器遠(yuǎn)離拋光區(qū)域放置,以避免因長(zhǎng)期暴露在拋光液環(huán)境中對(duì)旋轉(zhuǎn)伺服電機(jī)和旋轉(zhuǎn)減速器所造成的腐蝕。
整個(gè)拋光墊修整器外部安裝有不銹鋼防護(hù)罩(后罩、前罩)以進(jìn)一步避免內(nèi)部電子元器件的腐蝕。
為了解決修整輪與拋光臺(tái)面的接觸問題,在修整端設(shè)計(jì)有球頭萬向結(jié)構(gòu),以使修整輪在杠桿機(jī)構(gòu)的作用下始終與拋光臺(tái)面保持水平接觸,以致獲得相對(duì)均勻的修整力分布。
采用伺服電機(jī)(擺動(dòng)伺服電機(jī)、旋轉(zhuǎn)伺服電機(jī))實(shí)現(xiàn)修整器擺動(dòng)臂在拋光臺(tái)上的擺動(dòng)以及修整輪的轉(zhuǎn)動(dòng),其中兩個(gè)光電傳感器和一個(gè)擋片可以實(shí)現(xiàn)擺動(dòng)臂在拋光臺(tái)邊緣及在拋光臺(tái)中間位置的限位作用。
本發(fā)明的積極效果如下:
本發(fā)明的拋光墊修整器可以實(shí)現(xiàn)結(jié)構(gòu)和控制方式簡(jiǎn)單,無交叉污染,修整效果好,同時(shí)顯著延長(zhǎng)拋光墊的使用壽命。該裝置采用伺服電機(jī)實(shí)現(xiàn)修整器擺動(dòng)臂在拋光臺(tái)上的擺動(dòng)以及修整輪的轉(zhuǎn)動(dòng),為了獲得較低的擺動(dòng)速度及增大修整扭矩,采用輸出扭矩更大的法蘭輸出型減速器。本裝置主要是通過杠桿機(jī)構(gòu)對(duì)氣囊充氣以帶動(dòng)擺動(dòng)臂抬升、下降及對(duì)拋光臺(tái)施加修整力的,根據(jù)結(jié)構(gòu)需要所用到的氣囊充氣后在體積發(fā)生膨脹的同時(shí)氣囊本身也發(fā)生了一定角度的彎曲。由于拋光液具有一定的腐蝕性,長(zhǎng)期暴露在拋光液環(huán)境中會(huì)對(duì)伺服電機(jī)和減速器造成一定的腐蝕,故采用皮帶輪傳動(dòng)方式將電機(jī)和減速器遠(yuǎn)離拋光區(qū)域放置,同時(shí)整個(gè)修整器外部安裝有不銹鋼防護(hù)罩以進(jìn)一步避免內(nèi)部電子元器件的腐蝕。為了解決修整輪與拋光臺(tái)面的接觸問題,在修整端設(shè)計(jì)有球頭萬向結(jié)構(gòu),以使修整輪在杠桿機(jī)構(gòu)的作用下始終與拋光臺(tái)面保持水平接觸,以致獲得相對(duì)均勻的修整力分布。
附圖說明
圖1為本發(fā)明的拋光墊修整器的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖2為本發(fā)明的拋光墊修整器的結(jié)構(gòu)剖面圖。
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