[發(fā)明專利]一種ITO表面微納米結(jié)構(gòu)處理方法

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201310420064.2
• 申請日: 2013-09-12
• 公開（公告）號: CN103474343A
• 公開（公告）日: 2013-12-25
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 郁彬
• 申請（專利權(quán)）人: 昆山奧德魯自動化技術(shù)有限公司
• 主分類號: H01L21/308
• 分類號: H01L21/308;H01L33/10;H01L33/22
• 代理公司: 南京蘇高專利商標(biāo)事務(wù)所(普通合伙) 32204
• 代理人: 柏尚春

1.一種ITO表面微納米結(jié)構(gòu)處理方法，其特征在于包括以下步驟：

（1）將清洗后的外延片進(jìn)行ITO蒸鍍；

（2）將表面鍍有ITO的外延片送至黃光進(jìn)行勻膠，利用接近式曝光方式，將掩模版表面的微納米結(jié)構(gòu)復(fù)制至膠體表面，最后進(jìn)行顯影；

（3）將顯影后的成品進(jìn)行ITO濕法刻蝕，為了更好的將上述圖形刻蝕干凈，在這里采用分步刻蝕的方式進(jìn)行處理；

（4）濕法刻蝕完畢后，去除ITO表面的膠體，再將上述產(chǎn)品送至BOE槽體進(jìn)行濕法刻蝕，其溶液溫度為常溫，時間為25-40s，刻蝕時，需上下震蕩產(chǎn)品。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種ITO表面微納米結(jié)構(gòu)處理方法其特征在于：所述步驟（3）中分步刻蝕方式為：第一步刻蝕時，ITO刻蝕液溫度為45℃～50℃，刻蝕時間為30-45s，第二部刻蝕時，ITO刻蝕液溫度為室溫，刻蝕時間為30-45s。