[發(fā)明專利]電致發(fā)光裝置及其制備方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201310436163.X
• 申請日: 2013-09-23
• 公開（公告）號: CN103474582A
• 公開（公告）日: 2013-12-25
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 程鴻飛;張玉欣
• 申請（專利權(quán)）人: 京東方科技集團股份有限公司
• 主分類號: H01L51/52
• 分類號: H01L51/52;H01L27/32;H01L21/77
• 代理公司: 北京中博世達專利商標代理有限公司 11274
• 代理人: 申健

1.一種電致發(fā)光裝置，包括：彩膜基板；所述彩膜基板包括：基板，設(shè)置于所述基板上的彩色濾光層、第一電極、有機發(fā)光層和第二電極；所述彩色濾光層包括：黑矩陣，由所述黑矩陣分隔開的色阻塊；其特征在于，

所述彩膜基板還包括：凸臺層；所述凸臺層設(shè)置在所述彩色濾光層和所述第一電極之間，且，位于所述色阻塊上方的所述凸臺層向遠離基板的一側(cè)凸起，形成凸臺；

所述第一電極、有機發(fā)光層和第二電極依次設(shè)置在所述凸臺層上，且所述第二電極位于所述凸臺的上方。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述凸臺層的總厚度為2～4微米，所述凸臺的臺階高度為1.5～2.5微米。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述凸臺層選用下述之一材料制成，或者下述多種材料制成的復(fù)合膜層：

氮化硅，氧化硅，或者感光樹脂。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的裝置，其特征在于，所述感光樹脂為：聚丙烯酸類樹脂，或者聚酰亞胺類樹脂，或者聚酰胺類樹脂。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述彩膜基板，還包括：

平坦層，設(shè)置在所述彩色濾光層和所述凸臺層之間。

6.根據(jù)權(quán)利要求1-5任一項所述的裝置，其特征在于，還包括：陣列基板；所述陣列基板包括：第二基板，依次設(shè)置在第二基板上的薄膜晶體管、保護層和連接電極；

所述保護層設(shè)置有保護層過孔，所述連接電極的設(shè)置位置與所述彩膜基板的第二電極相對應(yīng)，所述連接電極通過所述保護層過孔與所述薄膜晶體管的漏極相連。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的裝置，其特征在于，所述連接電極的厚度為0.3～1微米。

8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的裝置，其特征在于，所述連接電極選用下述材料中一種或幾種制成：

銅、鉬、錫、鋁、銀。

9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的裝置，其特征在于，所述保護層選用下述材料中一種或幾種制成：

氮化硅，氧化硅，或者感光樹脂。

10.一種電致發(fā)光裝置的制備方法，包括：彩膜基板制程，其特征在于，所述彩膜基板制程，包括：

步驟1、在基板上形成彩色濾光層，所述彩色濾光層包括：黑矩陣，由所述黑矩陣分隔開的色阻塊；

步驟2、在形成有彩色濾光層的基板上形成凸臺層，并通過構(gòu)圖工藝在色阻塊的上方形成凸臺；

步驟3、在所述凸臺層之上依次形成第一電極、有機發(fā)光層和第二電極，所述第二電極位于所述凸臺的上方。

11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的制備方法，其特征在于，所述凸臺層選用感光樹脂制成時，所述步驟2具體包括：

形成凸臺層；

經(jīng)過曝光、顯影后，在所述色阻塊上方形成凸臺。

12.根據(jù)權(quán)利要求10所述的制備方法，其特征在于，在完成步驟1之后，步驟2之前，還包括：

在設(shè)置有彩色濾光層的基板上形成平坦層。