[發(fā)明專利]具有過濾器的容器在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201310399699.9 | 申請(qǐng)日: | 2013-05-27 |
| 公開(公告)號(hào): | CN103480208A | 公開(公告)日: | 2014-01-01 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | C·M·伯特徹;T·A·斯特德爾;雷新建;S·V·伊瓦諾夫 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 氣體產(chǎn)品與化學(xué)公司 |
| 主分類號(hào): | B01D46/00 | 分類號(hào): | B01D46/00;B01D46/24 |
| 代理公司: | 北京市金杜律師事務(wù)所 11256 | 代理人: | 吳亦華 |
| 地址: | 美國賓夕*** | 國省代碼: | 美國;US |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 具有 過濾器 容器 | ||
相關(guān)申請(qǐng)的交叉引用
本申請(qǐng)要求2012年5月27日提交的美國臨時(shí)系列號(hào)61/652236,以及2013年2月14日提交的美國臨時(shí)系列號(hào)61/764851的優(yōu)先權(quán)和權(quán)益,所述文獻(xiàn)以其全部通過引用并入本文。
發(fā)明背景
沉積方法例如化學(xué)氣相沉積(CVD)和原子層沉積(ALD)方法用于半導(dǎo)體器件制造過程的一個(gè)或多個(gè)步驟中,從而在基體的表面形成一個(gè)或多個(gè)薄膜或涂層。在典型的CVD或ALD方法中,將可以以固相和/或液相存在的前體源輸送到反應(yīng)室中,該反應(yīng)室具有包含于其中的一個(gè)或多個(gè)基體,其中所述前體在特定條件如溫度或壓力下反應(yīng)從而在基體表面形成涂層或薄膜。
當(dāng)固體前體用于CVD或ALD方法中時(shí),前體材料通常會(huì)在單獨(dú)的腔室,例如爐中被加熱到足以形成氣體的溫度,然后所述氣體通常與載氣結(jié)合,被輸送到反應(yīng)腔中。在一些情況中,所述固體前體材料被加熱到其氣相,而不形成中間的液相。固體前體材料蒸發(fā)的困難在于產(chǎn)生和運(yùn)送含前體的蒸氣至反應(yīng)室。通常遇到的困難包括但不局限于,在容器、蒸發(fā)器和/或傳輸線路中的沉積累積;在容器、蒸發(fā)器和/或傳輸線路中的液相或固相材料的凝結(jié);在容器內(nèi)部形成“冷點(diǎn)”;以及與下游反應(yīng)室不一致的蒸氣流。這些困難可能導(dǎo)致生產(chǎn)設(shè)備“停機(jī)時(shí)間”延長,以去除液體或顆粒物,以及可能生產(chǎn)出質(zhì)量相對(duì)較差的沉積薄膜。
發(fā)明內(nèi)容
本文描述了一種容器,用于從所述容器內(nèi)含有的前體材料傳輸含前體的流體流,所述容器包括:由頂、一個(gè)或多個(gè)側(cè)壁及底限定的內(nèi)部體積;和至少一個(gè)用于氣化的前體的流體出口,和至少一個(gè)顆粒屏障,所述至少一個(gè)顆粒屏障限定了在內(nèi)部體積中的至少一個(gè)顆粒限制空間的至少部分,其中所述至少一個(gè)顆粒屏障包括至少一個(gè)三維過濾器。
在一個(gè)實(shí)施方式中,上述容器進(jìn)一步包括至少一個(gè)顆粒限制空間,其與所述至少一個(gè)出口流體連通,并且與部分內(nèi)部體積以顆粒限定的流體連通,所述部分內(nèi)部體積不包括與所述至少一個(gè)出口流體連通的所述至少一個(gè)顆粒限制空間。
另一個(gè)實(shí)施方式是上述實(shí)施方式中任一個(gè)所述的容器,其進(jìn)一步包括至少一個(gè)入口,所述入口將至少一種載氣導(dǎo)入容器的內(nèi)部體積。
進(jìn)一步的實(shí)施方式為上述實(shí)施方式中的任一個(gè)所述的容器,其中所述至少一個(gè)顆粒限制空間與所述至少一個(gè)入口流體連通,并且所述至少一個(gè)顆粒限制空間與部分內(nèi)部體積以顆粒限制的流體連通,所述部分內(nèi)部體積不包括與所述至少一個(gè)入口流體連通的所述至少一個(gè)顆粒限制空間。
另一個(gè)實(shí)施方式是上述實(shí)施方式中的任一個(gè)所述的容器,其中所述至少一個(gè)顆粒限制空間包括至少一個(gè)第一顆粒限制空間和至少一個(gè)第二顆粒限制空間,所述至少一個(gè)第一和至少一個(gè)第二顆粒限制空間的每一個(gè)都包括至少一個(gè)過濾器,其中所述至少一個(gè)第一顆粒限制空間與所述至少一個(gè)流體出口流體連通,且所述至少一個(gè)第二顆粒限制空間與所述至少一個(gè)流體入口流體連通,和所述至少一個(gè)第一和第二顆粒限制空間與所述部分內(nèi)部體積以顆粒限制的流體連通,所述部分內(nèi)部體積不包括所述至少一個(gè)第一和第二顆粒限制空間。
在前述實(shí)施方式的任一個(gè)或可替代的實(shí)施方式中,第二顆粒屏障可以包括至少一個(gè)二維過濾器或至少一個(gè)三維過濾器。在任一實(shí)施方式中,所述至少一個(gè)顆粒屏障可以與以下的一個(gè)或多個(gè)連接:延伸進(jìn)入內(nèi)部體積的入口管、延伸進(jìn)入內(nèi)部體積的出口管、一個(gè)或多個(gè)側(cè)壁、頂或底。在任一實(shí)施方式中,頂可以為蓋,且至少一個(gè)入口和至少一個(gè)出口可以穿過所述蓋。在任一實(shí)施方式中,過濾器具有選自以下的形狀:管狀、杯狀、波紋管狀(bellows)、立方體狀、圓錐體、曲棍球形(hockey?puck)和環(huán)管形。在本文所述的任一實(shí)施方式中,所述至少一個(gè)過濾器可以具有大于20平方英寸或本文另外描述的表面積,和/或大于或等于0.25英寸-1或本文另外描述的體積設(shè)計(jì)因子(Volume?Design?Factor),和/或在容器中的至少一個(gè)過濾器具有大于0.8英寸或本文另外描述的表面積設(shè)計(jì)因子(Surface?Area?Design?Factor)。進(jìn)一步在任一實(shí)施方式中,所述容器可能包括多個(gè)所述入口和/或出口,所述入口和/或出口的每一個(gè)可以具有在其上的顆粒屏障。在任一所述容器中的至少一個(gè)顆粒屏障可以進(jìn)一步包括一個(gè)或多個(gè)支撐物(例如在一個(gè)或多個(gè)用于構(gòu)造顆粒屏障的過濾器之間)以及任選的附接部件,例如支架、扣件、螺釘、螺栓,和/或焊接點(diǎn)。
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