[發(fā)明專利]一種泡沫硅反射鏡及其制備方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201310412181.4 | 申請(qǐng)日: | 2013-09-11 |
| 公開(公告)號(hào): | CN103728682B | 公開(公告)日: | 2017-02-01 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 陳照峰;聶麗麗 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 太倉派歐技術(shù)咨詢服務(wù)有限公司 |
| 主分類號(hào): | G02B5/08 | 分類號(hào): | G02B5/08;G02B1/10 |
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| 地址: | 215400 江蘇*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 泡沫 反射 及其 制備 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種反射鏡及其制備方法,特別是涉及一種泡沫硅反射鏡及其制備方法。
背景技術(shù)
隨著空間領(lǐng)域競爭的加劇,世界各強(qiáng)國都投入大量人力、物力來發(fā)展相關(guān)技術(shù)。空間飛行器的主要作用之一是收集信息,因此對(duì)空間光學(xué)系統(tǒng)的性能展開研究具有重要意義。空間望遠(yuǎn)鏡通常是采用反射式結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),其中主反射鏡是整個(gè)光學(xué)系統(tǒng)的核心部件。空間望遠(yuǎn)鏡主反射鏡設(shè)計(jì)的趨勢是大面積、低比重,同時(shí)要求反射鏡材料具有優(yōu)異的機(jī)械性能和熱物理性能。
公開號(hào)為1576902的中國發(fā)明專利了提供了一種高反射鏡。該高反射鏡在可見光區(qū)域具有高反射率,耐濕性和耐鹽水性等的耐久性優(yōu)異,并且入射角依存性小(光的入射角很難引起反射率的變動(dòng))。它是在基板上,以銀膜、低折射率膜、高折射率膜的順序進(jìn)行層壓而成的高反射鏡,其特征在于,在銀膜的基板相反的一側(cè)形成粘附改善膜,低折射率和高折射率膜的消光系數(shù)均小于或等于0.01,粘附改善膜為氧化物膜且消光系數(shù)小于或等于0.1。
公開號(hào)為102119304A的中國發(fā)明專利公開了一種反射鏡。該反射鏡組件包括反射鏡和面對(duì)面板,在反射鏡和面對(duì)面板之間具有密封氣體空間。反射鏡可以是:包括玻璃基片、銀涂層、及至少一個(gè)涂料層的反射鏡;或者包括粘結(jié)到基片上的有機(jī)反射鏡膜的反射鏡。在玻璃反射鏡的情況下,至少一個(gè)涂料層面對(duì)密封氣體空間,而在包括有機(jī)反射鏡膜的反射鏡的情況下,反射鏡膜面對(duì)密封氣體空間。
雖然可供制造光學(xué)反射鏡的候選材料很多,但是考慮到太空環(huán)境的嚴(yán)酷性,實(shí)際應(yīng)用比較多的是金屬鋁、金屬鈹、金屬鎳、光學(xué)玻璃、硅和碳化硅等材料。為滿足應(yīng)用需求,空間反射鏡向著大口徑、長焦距、高光學(xué)性能的趨勢發(fā)展,Si和SiC材料憑借其在物理特性、機(jī)械性能、熱性能等方面的綜合優(yōu)勢,已經(jīng)替代玻璃和金屬成為第三代空間反射鏡坯體材料的主要代表。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明主要針對(duì)空間光學(xué)系統(tǒng),提供一種泡沫硅反射鏡及其制備方法。Si的密度為2.33,熱導(dǎo)率為130,彈性模量達(dá)到155GPa,室溫至1000℃的熱膨脹系數(shù)僅為3.1,而且比SiC更易加工,是一種適合于制作反射鏡的優(yōu)異材料。
一種泡沫硅反射鏡,其特征在于包括泡沫硅胚體和附著在胚體表面的致密Si涂層。所述的泡沫硅胚體是一種以碳泡沫為基底,表面附著有Si薄膜的開孔泡沫,其中,Si薄膜的厚度為50nm~2μm。泡沫內(nèi)部呈現(xiàn)出三維網(wǎng)狀結(jié)構(gòu),由大小不一的不規(guī)則孔洞交錯(cuò)連接而成,具有大的比表面積,可填充固、液、氣態(tài)的多種物質(zhì)。在胚體表面附著有致密的Si涂層,涂層厚度為0.5~3mm。
上述反射鏡的鏡面可以是平面的,也可以是曲面的。
一種泡沫硅反射鏡的制備方法,其特征在于包括下述順序的步驟:
(1)將聚氨酯泡沫熱解,制作碳泡沫;
(2)將制得的碳泡沫加工一面或多面成需要的鏡面結(jié)構(gòu);
(3)制備Si薄膜:將加工過的碳泡沫放入CVI爐中,通入SiCl4和H2,控制溫度和時(shí)間,在開孔泡沫內(nèi)壁附著一定厚度的Si薄膜,最終得到泡沫硅;
(4)表面Si涂層的制備:從CVI爐中取出泡沫硅,放入硅化爐中,通入H2和SiCl4,SiCl4在1100~1300℃下高溫分解出Si,分解出的Si晶粒沉積在泡沫硅表面,沉積時(shí)間為4~20小時(shí),最終在泡沫硅表面附著一層致密的Si涂層;
(5)將表面附著有致密涂層的泡沫硅從硅化爐中取出,用金剛石精加工成所需要的鏡面,最終得到一種泡沫硅發(fā)射鏡。
根據(jù)上述的制備方法,碳泡沫是通過聚氨酯泡沫加熱碳化得到,具體的工藝過程分兩步進(jìn)行:先在空氣中、200~255℃下將聚氨酯泡沫加熱;接著在惰性氣氛中、700~900℃下碳化。
本發(fā)明的主要優(yōu)點(diǎn)是:①泡沫硅結(jié)構(gòu)提供高的比強(qiáng)度、熱導(dǎo)率和很輕的質(zhì)量,在維持一個(gè)相當(dāng)?shù)兔婷芏鹊耐瑫r(shí),能夠使反射鏡的光學(xué)性能超過當(dāng)前的玻璃、陶瓷和金屬的發(fā)射鏡;②表面Si涂層完全致密,各向同性,容易精密加工成光滑的鏡面,提供高的反射率;③該反射鏡結(jié)構(gòu)簡單,制備方便,不需要復(fù)雜的定位系統(tǒng),降低了成本費(fèi)用;④多孔的泡沫結(jié)構(gòu)能夠吸收能量、緩沖變形,使得該反射鏡具有優(yōu)異的熱穩(wěn)定性和最小的變形失真。
具體實(shí)施方式
下面結(jié)合具體實(shí)施例,進(jìn)一步闡明本發(fā)明,應(yīng)理解這些實(shí)施例僅用于說明本發(fā)明而不用于限制本發(fā)明的范圍,在閱讀了本發(fā)明之后,本領(lǐng)域技術(shù)人員對(duì)本發(fā)明的各種等價(jià)形式的修改均落于本申請(qǐng)所附權(quán)利要求所限定。
實(shí)施例1
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