[發明專利]激光干涉拋物面對稱測量裝置

有效

• 申請號: 201310417959.0
• 申請日: 2013-09-13
• 公開（公告）號: CN103499307A
• 公開（公告）日: 2014-01-08
• 發明（設計）人: 薛黎明;劉伯昂
• 申請（專利權）人: 中海陽能源集團股份有限公司
• 主分類號: G01B11/24
• 分類號: G01B11/24
• 代理公司: 北京中創陽光知識產權代理有限責任公司 11003
• 代理人: 尹振啟

技術領域

本發明涉及一種反射鏡曲面測量裝置，尤其是一種激光干涉拋物面對稱測量裝置。

背景技術

作為新能源行業的重要組成部分的太陽能發電產業，聚光熱發電是具有很大潛力和經濟技術競爭優勢的項目，未來的發展前途廣闊。其裝置的聚光反射鏡組件在建設發電站所需設備中使用量最大，在大規模的反射鏡組件生產過程中，如何使在線檢測的速度與生產成品的速度相匹配，即在不影響生產產量的同時有效提高整個系統的合格品分揀率，成為了問題的關鍵。一般的曲面檢查通常是整個曲面的普查即逐點逐面的掃描檢測，雖然每一面所用時不一定很長但累計相加起來就是時間上的浪費。

發明內容

針對現有技術存在的問題，本發明的目的在于提供一種結構簡單、可利用反射鏡單元對稱性對單元逐段曲面進行制造精度測量的激光干涉拋物面對稱測量裝置。

為實現上述目的，本發明激光干涉拋物面對稱測量裝置，包括測試搭載部和檢測部，其中，測試搭載部包括標準反射鏡單元和用于接收干涉圖樣的截取屏，檢測部包括光柵屏和固定于其上的激光柱狀光源，激光柱狀光源設置在光柵屏的中間對稱面上，并且，待測反射鏡單元與標準反射鏡單元也以中間對稱面對稱安裝；以中間對稱面為對稱，光柵屏上設置有若干對相互平行且能夠獨立開閉的光柵，一對相互對稱的光柵分別對應于待測反射鏡單元、標準反射鏡單元上相同的曲率片段，若干對相互對稱的光柵分別依次對應于鏡面上的不同曲率片段；各個曲率片段反射光透過光柵后在截取屏上形成干涉條紋或像，依據條紋對稱性或像的位置做出判斷，確定待測反射鏡單元與標準反射鏡單元在相同曲率片段上的曲面加工誤差。

進一步，所述標準反射鏡單元、待測反射鏡單元均固定安裝在鏡支架上形成柱形拋物面的兩個對稱反射瓣。

進一步，所述光柵屏與截取屏相互平行搭載于運載平臺上，運載平臺能夠做三維空間調整定位。

進一步，所述激光柱狀光源中心設置與所述標準反射鏡單元、待測反射鏡單元的焦軸重合，其發光光譜能夠預設調節。

進一步，所述光柵屏朝向所述標準反射鏡單元的一面設置為吸光面，所述光柵的中心線設置在所述中間對稱面內，面積大于并覆蓋反射鏡開口。

進一步，所述激光柱狀光源的發射頻譜、所述光柵屏上的光柵密度及狹縫寬度、所述光柵屏與所述截取屏間的距離按雙縫干涉、單縫衍射及小孔成像等原理條件對應設置。

進一步，所述截取屏朝向所述光柵屏的一側設置若干個激光頻譜功率傳感單元，并對應設置沿槽式拋物面的聚焦軸方向排列的刻度線。

進一步，所述測量裝置設置在暗室中工作。

本發明應用槽式拋物面反射鏡、雙縫干涉的光反射、衍射及干涉原理，激光柱面波通過兩半對稱的反射鏡單元反射產生平行光束，而后通過光柵屏上逐對狹縫發生干涉并于截取屏上產生條紋，根據此條文的對稱性和功率分布來判斷待測反射鏡單元逐段曲面與標準的差異，以達到通過對稱反射逐段檢測曲面誤差的目的。

附圖說明

圖1為本發明剖面結構示意圖。

具體實施方式

下面，參考附圖，對本發明進行更全面的說明，附圖中示出了本發明的示例性實施例。然而，本發明可以體現為多種不同形式，并不應理解為局限于這里敘述的示例性實施例。而是，提供這些實施例，從而使本發明全面和完整，并將本發明的范圍完全地傳達給本領域的普通技術人員。

為了易于說明，在這里可以使用諸如“上”、“下”“左”“右”等空間相對術語，用于說明圖中示出的一個元件或特征相對于另一個元件或特征的關系。應該理解的是，除了圖中示出的方位之外，空間術語意在于包括裝置在使用或操作中的不同方位。例如，如果圖中的裝置被倒置，被敘述為位于其他元件或特征“下”的元件將定位在其他元件或特征“上”。因此，示例性術語“下”可以包含上和下方位兩者。裝置可以以其他方式定位（旋轉90度或位于其他方位），這里所用的空間相對說明可相應地解釋。

如圖1所示，本發明激光干涉拋物面對稱測量裝置，包括測試搭載部和檢測部，其中，測試搭載部包括用于固定待測反射鏡單元4的鏡支架2、截取屏9及標準反射鏡單元8，在暗室測試時，標準反射鏡單元8和待測反射鏡單元4分別安裝于鏡支架2上形成柱形拋物面的兩個對稱反射瓣。檢測部包括光柵屏7和固定于其上的激光柱狀光源3，光柵屏7與接收干涉圖樣的截取屏9相互平行搭載于運載平臺10上，運載平臺10可做三維空間調整定位。激光柱狀光源3的中心與槽式反射鏡焦軸重合，其發光光譜設置為預設可調。