[發(fā)明專利]圖像形成設(shè)備和曝光裝置

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201310403404.0
• 申請(qǐng)日: 2013-09-06
• 公開（公告）號(hào): CN103995448A
• 公開（公告）日: 2014-08-20
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 小林孝彥
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 富士施樂(lè)株式會(huì)社
• 主分類號(hào): G03G15/04
• 分類號(hào): G03G15/04
• 代理公司: 北京三友知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11127
• 代理人: 黨曉林;王小東

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及圖像形成設(shè)備和曝光裝置。

背景技術(shù)

為了便于更換打印頭同時(shí)維持多個(gè)光源的位置精度，已經(jīng)提出了這樣一種圖像形成設(shè)備，其中諸如引導(dǎo)桿之類的構(gòu)件通過(guò)第一支架和第二支架沿著其中多個(gè)LED打印頭（下文稱為L(zhǎng)PH）由第一支架引導(dǎo)件和第二支架引導(dǎo)件引導(dǎo)的方向移動(dòng)這多個(gè)LPH，從而將多個(gè)LPH引導(dǎo)到多個(gè)LPH與感光體相鄰的使用位置或引導(dǎo)到多個(gè)LPH從感光體退回的退回位置。在該圖像形成設(shè)備中，當(dāng)要更換LPH時(shí)，將位于使用位置的LPH共同移動(dòng)到退回位置，然后從設(shè)備移除（參見日本未審專利申請(qǐng)公報(bào)No.2006-263985）。

同時(shí)，為了提供一種省卻用于將LPH從感光體退回的任何具體用戶操作的曝光單元移動(dòng)機(jī)構(gòu)和包括該曝光單元移動(dòng)機(jī)構(gòu)的圖像形成設(shè)備，已經(jīng)提出這樣一種圖像形成設(shè)備，該圖像形成設(shè)備包括固定至設(shè)備本體的托架引導(dǎo)構(gòu)件、由該托架引導(dǎo)構(gòu)件支撐的曝光單元和包括感光體并可插入該托架引導(dǎo)構(gòu)件和從該托架引導(dǎo)構(gòu)件移除的托架。當(dāng)將托架附裝至設(shè)備本體時(shí)，朝向托架移動(dòng)曝光單元，而當(dāng)將托架從設(shè)備本體移除時(shí)，將曝光單元遠(yuǎn)離托架移動(dòng)（參見日本未審專利申請(qǐng)公報(bào)No.2008－286967）。

如果圖像形成設(shè)備具有其中當(dāng)將圖像載體沿其軸線方向插入時(shí)朝向圖像載體移動(dòng)曝光單元的構(gòu)造，則該圖像形成設(shè)備需要在沿曝光單元的光軸方向與圖像載體相反的一側(cè)具有供曝光單元退入的空間。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的是減小由曝光單元占用的這種空間的尺寸。

根據(jù)本發(fā)明的第一方面，一種圖像形成設(shè)備包括：旋轉(zhuǎn)的圖像載體；以及曝光單元，該曝光單元包括多個(gè)光發(fā)射器、保持單元和第一接觸部，所述多個(gè)光發(fā)射器沿著所述圖像載體的旋轉(zhuǎn)軸線方向布置，所述保持單元保持所述多個(gè)光發(fā)射器，所述第一接觸部在所述保持單元上定位成將所述多個(gè)光發(fā)射器夾設(shè)在這些第一接觸部之間，所述曝光單元將所述圖像載體暴露于光。在所述圖像載體被安裝在設(shè)備本體上時(shí)，所述曝光單元由于所述第一接觸部與所述圖像載體接觸而沿所述曝光單元的光軸方向遠(yuǎn)離所述圖像載體移動(dòng)，并且所述曝光單元和所述圖像載體由于所述第一接觸部與所述圖像載體的接觸而被定位。

根據(jù)本發(fā)明的第二方面的圖像形成設(shè)備還包括擠壓?jiǎn)卧摂D壓?jiǎn)卧厮龉廨S方向擠壓所述曝光單元，其中，所述保持單元包括與所述設(shè)備本體接觸的第二接觸部，并且其中，當(dāng)所述第一接觸部不與所述圖像載體接觸時(shí)，所述曝光單元沿所述光軸方向的運(yùn)動(dòng)被與所述設(shè)備本體接觸的所述第二接觸部限制，而當(dāng)所述第一接觸部與所述圖像載體接觸時(shí)，所述第二接觸部和所述設(shè)備本體不再彼此接觸并且所述曝光單元相對(duì)于所述圖像載體被定位。

在根據(jù)本發(fā)明的第三方面的圖像形成設(shè)備中，所述第一接觸部沿所述曝光單元的所述光軸方向突出并且是形成為將所述多個(gè)光發(fā)射器夾設(shè)在其間的至少兩個(gè)第一接觸部，并且所述至少兩個(gè)第一接觸部中的位于所述圖像載體的插入方向的下游側(cè)的那個(gè)第一接觸部比所述至少兩個(gè)第一接觸部中的位于所述圖像載體的所述插入方向的上游側(cè)的另一個(gè)第一接觸部突出更大的程度。

在根據(jù)本發(fā)明的第四方面的圖像形成設(shè)備中，所述曝光單元包括第二接觸部，該第二接觸部位于所述圖像載體的沿所述圖像載體的旋轉(zhuǎn)軸線方向的中央部，該第二接觸部與所述設(shè)備本體接觸，并且能沿所述曝光單元的光軸方向和與所述圖像載體的旋轉(zhuǎn)軸線方向交叉的方向移動(dòng)。

根據(jù)本發(fā)明的第五方面的曝光裝置包括：曝光構(gòu)件，該曝光構(gòu)件包括沿著旋轉(zhuǎn)的圖像載體的旋轉(zhuǎn)軸線方向布置的多個(gè)光發(fā)射器，所述曝光構(gòu)件使所述圖像載體暴露于光；支撐件，該支撐件支撐所述圖像載體和所述曝光構(gòu)件；以及引導(dǎo)部，該引導(dǎo)部在所述曝光構(gòu)件上形成在如下位置，使得該引導(dǎo)部突出到在所述圖像載體的旋轉(zhuǎn)軸線方向上將所述圖像載體插入所述支撐件中所沿的路徑中，所述引導(dǎo)部由于被所述圖像載體擠壓而使由所述支撐件支撐的所述曝光構(gòu)件沿所述曝光構(gòu)件的光軸方向移動(dòng)，以將所述曝光構(gòu)件引導(dǎo)到預(yù)定位置。

根據(jù)第一方面，與在沿著軸線方向插入圖像載體時(shí)曝光單元朝向圖像載體移動(dòng)的構(gòu)造相比，減小了設(shè)備中的被曝光單元占用的空間。

根據(jù)第二方面，當(dāng)曝光單元通過(guò)利用第一接觸部而被定位時(shí)，可以防止第二接觸部接觸設(shè)備本體而降低定位精度。

根據(jù)第三方面，與圖像形成設(shè)備不具有該構(gòu)造的情況相比，當(dāng)開始插入圖像載體時(shí)曝光單元不太可能被損壞。

根據(jù)第四方面，曝光單元沿曝光單元的光軸方向和與圖像載體的旋轉(zhuǎn)軸線方向交叉的方向的運(yùn)動(dòng)受到限制，并且同時(shí)防止了曝光單元彎曲。

根據(jù)第五方面，通過(guò)沿著軸線方向插入圖像載體而確定曝光單元相對(duì)于圖像載體的位置。