[發(fā)明專利]金屬遮罩

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201310424966.3
• 申請日: 2013-09-17
• 公開（公告）號: CN103572205A
• 公開（公告）日: 2014-02-12
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 許桀豪;謝豐仰
• 申請（專利權(quán)）人: 景智電子股份有限公司
• 主分類號: C23C14/04
• 分類號: C23C14/04
• 代理公司: 北京律誠同業(yè)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11006
• 代理人: 梁揮;祁建國

1.一種金屬遮罩，供蒸鍍制作工藝使用，其特征在于，包含：

一遮罩區(qū)段，具有至少一遮罩本體以及一外框部圍繞連接該遮罩本體；以及

至少一端部區(qū)段，連接該遮罩區(qū)段的一端；

其中，該遮罩區(qū)段及該端部區(qū)段至少其一上形成有至少一凹陷部位于該遮罩本體之外，這些凹陷部內(nèi)的容積總和與該遮罩區(qū)段及這些端部區(qū)段的體積總和的比值介于0.087至0.667之間。

2.如權(quán)利要求1所述的金屬遮罩，其特征在于，這些凹陷部包含至少一遮罩區(qū)段凹陷部形成于該外框部的表面，這些遮罩區(qū)段凹陷部內(nèi)的容積總和與該遮罩區(qū)段的體積的比值介于0.087至0.667之間。

3.如權(quán)利要求2所述的金屬遮罩，其特征在于，該遮罩區(qū)段形成為長條形，部分這些遮罩區(qū)段凹陷部沿該遮罩區(qū)段的延長方向延伸并位于該遮罩本體的兩側(cè)。

4.如權(quán)利要求2所述的金屬遮罩，其特征在于，該遮罩區(qū)段形成為長條形，部分這些遮罩區(qū)段凹陷部橫切該遮罩區(qū)段的延長方向延伸并位于相鄰該遮罩本體之間。

5.如權(quán)利要求1所述的金屬遮罩，其特征在于，這些凹陷部包含至少一端部區(qū)段凹陷部形成于該端部區(qū)段的表面，這些端部區(qū)段凹陷部內(nèi)的容積總和與該端部區(qū)段的體積的比值介于0.087至0.667之間。

6.如權(quán)利要求1所述的金屬遮罩，其特征在于，該遮罩區(qū)段及該端部區(qū)段具有共同的一蒸鍍面及與該蒸鍍面相背的一背面，至少部分該凹陷部形成于該蒸鍍面上。

7.如權(quán)利要求1所述的金屬遮罩，其特征在于，該遮罩區(qū)段及該端部區(qū)段具有共同的一蒸鍍面及與該蒸鍍面相背的一背面，至少部分該凹陷部形成于該背面上。

8.如權(quán)利要求1所述的金屬遮罩，其特征在于，該遮罩區(qū)段及該端部區(qū)段具有共同的一蒸鍍面及與該蒸鍍面相背的一背面，至少部分該凹陷部內(nèi)含多個穿孔貫穿該蒸鍍面及該背面。

9.如權(quán)利要求1所述的金屬遮罩，其特征在于，該遮罩區(qū)段及該端部區(qū)段具有共同的一蒸鍍面及與該蒸鍍面相背的一背面，至少部分該凹陷部形成于該蒸鍍面上，至少部分該凹陷部形成于該背面上并與形成于該蒸鍍面上的這些凹陷部相對。

10.如權(quán)利要求9所述的金屬遮罩，其特征在于，分別形成于該蒸鍍面及該背面的相對這些凹陷部具有相異深度。

11.如權(quán)利要求1所述的金屬遮罩，其特征在于，該遮罩區(qū)段及該端部區(qū)段具有共同的一蒸鍍面及與該蒸鍍面相背的一背面，相鄰的這些凹陷部分別形成于該蒸鍍面及該背面上。

12.如權(quán)利要求1所述的金屬遮罩，其特征在于，該遮罩區(qū)段及該端部區(qū)段具有共同的一蒸鍍面及與該蒸鍍面相背的一背面，相鄰的這些凹陷部分別形成于該蒸鍍面及該背面之一上及具有多個穿孔貫穿該蒸鍍面及該背面。