[發明專利]激光干涉拋物面對稱測量裝置

有效

• 申請號: 201310417959.0
• 申請日: 2013-09-13
• 公開（公告）號: CN103499307A
• 公開（公告）日: 2014-01-08
• 發明（設計）人: 薛黎明;劉伯昂
• 申請（專利權）人: 中海陽能源集團股份有限公司
• 主分類號: G01B11/24
• 分類號: G01B11/24
• 代理公司: 北京中創陽光知識產權代理有限責任公司 11003
• 代理人: 尹振啟

1.激光干涉拋物面對稱測量裝置，其特征在于，該測量裝置包括測試搭載部和檢測部，其中，測試搭載部包括標準反射鏡單元和用于接收干涉圖樣的截取屏，檢測部包括光柵屏和固定于其上的激光柱狀光源，激光柱狀光源設置在光柵屏的中間對稱面上，并且，待測反射鏡單元與標準反射鏡單元也以中間對稱面對稱安裝；以中間對稱面為對稱，光柵屏上設置有若干對相互平行且能夠獨立開閉的光柵，一對相互對稱的光柵分別對應于待測反射鏡單元、標準反射鏡單元上相同的曲率片段，若干對相互對稱的光柵分別依次對應于鏡面上的不同曲率片段；各個曲率片段反射光透過光柵后在截取屏上形成干涉條紋或像，依據條紋對稱性或像的位置做出判斷，確定待測反射鏡單元與標準反射鏡單元在相同曲率片段上的曲面加工誤差。

2.如權利要求1所述的激光干涉拋物面對稱測量裝置，其特征在于，所述標準反射鏡單元、待測反射鏡單元均固定安裝在鏡支架上形成柱形拋物面的兩個對稱反射瓣。

3.如權利要求1所述的激光干涉拋物面對稱測量裝置，其特征在于，所述光柵屏與截取屏相互平行搭載于運載平臺上，運載平臺能夠做三維空間調整定位。

4.如權利要求1所述的激光干涉拋物面對稱測量裝置，其特征在于，所述激光柱狀光源中心設置與所述標準反射鏡單元、待測反射鏡單元的焦軸重合，其發光光譜能夠預設調節。

5.如權利要求1所述的激光干涉拋物面對稱測量裝置，其特征在于，所述光柵屏朝向所述標準反射鏡單元的一面設置為吸光面，所述光柵的中心線設置在所述中間對稱面內，面積大于并覆蓋反射鏡開口。

6.如權利要求1所述的激光干涉拋物面對稱測量裝置，其特征在于，所述激光柱狀光源的發射頻譜、所述光柵屏上的光柵密度及狹縫寬度、所述光柵屏與所述截取屏間的距離按雙縫干涉、單縫衍射及小孔成像等原理條件對應設置。

7.如權利要求1所述的激光干涉拋物面對稱測量裝置，其特征在于，所述截取屏朝向所述光柵屏的一側設置若干個激光頻譜功率傳感單元，并對應設置沿槽式拋物面的聚焦軸方向排列的刻度線。

8.如權利要求1所述的激光干涉拋物面對稱測量裝置，其特征在于，所述測量裝置設置在暗室中工作。