[發明專利]包括防沉積單元的薄膜沉積裝置及其去除沉積物的方法

有效

• 申請號: 201310412327.5
• 申請日: 2013-09-11
• 公開（公告）號: CN103981489B
• 公開（公告）日: 2018-09-21
• 發明（設計）人: 許明洙;金善浩;趙喆來;朱儇佑
• 申請（專利權）人: 三星顯示有限公司
• 主分類號: C23C14/22
• 分類號: C23C14/22
• 代理公司: 北京英賽嘉華知識產權代理有限責任公司 11204
• 代理人: 余朦;劉錚

1.一種薄膜沉積裝置，包括：

腔室；

沉積單元，設置在所述腔室中并且被配置為將原料沉積到基板上；以及

防沉積單元，設置在所述腔室中，并且包括至少一個防沉積板和耦合到所述防沉積板的一個表面上的變形單元，所述變形單元包括由于外部應力能量導致變形的材料，

其中，所述變形單元包括形狀記憶合金，

所述變形單元具有線形狀并且與所述防沉積板的所述一個表面接觸，

所述至少一個防沉積板包括第一防沉積板和第二防沉積板，并且，

所述變形單元被設置在所述第一防沉積板與所述第二防沉積板的相對的表面之間。

2.如權利要求1所述的薄膜沉積裝置，其中，

所述至少一個防沉積板包括金屬板。

3.如權利要求1所述的薄膜沉積裝置，其中，

所述變形單元的外表面與所述第一防沉積板和所述第二防沉積板的相對的表面接觸。

4.如權利要求1所述的薄膜沉積裝置，其中，

所述防沉積單元被設置在所述腔室與成膜區域之間，成膜層待形成在所述成膜區域中。

5.一種去除薄膜沉積裝置的沉積物的方法，所述方法包括：

從所述薄膜沉積裝置的腔室分離防沉積單元，所述防沉積單元包括至少一個防沉積板和耦合到所述至少一個防沉積板的外表面上的變形單元；以及

從所述防沉積板去除成膜層。

6.如權利要求5所述的方法，其中，

所述至少一個防沉積板包括第一防沉積板和第二防沉積板，并且，

所述變形單元被設置在所述第一防沉積板與所述第二防沉積板的相對的表面之間。

7.如權利要求6所述的方法，其中，

所述變形單元包括形狀記憶合金。

8.如權利要求7所述的方法，其中，

所述變形單元具有線形狀，并且所述變形單元的外表面與所述第一防沉積板和所述第二防沉積板的相對的表面接觸。

9.如權利要求5所述的方法，其中，所述從所述防沉積板去除所述成膜層的步驟包括：

將所述防沉積單元載入到恒溫槽中；

分離所述成膜層的多個部分與所述防沉積單元之間的界面；

通過使用氣體吹掃工藝從所述防沉積單元去除所述成膜層；以及

從所述恒溫槽取出所述防沉積單元。

10.如權利要求9所述的方法，其中，

所述恒溫槽被維持在高于或等于使所述變形單元變形的溫度。

11.如權利要求9所述的方法，進一步包括：

在取出所述防沉積單元之后執行洗滌工藝和烘干工藝。

12.如權利要求5所述的方法，進一步包括：

將所述防沉積單元安裝在所述腔室中；以及

通過設置在所述腔室中的沉積單元將沉積用原料沉積到基板上。