[發明專利]一種基于數值選擇函數的半導體工藝角掃描仿真方法

有效

• 申請號: 201310420148.6
• 申請日: 2013-09-16
• 公開（公告）號: CN103440391B
• 公開（公告）日: 2017-01-18
• 發明（設計）人: 吳邊
• 申請（專利權）人: 卓捷創芯科技(深圳)有限公司;無錫智速科技有限公司
• 主分類號: G06F17/50
• 分類號: G06F17/50
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種基于數值選擇函數的半導體工藝角掃描仿真方法，其特征在于，包括如下步驟：

（1）定義數值選擇函數，所述數值選擇函數中，以代表工藝角的自然數為第一自變量，以半導體工藝生產線廠商的器件模型在所列舉的工藝角條件下的參數值為其余自變量，且所述半導體工藝生產線廠商的器件模型在所列舉的工藝角條件下的參數值為待返回的函數數值，即：

器件模型參數值=f(工藝角自然數,參數值1,參數值2，…，參數值n)，

其中等式右邊的函數“f”為數值選擇函數，所述數值選擇函數的返回值根據第一自變量的取值進行選擇操作，操作得到的數值經等號“=”被賦予等式左邊的器件模型參數；

（2）將上述數值選擇函數中的第一自變量，即工藝角自然數，作為用戶設定的設計變量加入至仿真程序掃描設置中，運行仿真程序并在仿真中逐個掃描所述工藝角自然數的數值；

（3）仿真輸出以所述工藝角自然數為自變量，以器件模型在該工藝角下的參數值，或仿真電路在該工藝角下的性能響應值為應變量的波形曲線圖。

2.根據權利要求1所述的基于數值選擇函數的半導體工藝角掃描仿真方法，其特征在于，在所述步驟（1）之后，將半導體工藝生產線廠商所提供的器件模型文件中所有與工藝角相關的器件參數名和參數值分別代入步驟（1）所定義的數值選擇函數中，形成一個二維表格式數值選擇函數組。

3.根據權利要求1所述的基于數值選擇函數的半導體工藝角掃描仿真方法，其特征在于，所述數值選擇函數的第一自變量為自變量參數關鍵字。

4.根據權利要求1所述的基于數值選擇函數的半導體工藝角掃描仿真方法，其特征在于，所述數值選擇函數的其余自變量為參數值1,參數值2,參數值3,參數值4和參數值5，其中，第二自變量，即參數值1，為典型工藝角下的器件參數值，第三自變量，即參數值2，為極快工藝角下的器件參數值，第四自變量，即參數值3，為極慢工藝角下的器件參數值，第五自變量，即參數值4，為快慢工藝角下的器件參數值，第六自變量，即參數值5，為慢快工藝角下的器件參數值。