[發明專利]一種用于晶圓化學機械平坦化設備中的拋光墊修整器有效
| 申請號: | 201310443621.2 | 申請日: | 2013-09-26 |
| 公開(公告)號: | CN103506956A | 公開(公告)日: | 2014-01-15 |
| 發明(設計)人: | 柳濱;高文泉;陳威;郭強生 | 申請(專利權)人: | 中國電子科技集團公司第四十五研究所 |
| 主分類號: | B24B53/017 | 分類號: | B24B53/017 |
| 代理公司: | 北京中建聯合知識產權代理事務所 11004 | 代理人: | 朱麗巖 |
| 地址: | 100176 北京市大*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 用于 化學 機械 平坦 設備 中的 拋光 修整 | ||
1.一種用于晶圓化學機械平坦化設備中的拋光墊修整器,其特征在于:該拋光墊修整器是包括機架(101)、底板支撐軸(102)、支撐底板(103)、氣囊(104)、旋轉減速器(105)、法蘭盤式減速器(202)、旋轉伺服電機(106)、擺動伺服電機(201)、球頭萬向結構(107)、擺動臂(108)、光電傳感器(110)和接近傳感器(203)組成;機架(101)與支撐底板(103)通過底板支撐軸(102)連接;氣囊(104)位于支撐底板(103)上;接近傳感器(203)位于支撐底板(103)上,支撐底板(103)上設有杠桿機構,擺動臂(108)的一端與杠桿機構通過螺釘連接,另一端連接球頭萬向結構(107);旋轉減速器(105)位于擺動臂(108)上方;旋轉伺服電機(106)位于旋轉減速器(105)上方;法蘭盤式減速器(202)位于機架(101)頂部;光電傳感器(110)位于機架(101)上方邊緣;擺動伺服電機(201)位于法蘭盤式減速器(202)下方,同時位于機架(101)內部。
2.如權利要求1所述的拋光墊修整器,其特征在于:?底板支撐軸(102)底部設有一個擋片(109)。
3.如權利要求1所述的拋光墊修整器,其特征在于:?擺動臂(108)上方靠近支撐底板(103)的一端設有主動帶輪(204),球頭萬向結構(107)的上方設有從動帶輪(206),主動帶輪(204)和從動帶輪(206)之間通過同步帶(205)連接,主動帶輪(204)旁邊設有皮帶預緊裝置(208)。
4.如權利要求1所述的拋光墊修整器,其特征在于:?球頭萬向結構(107)的下方設有修整輪(207)。
5.如權利要求1所述的拋光墊修整器,其特征在于:?旋轉減速器(105)下方設有減速器固定架(209)。
6.如權利要求1所述的拋光墊修整器,其特征在于:?杠桿機構和擺動臂(108)的連接處設有杠桿支撐軸(210)。
7.如權利要求1所述的拋光墊修整器,其特征在于:?球頭萬向結構(107)是由球軸承一(301)、球軸承二(302)、密封氈圈(303)、球頭結構(304)和O型圈(305)組成,球頭結構(304)與上方的球軸承二(302)和球軸承一(301)相連,密封氈圈(303)包覆著球軸承二(302),O型圈(305)位于球軸承一(301)和球軸承二(302)的外側。
8.如權利要求1所述的拋光墊修整器,其特征在于:?支撐底板(103)的上方設有后罩(401),擺動臂(108)的上方設有前罩(402)。
9.如權利要求8所述的拋光墊修整器,其特征在于:?后罩(401)和前罩(402)是由不銹鋼材料制成。
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