[發明專利]晶圓表面顆粒物的缺陷檢測系統及其工作方法

有效

• 申請號: 201310432323.3
• 申請日: 2013-09-22
• 公開（公告）號: CN103489809A
• 公開（公告）日: 2014-01-01
• 發明（設計）人: 郭賢權;許向輝;顧珍
• 申請（專利權）人: 上海華力微電子有限公司
• 主分類號: H01L21/66
• 分類號: H01L21/66
• 代理公司: 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙) 31237
• 代理人: 陸花

技術領域

本發明涉及半導體技術領域，特別涉及晶圓表面顆粒物的缺陷檢測系統及其工作方法。

背景技術

隨著晶圓的尺寸越來越大和關鍵尺寸越來越小，晶圓背面的缺陷越來越受到重視，因為晶圓背面的缺陷會對光刻機的工藝產生影響。現有技術的晶圓表面顆粒物缺陷檢測系統，在晶圓背面掃描后，對于晶圓背面缺陷的目檢，卻只能通過相關人員手動操作。易對晶圓造成損壞，故不宜長久進行人工操作。

因此，需要對現有的晶圓表面顆粒物缺陷檢測系統進行改造，使之能具備晶圓背面的缺陷的自動目檢功能，讓晶背缺陷掃描目檢更自動化、全面化，減少人工操作對晶圓的損壞。

發明內容

本發明解決的問題是提供一種晶圓表面顆粒物的缺陷檢測系統及其工作方法，該系統能丟晶圓背面的缺陷進行自動目檢，讓晶背缺陷掃描目檢更自動化、全面化，減少人工操作對晶圓的損壞。

為解決上述問題，本發明提供一種晶圓表面顆粒物的缺陷檢測系統，包括：

晶圓掃描裝置，用于對晶圓背面的顆粒進行掃描；

晶圓翻轉裝置，用于對晶圓進行翻轉，使得晶圓背面向上，以供所述晶圓掃描裝置進行掃描；

光學目檢裝置，用于對晶圓背面的顆粒進行目檢；

晶圓傳輸裝置，用于在所述晶圓掃描裝置、晶圓翻轉裝置和光學目檢裝置之間傳輸晶圓。

可選地，所述光學目檢裝置包括：

可移動載物臺，用于承載晶圓；

汞燈光學放大鏡，用于對晶圓的背面進行目檢；

控制模塊，用于控制所述可移動載物臺和汞燈光學放大鏡進行工作；

數據傳輸模塊，用于將汞燈光學放大鏡的目檢結果向外部進行傳輸。

可選地，所述汞燈光學放大鏡包括亮場和/或暗場。

可選地，所述汞燈光學放大鏡的放大倍率包括三級。

可選地，所述汞燈光學放大鏡的放大倍率包括：100倍的一級，500倍的二級，1000倍的三級。

可選地，所述控制模塊用于設定對晶圓的背面目檢的規則。

可選地，所述控制模塊設定對晶圓的背面檢測的規則為缺陷尺寸從大到小，亮場自動檢測50顆，光學顯微鏡放大倍率為自動調節。

可選地，所述光學目檢裝置在所述晶圓掃描裝置對晶圓背面掃描后，對晶圓背面進行目檢。

可選地，所述晶圓掃描裝置、晶圓翻轉裝置和光學目檢裝置圍繞所述晶圓傳輸裝置設置。

可選地，包括：

提供晶圓至晶圓傳輸裝置，所述晶圓正面向上；

利用晶圓傳輸裝置將所述晶圓傳輸至晶圓翻轉裝置；

利用晶圓翻轉裝置將晶圓背面向上；

利用晶圓傳輸裝置將所述背面向上的晶圓從所述晶圓翻轉裝置傳輸至晶圓掃描裝置；

利用所述晶圓掃描裝置對晶圓背面進行掃描；

在晶圓背面掃描結束后，利用晶圓傳輸裝置將晶圓傳輸至光學目檢裝置，對晶圓進行光學目檢。

與現有技術相比，本發明具有以下優點：

本發明提供的晶圓表面顆粒物的缺陷檢測系統，能夠在晶圓背面掃描后，對晶圓背面進行自動目檢，使得晶背缺陷掃描目檢更自動化、全面化，減少人工操作對晶圓的損壞；

進一步優化地，所述光學目檢裝置包括：數據傳輸模塊，能夠將目檢結果向外部傳輸，便于對缺陷進行分析和判斷；

進一步優化地，所述汞燈光學放大鏡包括亮場和/或暗場，以及所述汞燈光學放大鏡的放大倍率包括三級，保證了目檢的全面性和準確性；

進一步優化地，所述控制模塊用于設定對晶圓的背面目檢的規則，可預先通過控制模塊設定目檢規則；

可選地，所述晶圓掃描裝置、晶圓翻轉裝置和光學目檢裝置圍繞所述晶圓傳輸裝置設置，該多個裝置共用一個晶圓傳輸裝置，使得整個晶圓表面顆粒物的缺陷檢測系統更加緊湊和集中。

附圖說明

圖1是本發明一個實施例的晶圓表面顆粒物的缺陷檢測系統的結構示意圖；

圖2是本發明一個實施例的晶圓表面顆粒物的缺陷檢測系統的工作方法流程示意圖。

具體實施方式

現有技術的晶圓表面顆粒物缺陷檢測系統，在晶圓背面掃描后，對于晶圓背面缺陷的目檢，卻只能通過相關人員手動操作。易對晶圓造成損壞，故不宜長久進行人工操作。

為解決上述問題，本發明提供一種晶圓表面顆粒物的缺陷檢測系統，請參考圖1所示的本發明一個實施例的晶圓表面顆粒物的缺陷檢測系統的結構示意圖，所述晶圓表面顆粒物的檢測系統包括：

晶圓掃描裝置30，用于對晶圓背面的顆粒進行掃描；