[發明專利]圖像形成設備和曝光裝置在審
| 申請號: | 201310403404.0 | 申請日: | 2013-09-06 |
| 公開(公告)號: | CN103995448A | 公開(公告)日: | 2014-08-20 |
| 發明(設計)人: | 小林孝彥 | 申請(專利權)人: | 富士施樂株式會社 |
| 主分類號: | G03G15/04 | 分類號: | G03G15/04 |
| 代理公司: | 北京三友知識產權代理有限公司 11127 | 代理人: | 黨曉林;王小東 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 圖像 形成 設備 曝光 裝置 | ||
1.一種圖像形成設備,該圖像形成設備包括:
旋轉的圖像載體;以及
曝光單元,該曝光單元包括多個光發射器、保持單元和第一接觸部,所述多個光發射器沿著所述圖像載體的旋轉軸線方向布置,所述保持單元保持所述多個光發射器,所述第一接觸部在所述保持單元上定位成將所述多個光發射器夾設在這些第一接觸部之間,所述曝光單元將所述圖像載體暴露于光,
其中,在所述圖像載體被安裝在設備本體上時,所述曝光單元由于所述第一接觸部與所述圖像載體接觸而沿所述曝光單元的光軸方向遠離所述圖像載體移動,并且所述曝光單元和所述圖像載體由于所述第一接觸部與所述圖像載體的接觸而被定位。
2.根據權利要求1所述的圖像形成設備,該圖像形成設備還包括擠壓單元,該擠壓單元沿所述光軸方向擠壓所述曝光單元,
其中,所述保持單元包括與所述設備本體接觸的第二接觸部,并且
其中,當所述第一接觸部不與所述圖像載體接觸時,所述曝光單元沿所述光軸方向的運動被與所述設備本體接觸的所述第二接觸部限制,而當所述第一接觸部與所述圖像載體接觸時,所述第二接觸部和所述設備本體不再彼此接觸并且所述曝光單元相對于所述圖像載體被定位。
3.根據權利要求1所述的圖像形成設備,
其中,所述第一接觸部沿所述曝光單元的所述光軸方向突出并且是形成為將所述多個光發射器夾設在其間的至少兩個第一接觸部,并且
其中,所述至少兩個第一接觸部中的位于所述圖像載體的插入方向的下游側的那個第一接觸部比所述至少兩個第一接觸部中的位于所述圖像載體的所述插入方向的上游側的另一個第一接觸部突出更大的程度。
4.根據權利要求1所述的圖像形成設備,其中,所述曝光單元包括第二接觸部,該第二接觸部位于所述圖像載體的沿所述圖像載體的旋轉軸線方向的中央部,該第二接觸部與所述設備本體接觸,并且能沿所述曝光單元的光軸方向和與所述圖像載體的旋轉軸線方向交叉的方向移動。
5.一種曝光裝置,該曝光裝置包括:
曝光構件,該曝光構件包括沿著旋轉的圖像載體的旋轉軸線方向布置的多個光發射器,所述曝光構件使所述圖像載體暴露于光;
支撐件,該支撐件支撐所述圖像載體和所述曝光構件;以及
引導部,該引導部在所述曝光構件上形成在如下位置,使得該引導部突出到在所述圖像載體的旋轉軸線方向上將所述圖像載體插入所述支撐件中所沿的路徑中,所述引導部由于被所述圖像載體擠壓而使由所述支撐件支撐的所述曝光構件沿所述曝光構件的光軸方向移動,以將所述曝光構件引導到預定位置。
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