[發(fā)明專利]一種抗藍光鏡片的制作方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201310397012.8
• 申請日: 2013-09-04
• 公開（公告）號: CN103439760A
• 公開（公告）日: 2013-12-11
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 吳天恕;簡志仰;陳坤煌
• 申請（專利權(quán)）人: 杏暉光學（廈門）有限公司
• 主分類號: G02B1/10
• 分類號: G02B1/10;G02C7/10
• 代理公司: 廈門市誠得知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 35209
• 代理人: 何家富

1.一種抗藍光鏡片的制作方法，在鏡片基片的正、反兩個表面分別依次進行真空蒸鍍，正面由內(nèi)向外共五層，分別是：第一層的氧化硅層，第二層的五氧化三鈦層，第三層的二氧化硅層，第四層的五氧化三鈦層，第五層的二氧化硅層；反面由內(nèi)向外共三層，分別是：第一層的氧化硅層，第二層的二氧化鋯層，第三層的二氧化硅層；具體的，

鏡片基片的正面的第一層的氧化硅層的鍍膜作業(yè)具體是：設(shè)定真空鍍膜機以時間控制方式進行鍍膜，設(shè)定設(shè)備作業(yè)條件是：時長設(shè)為30秒，抵抗加熱的電流設(shè)為125安培，充氧量設(shè)為0，爐腔內(nèi)真空系數(shù)設(shè)為1.0×10^-4Torr；

鏡片基片的正面的第二層的五氧化三鈦層的鍍膜作業(yè)具體是：設(shè)定真空鍍膜機以光學膜厚監(jiān)控方式進行鍍膜，設(shè)定設(shè)備作業(yè)條件是：反射波長設(shè)為435納米，監(jiān)控膜厚設(shè)為0.95QWOT，電子槍的電流設(shè)為409安培，充氧量設(shè)為27sccm，爐腔內(nèi)真空系數(shù)設(shè)為1.0×10^-4Torr；

鏡片基片的正面的第三層的二氧化硅層的鍍膜作業(yè)具體是：設(shè)定真空鍍膜機以光學膜厚監(jiān)控方式進行鍍膜，設(shè)定設(shè)備作業(yè)條件是：反射波長設(shè)為435納米，監(jiān)控膜厚設(shè)為1.00QWOT，電子槍的電流設(shè)為150安培，充氧量設(shè)為0，爐腔內(nèi)真空系數(shù)設(shè)為1.0×10^-4Torr；

鏡片基片的正面的第四層的五氧化三鈦層的鍍膜作業(yè)具體是：設(shè)定真空鍍膜機以光學膜厚監(jiān)控方式進行鍍膜，設(shè)定設(shè)備作業(yè)條件是：反射波長設(shè)為435納米，監(jiān)控膜厚設(shè)為0.90QWOT，電子槍的電流設(shè)為409安培，充氧量設(shè)為28sccm，爐腔內(nèi)真空系數(shù)設(shè)為1.0×10^-4Torr；

鏡片基片的正面的第五層的二氧化硅層的鍍膜作業(yè)具體是：設(shè)定真空鍍膜機以光學膜厚監(jiān)控方式進行鍍膜，設(shè)定設(shè)備作業(yè)條件是：反射波長設(shè)為435納米，監(jiān)控膜厚設(shè)為1.80QWOT，電子槍的電流設(shè)為150安培，充氧量設(shè)為0，爐腔內(nèi)真空系數(shù)設(shè)為1.0×10^-4Torr；

鏡片基片的反面的第一層的氧化硅層的鍍膜作業(yè)具體是：設(shè)定真空鍍膜機以時間控制方式進行鍍膜，設(shè)定設(shè)備作業(yè)條件是：時長設(shè)為30秒，抵抗加熱的電流設(shè)為125安培，充氧量設(shè)為0，爐腔內(nèi)真空系數(shù)設(shè)為1.0×10^-4Torr；

鏡片基片的反面的第二層的二氧化鋯層的鍍膜作業(yè)具體是：設(shè)定真空鍍膜機以光學膜厚監(jiān)控方式進行鍍膜，設(shè)定設(shè)備作業(yè)條件是：反射波長設(shè)為610納米，監(jiān)控膜厚設(shè)為0.60QWOT，電子槍的電流設(shè)為180安培，爐腔內(nèi)真空系數(shù)設(shè)為1.0×10^-4Torr；

鏡片基片的反面的第三層的二氧化硅層的鍍膜作業(yè)具體是：設(shè)定真空鍍膜機以光學膜厚監(jiān)控方式進行鍍膜，設(shè)定設(shè)備作業(yè)條件是：反射波長設(shè)為610納米，監(jiān)控膜厚設(shè)為1.65QWOT，電子槍的電流設(shè)為150安培，充氧量設(shè)為0，爐腔內(nèi)真空系數(shù)設(shè)為1.0×10^-4Torr。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的抗藍光鏡片的制作方法，其特征在于：該真空鍍膜機是祥洲真空機器（股份）公司、龍翩實業(yè)有限公司生產(chǎn)的型號為LP-1200EBA的真空鍍膜機。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的抗藍光鏡片的制作方法，其特征在于：鏡片基片的正、反面的第一層的氧化硅層的蒸鍍采用抵抗加熱法實現(xiàn)，鏡片基片的正面的第二層的五氧化三鈦層、第三層的二氧化硅層、第四層的五氧化三鈦層、第五層的二氧化硅層和鏡片基片的反面的第二層的二氧化鋯層、第三層的二氧化硅層的蒸鍍采用采用EB電子槍法實現(xiàn)。