[發明專利]可識別的具有編碼信息的IC圖案有效
| 申請號: | 201310435219.X | 申請日: | 2013-09-23 |
| 公開(公告)號: | CN103853870B | 公開(公告)日: | 2017-05-24 |
| 發明(設計)人: | 張世明;林子欽;羅仁杰;唐于博;歐宗樺 | 申請(專利權)人: | 臺灣積體電路制造股份有限公司 |
| 主分類號: | G06F17/50 | 分類號: | G06F17/50 |
| 代理公司: | 北京德恒律治知識產權代理有限公司11409 | 代理人: | 章社杲,孫征 |
| 地址: | 中國臺*** | 國省代碼: | 臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 識別 具有 編碼 信息 ic 圖案 | ||
技術領域
本發明涉及半導體技術領域,更具體地,涉及可識別的具有編碼信息的IC圖案。
背景技術
半導體集成電路(IC)工業經歷了指數式增長。IC材料和設計方面的技術進步已產生數代IC,每一代都比之前一代具有更小更復雜的電路。在IC發展的進程中,通常功能密度(即每一芯片面積上互連器件的數量)增大而幾何尺寸(即使用制造工藝可制造的最小部件(或線))卻減小。通常按比例縮小的工藝提供了提高生產效率和降低相關成本的益處。這樣的按比例縮小還增大了加工和制造IC的復雜性,為實現這些改進,在IC加工和制造方面也需要類似的發展。
集成電路布局,也稱為IC布局、掩模布局或者掩模設計,其是集成電路在二維幾何形狀方面的典型,該二維幾何形狀與形成集成電路的部件的金屬、氧化物或者半導體層的圖案相對應。在IC設計的許多步驟(也被稱為“數據準備階段”)和工序中的一系列檢驗(也被稱為“物理驗證”)之后,最終產生了IC布局。驗證過程中最常見的檢查是設計規則檢查(DRC)、布局與原理比較(LVS)、寄生析出(parasitic extraction)、天線規則檢查和電學規則檢查(ERC)。當所有的驗證完成時,IC布局中的數據被轉化為工業標準格式(通常為諸如GDSII或者OASIS的基于矢量的格式)并且被發送到半導體制造廠(稱為車間)。然后制造廠通過掩模數據準備(MDP)程序將數據轉化為一組指令,通過該組指令光掩模寫入器能夠產生在半導體器件制造的光刻工藝中使用的物理掩模(光掩模)。較新的MDP程序需要與用于可制造性的設計(諸如分辨力增強技術(RET)和光學鄰近修正(OPC)))相關的額外步驟。通過使用一系列光掩模以及其他工藝,制造出具有一個或多個管芯(芯片)的晶圓。
為保證制造工序正常進行,在將晶圓或者管芯成為完成的器件之前,檢查或者測試晶圓或者管芯的任何瑕疵或者缺陷是重要的。一些瑕疵或者缺陷可歸因于半導體工藝,一些可歸因于一個或多個光掩模上的瑕疵或者缺陷。因此,確定特定缺陷在IC設計布局上的位置是重要的。當使用標準工藝時,最終的集成電路的表現主要取決于IC布局中幾何形狀的位置和互連。布局設計者的工作是放置并且連接形成芯片的所有部件從而使得它們符合諸如性能、尺寸和可制造性的全部標準。
為此,在許多情況下需要精確地定位IC布局上特定的圖案,這可能是在晶圓或者管芯上所觀察到的一些瑕疵或缺陷的原因。可以從已知的各種量測工具獲得特定圖案的位置信息,然而,這可能并不足夠精確。為了獲得特定圖案的更精確的位置信息,從管芯或晶圓直接獲得的SEM(掃描電子顯微鏡)圖像可以用來提供圖像信息。然而,在許多情況下,如果被檢查和搜尋的IC布局上的區域填充了相似的圖案,諸如CMP(化學機械拋光/平坦化)偽部件,而且SEM圖像上顯示的特定圖案碰巧是這些相似圖案中的一個,則從SEM圖像獲得的這些圖像信息在提供特定圖案的精確位置信息的能力方面仍是有限的。由于偽部件在整個視野或者甚至整個管芯區域中是相同的,因此僅通過從SEM圖像獲得的圖像信息來區分一組偽部件或圖案是極其困難的并且事實上是不可能的。
因此,需要一種生成包含編碼的可視區別(其將被載入到光掩模、晶圓和管芯中)的圖案的方法,使得當需要根據圖像信息(諸如SEM圖像)定位布局上的特定圖案時,可以通過特定編碼的區別來更快更容易地定位。
發明內容
為了解決現有技術中所存在的問題,根據本發明的一個方面,提供了一種以區分其包含的多個相似圖案的方式制造集成電路(IC)設計布局的方法,每一個圖案都包括以基本規律的方式排列的多個基本相同的偽部件,所述方法包括:
確定每一圖案中要偏離的至少一個可調偽部件;
確定錨偽部件的錨組從而定位每一圖案中的所述至少一個可調偽部件,所述錨偽部件的錨組與每一圖案中的所述至少一個可調偽部件具有固定的空間關系;
確定要改變以使所述至少一個可調偽部件偏離的調整參數;
對于每一調整參數,確定所述調整參數可通過其改變的偏差值;以及
對于每一圖案以及其中的每一可調偽部件,通過相應的偏差值以如下方式來改變所述調整參數中的一個或多個:使得不同的圖案可通過具有已改變的調整參數的可調偽部件來區分。
在可選實施例中,所述調整參數選自由寬度、長度、x間距、y間距或者每一可調偽部件的形狀所組成的組。
在可選實施例中,對于每一調整參數,所述偏差值是具有恒定間隔的離散數值。
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