[發明專利]一種臥式多弧鍍膜室

有效

• 申請號: 201310434787.8
• 申請日: 2013-09-24
• 公開（公告）號: CN103469158A
• 公開（公告）日: 2013-12-25
• 發明（設計）人: 關秉羽
• 申請（專利權）人: 遼寧北宇真空科技有限公司
• 主分類號: C23C14/22
• 分類號: C23C14/22
• 代理公司: 鐵嶺天工專利商標事務所 21105
• 代理人: 靳萬清

技術領域

本發明涉及一種臥式多弧鍍膜室。

背景技術

現有技術中的臥式多弧鍍膜室，具有鍍膜室罐體，鍍膜室罐體具有外壁、中間冷卻套層和內壁，鍍膜室罐體的上、下部壁上均布裝有弧源安裝孔，鍍膜室罐體底部具有安裝支架，弧源安裝孔包括與所述鍍膜室罐體外壁相連的安裝外壁、與所述鍍膜室罐體內壁相連的安裝內壁及與所述鍍膜室罐體中間冷卻套層相連通的安裝套層，上述現有技術中的臥式多弧鍍膜室，弧源安裝孔的安裝內壁是焊接在鍍膜室罐體內壁上的，在鍍膜過程中鍍膜室罐體內存在粉塵，粉塵濺落下來容易落入到弧源頭內的金屬塊和屏蔽罩之間造成鍍膜過程中的短路，影響鍍膜室的正常工作。

發明內容

本發明要解決的技術問題是提供一種鍍膜時鍍膜室罐體內的粉塵濺落下來后不會落入到弧源頭中，進而不會因為粉塵污染造成鍍膜過程中短路而影響鍍膜室正常工作的臥式多弧鍍膜室。

為解決上述技術問題，本發明一種臥式多弧鍍膜室，具有鍍膜室罐體，鍍膜室罐體具有外壁、中間冷卻套層和內壁，鍍膜室罐體的上、下部壁上均布裝有弧源安裝孔，鍍膜室罐體底部具有安裝支架，弧源安裝孔包括與所述鍍膜室罐體外壁相連的安裝外壁、與所述鍍膜室罐體內壁相連的安裝內壁及與所述鍍膜室罐體中間冷卻套層相連通的安裝套層，所述安裝內壁伸出所述鍍膜室罐體內壁且伸入到鍍膜室罐體內。

作為本發明的進一步改進，僅是位于所述鍍膜室罐體下部壁上的弧源安裝孔的安裝內壁伸出所述鍍膜室罐體內壁且伸入到鍍膜室罐體內。

采用上述結構的臥式多弧鍍膜室，由于弧源安裝孔的安裝內壁伸出所述鍍膜室罐體內壁且伸入到鍍膜室罐體內，因此在鍍膜過程中鍍膜室罐體內的粉塵濺落下來后受到伸長的安裝內壁的阻擋不會濺落到弧源頭中，不會造成弧源頭內金屬塊和屏蔽罩之間的短路，從而不會影響鍍膜室的正常鍍膜作業。由于粉塵的濺落方向主要是由上至下，位于鍍膜室罐體上部壁上的弧源安裝孔內不易落入灰塵，因此僅是位于所述鍍膜室罐體下部壁上的弧源安裝孔的安裝內壁伸出所述鍍膜室罐體內壁且伸入到鍍膜室罐體內，這樣的結構可以進一步節省加工弧源安裝孔的材料，起到降低生產成本的目的。

附圖說明

下面結合附圖對本發明作進一步地詳細說明。

圖1是本發明一種臥式多弧鍍膜室的主視結構示意圖。

圖2是本發明一種臥式多弧鍍膜室的側視局剖結構示意圖。

圖3是圖2中I處（弧源安裝孔）的放大結構示意圖

圖4是現有技術中臥式多弧鍍膜室的弧源安裝孔的結構示意圖。

具體實施方式

參見圖1－圖3，本發明一種臥式多弧鍍膜室，具有鍍膜室罐體1，鍍膜室罐體1具有外壁2、中間冷卻套層3和內壁4，鍍膜室罐體1的上、下部壁上均布裝有弧源安裝孔5、6，鍍膜室罐體1底部具有安裝支架10，弧源安裝孔5、6包括與所述鍍膜室罐體1外壁2相連的安裝外壁7、與所述鍍膜室罐體1內壁4相連的安裝內壁9及與所述鍍膜室罐體1中間冷卻套層3相連通的安裝套層8，所述安裝內壁9伸出所述鍍膜室罐體1內壁4且伸入到鍍膜室罐體1內。本發明也可以采用僅是位于所述鍍膜室罐體1下部壁上的弧源安裝孔6的安裝內壁9伸出所述鍍膜室罐體1內壁4且伸入到鍍膜室罐體1內。

圖4示出了現有技術中臥式多弧鍍膜室的弧源安裝孔的結構示意圖，現有技術中臥式多弧鍍膜室的弧源安裝孔結構包括與鍍膜室罐體外壁2′相連的安裝外壁7′、與鍍膜室罐體內壁4′相連的安裝內壁9′及與所述鍍膜室罐體中間冷卻套層3′相連通的安裝套層8′，弧源安裝孔的安裝內壁9′是焊接在鍍膜室罐體內壁4′上的，在鍍膜過程中鍍膜室罐體內存在粉塵，粉塵濺落下來容易落入到弧源頭內的金屬塊和屏蔽罩之間造成鍍膜過程中的短路。