[發明專利]一種抗藍光鏡片的制作方法

有效

• 申請號: 201310397012.8
• 申請日: 2013-09-04
• 公開（公告）號: CN103439760A
• 公開（公告）日: 2013-12-11
• 發明（設計）人: 吳天恕;簡志仰;陳坤煌
• 申請（專利權）人: 杏暉光學（廈門）有限公司
• 主分類號: G02B1/10
• 分類號: G02B1/10;G02C7/10
• 代理公司: 廈門市誠得知識產權代理事務所(普通合伙) 35209
• 代理人: 何家富

技術領域

本發明涉及光學鏡片的制作方法，尤其涉及抗藍光鏡片的制作方法。

背景技術

藍光容易對眼睛造成傷害，尤其會加速視網膜黃斑區的細胞氧化，如果黃斑區長期接觸藍光，甚至會損傷視覺細胞，會增加年老時眼睛出現黃斑病變的風險，這種現象稱之為藍光傷害（blue?light?hazard）。為了避免藍光傷害，具有部分濾除藍光波段的光學鏡片被發明，此光學鏡片又稱為抗藍光鏡片。

現有的抗藍光鏡片有利用在鏡片材料中加入色粉制成的抗藍光鏡片，如CN101813832A專利所揭示的抗藍光茶色太陽鏡片，還有利用在鏡片表層鍍膜制成的抗藍光鏡片，如CN1564052專利所揭示的防藍光傷害保健眼鏡片。然而現有技術中缺少衰減380nm~500nm波長光（主要是藍光部分）50%左右（50%±3%）的抗藍光鏡片，衰減藍光50%的抗藍光鏡片可在一些場合應用，具有一定商業用途。

發明內容

本發明的目的是提出一種衰減380nm~500nm波長光（主要是藍光部分）50%左右（50%±3%）的抗藍光鏡片的制作方法。

本發明具體采用如下技術方案實現：

一種抗藍光鏡片的制作方法，在鏡片基片的正、反兩個表面分別依次進行真空蒸鍍，正面由內向外共五層，分別是：第一層的氧化硅層，第二層的五氧化三鈦層，第三層的二氧化硅層，第四層的五氧化三鈦層，第五層的二氧化硅層；反面由內向外共三層，分別是：第一層的氧化硅層，第二層的二氧化鋯層，第三層的二氧化硅層；具體的，

鏡片基片的正面的第一層的氧化硅層的鍍膜作業具體是：設定真空鍍膜機以時間控制方式進行鍍膜，設定設備作業條件是：時長設為30秒，抵抗加熱的電流設為125安培，充氧量設為0，爐腔內真空系數設為1.0×10^-4Torr；

鏡片基片的正面的第二層的五氧化三鈦層的鍍膜作業具體是：設定真空鍍膜機以光學膜厚監控方式進行鍍膜，設定設備作業條件是：反射波長設為435納米，監控膜厚設為0.95QWOT，電子槍的電流設為409安培，充氧量設為27sccm，爐腔內真空系數設為1.0×10^-4Torr；

鏡片基片的正面的第三層的二氧化硅層的鍍膜作業具體是：設定真空鍍膜機以光學膜厚監控方式進行鍍膜，設定設備作業條件是：反射波長設為435納米，監控膜厚設為1.00QWOT，電子槍的電流設為150安培，充氧量設為0，爐腔內真空系數設為1.0×10^-4Torr；

鏡片基片的正面的第四層的五氧化三鈦層的鍍膜作業具體是：設定真空鍍膜機以光學膜厚監控方式進行鍍膜，設定設備作業條件是：反射波長設為435納米，監控膜厚設為0.90QWOT，電子槍的電流設為409安培，充氧量設為28sccm，爐腔內真空系數設為1.0×10^-4Torr；

鏡片基片的正面的第五層的二氧化硅層的鍍膜作業具體是：設定真空鍍膜機以光學膜厚監控方式進行鍍膜，設定設備作業條件是：反射波長設為435納米，監控膜厚設為1.80QWOT，電子槍的電流設為150安培，充氧量設為0，爐腔內真空系數設為1.0×10^-4Torr；

鏡片基片的反面的第一層的氧化硅層的鍍膜作業具體是：設定真空鍍膜機以時間控制方式進行鍍膜，設定設備作業條件是：時長設為30秒，抵抗加熱的電流設為125安培，充氧量設為0，爐腔內真空系數設為1.0×10^-4Torr；

鏡片基片的反面的第二層的二氧化鋯層的鍍膜作業具體是：設定真空鍍膜機以光學膜厚監控方式進行鍍膜，設定設備作業條件是：反射波長設為610納米，監控膜厚設為0.60QWOT，電子槍的電流設為180安培，爐腔內真空系數設為1.0×10^-4Torr；

鏡片基片的反面的第三層的二氧化硅層的鍍膜作業具體是：設定真空鍍膜機以光學膜厚監控方式進行鍍膜，設定設備作業條件是：反射波長設為610納米，監控膜厚設為1.65QWOT，電子槍的電流設為150安培，充氧量設為0，爐腔內真空系數設為1.0×10^-4Torr。

優選的，該真空鍍膜機是祥洲真空機器（股份）公司、龍翩實業有限公司生產的型號為LP-1200EBA的真空鍍膜機。